JP4462400B2 - 静電気保護半導体装置 - Google Patents
静電気保護半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4462400B2 JP4462400B2 JP2003091719A JP2003091719A JP4462400B2 JP 4462400 B2 JP4462400 B2 JP 4462400B2 JP 2003091719 A JP2003091719 A JP 2003091719A JP 2003091719 A JP2003091719 A JP 2003091719A JP 4462400 B2 JP4462400 B2 JP 4462400B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gate electrode
- contacts
- contact
- layer
- semiconductor device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
- Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置、特に半導体集積回路装置の入出力回路に設けられる静電気保護回路に有用な半導体装置に関する。
【0002】
【背景技術および発明が解決しようとする課題】
半導体集積回路装置の入出力回路に設けられる静電気保護回路では、MOSトランジスタなどの保護素子が、端子と電源ラインとの間に接続されている。前記電源ラインは電源電圧ライン(Vdd配線層)または接地電圧ライン(Vss配線層)であり、たとえば、静電気により高電圧パルスが前記端子に印加された場合、前記端子から前記保護素子を経由して前記電源ラインへと放電されることにより、内部回路が静電気から保護される。
【0003】
たとえば、MOSトランジスタを保護素子として用いる場合に、一のコンタクトで放電が集中して行なわれると、そのコンタクトは電荷の集中により破壊されやすいため、充分な静電保護を実現できないことがあった。すなわち、静電保護回路においては、電界の集中を防ぎ、より均一な放電が行なわれることが重要である。
【0004】
本発明の目的は、均一な放電が実現される構造を有し、静電保護特性の良好な半導体装置を提供することにある。
【0005】
【特許文献1】
特開2001−189429号公報
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明の半導体装置は、半導体層と、
前記半導体層内に形成された第1不純物層および第2不純物層と、
前記半導体層の上方に形成されたゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層の上方に形成されたゲート電極であって、第1方向に延在する主軸部と前記第1方向に直交する第2方向に延在する複数の分岐部とを有するゲート電極と、
前記ゲート電極の前記分岐部の相互間に形成され、前記第1不純物層に配置された複数の第1コンタクトと、
前記ゲート電極の前記主軸部に対して前記第1コンタクトと対向する位置に形成され、前記分岐部近傍を除く前記第2不純物層に配置された複数の第2コンタクトと、を含み、
対向する前記第1コンタクトと前記第2コンタクトとは、前記第2方向に延在する仮想直線上に配置される。
【0007】
本発明の半導体装置において、ゲート電極は、第1方向に延在する主軸部と第1方向に直交する第2方向に延在する分岐部を有する。第1コンタクトは、分岐部の相互間の第1不純物層側に形成される。第2コンタクトは、ゲート電極の主軸部に対して第1コンタクトと対向する位置に形成され、分岐部の近傍を除く第2不純物層側に形成される。分岐部の近傍とは、分岐部と隣り合う第2方向の領域(第2不純物層側)を示す。対向する位置にある第1コンタクトと、第2コンタクトとは、ゲート電極の主軸部に対し、第2方向に延在する仮想直線上に配置されていれば良い。さらに詳しくは、ゲート電極の主軸部と第1および第2コンタクトとの間隔は等しくても良くあるいは異なっても良い。本願の発明の効果を最も奏するのは、ゲート電極の主軸部と第1および第2コンタクトとの間隔が等間隔であることである。それにより、電界の集中をさけることができ放電を均一に行なうことができる。その結果、特性の良好な静電保護回路を含む半導体装置を提供することができる。
【0008】
本発明の半導体装置は、半導体層と、前記半導体層内に形成された第1不純物層および第2不純物層と、前記半導体層の上方に形成されたゲート絶縁層と、前記ゲート絶縁層の上方に形成されたゲート電極であって、第1方向に延在する主軸部と前記第1方向に直交する第2方向に延在する複数の分岐部とを有するゲート電極と、前記ゲート電極の前記分岐部の相互間に形成され、前記第1不純物層に配置された複数の第1コンタクトと、前記ゲート電極の前記主軸部に対して前記第1コンタクトと対向する位置に形成され、前記第2不純物層に配置された複数の第2コンタクトと、を含み、
対向する前記第1コンタクトと前記第2コンタクトとは、前記第2方向に延在する仮想直線上に配置され、前記ゲート電極の前記分岐部は前記主軸部に比べ線幅が太く、前記第2コンタクトは、前記第2方向において前記分岐部と隣り合う領域には形成されない。
【0009】
本発明の半導体装置によれば、分岐部の線幅が主軸部の線幅に比べ太いためドレイン(第2不純物層)−ソース(第1不純物層)間の抵抗が大きくなるので、分岐部近傍に第2コンタクトを形成した場合、分岐部近傍の第2コンタクトから第1コンタクトへの放電がされにくい。そのため第2コンタクトは、分岐部と隣り合う前記第2方向の領域(第2不純物層側)には形成されない。
【0010】
本発明は、さらに、下記の態様をとることができる。
【0011】
(A)本発明の半導体装置において、前記ゲート電極は、前記第2不純物層側において、平面的にみて、ほぼ直線をなす形状を有することができる。この態様によれば、ゲート電極は、第2不純物層側では平面的にみてほぼ直線をなす形状を有する。このように、ドレイン領域側のゲート電極の側面を直線状にすることで、ドレインジャンクションをスムーズに構成でき、静電破壊に至る電界集中の発生を防止できる。
【0012】
(B)本発明の半導体装置において、前記第1不純物層のコンタクトと前記第2不純物層のコンタクトとは同じ個数であることができる。この態様によれば、コンタクトの個数が同じであるため、より均一に放電を行なうことができる。
【0013】
(C)本発明の半導体装置において、前記ゲート電極の分岐部の上に設けられたコンタクトと、該ゲート電極に電位を供給するための金属配線層と、を含み、
前記ゲート電極は、前記コンタクトを介して電気的に接続されていることができる。この態様によれば、ゲート電極の分岐部にコンタクトを設け、金属配線層と電気的に接続していることにより、コンタクトを介してゲート電極に所定の電位を供給でき、ゲート抵抗を小さくできる。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態の一例について図1〜3を参照しながら説明する。
【0015】
1.半導体装置の構造
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置を模式的に示す平面図である。図2は、図1に示すA−A線に沿った断面図である。図3は、図1に示すB−B線に沿った断面図である。この半導体装置は、入出力回路の静電気保護回路を構成するMOSトランジスタを有し、サリサイドプロテクションによる静電気保護を図ったものである。図1は、単に半導体装置の一部を示し、1つのアクティブ領域において図1に示す構成を繰り返し有することができる。
【0016】
本実施の形態の半導体装置は、ドープトポリシリコンからなる第1および第2ゲート電極22,23を有する。
【0017】
ゲート電極22は、図2に示すように、ソース領域を構成する不純物層24側において、素子分離領域12を構成する絶縁層に延びた複数の分岐部22a,22b,22cを有し、ドレイン領域を構成する不純物層25側では、平面的に見て、ほぼ直線をなす形状をしている。ゲート電極22は、シリコン基板11上に形成されたゲート絶縁層21上に配置されている。分岐部22a、22b,22cには、それぞれコンタクト42,43,44が形成されている。さらに、ゲート電極22は、その各端部が素子分離領域12を構成する絶縁層上に配置され、ゲート電極22の各端部にはコンタクト41,45が形成されている。
【0018】
同様に、第2ゲート電極23は、図2に示すように、ソース領域を構成する不純物層26側において、素子分離領域12を構成する絶縁層に延びた複数の分岐部23a,23b,23cを有し、ドレイン領域を構成する不純物層25側では、平面的に見て、ほぼ直線をなす形状をしている。ゲート電極23は、シリコン基板11上に形成されたゲート絶縁層21上に配置されている。分岐部23a,23b,23cには、それぞれコンタクト47,48,49が形成されている。さらに、ゲート電極23は、その各端部が素子分離領域12を構成する絶縁層上に配置され、各端部にはコンタクト46,50が形成されている。
【0019】
ゲート電極22,23のそれぞれの両側のシリコン基板11には、ソース領域またはドレイン領域を構成する不純物層(以下、「ソース/ドレイン領域の不純物層」ともいう)24,25,26が形成されている。各々のソース/ドレイン領域の不純物層24,25,26上の一部の領域には、たとえばチタンシリサイド層などのシリサイド層33,34,35が形成されている。シリサイド層33,34,35は、図3に示すように、コンタクト51,52,53により配線層61,62,63と電気的に接続されている。この配線層は、ソース/ドレイン領域である不純物層24,25,26に電流を供給するためのものである。
【0020】
不純物層24側において、ゲート電極22の分岐部の相互間(本実施の形態では、分岐部22aと22bとの相互間および分岐部22bと22cとの相互間)には、複数のコンタクト51が設けられている。不純物層25側では、ゲート電極22の主軸部に対して、第2方向に延在する仮想直線上に対向してコンタクト51とコンタクト52が設けられている。すなわち、不純物層24のコンタクト51と、ゲート電極22を介して隣り合う不純物層25に設けられているコンタクト52とは、ゲート電極22を軸として第2方向に延在する仮想直線上に対向となるように設けられ、コンタクト51と、コンタクト52の個数も同数である。
【0021】
同様に、不純物層26側において、ゲート電極23の分岐部の相互間(本実施の形態では、分岐部23aと23bとの相互間および分岐部23bと23cとの相互間)には、複数のコンタクト53が設けられている。不純物層25側では、ゲート電極23の主軸部に対して、第2方向に延在する仮想直線上に対向してコンタクト53とコンタクト部52が設けられている。すなわち、不純物層26のコンタクト53と、ゲート電極23を介して隣り合う不純物層25に設けられているコンタクト52とは、ゲート電極23を軸として第2方向に延在する仮想直線上に対向となるように設けられ、コンタクト53と、コンタクト52の個数も同数である。
【0022】
シリサイド層33,34,35は、ソース/ドレイン領域である不純物層24,25,26上の一部、より具体的には、不純物層24,25,26上であってゲート電極22,23と離れた位置に形成されている。そのため、シリサイド層33,34,35が形成されている領域以外の不純物層24,25,26上、およびゲート電極22,23上には、サリサイドプロテクションとしての、酸化シリコン層,チッ化シリコン層などのプロテクト絶縁層31が配置されている。
【0023】
ゲート電極22では、所定の間隔をおいて配置されている分岐部22a,22b,22cにコンタクト42,43,44が設けられている。同様に、ゲート電極23では、所定の間隔をおいて配置されている分岐部23a,23b,23cにコンタクト47,48,49が設けられている。すなわち、ゲート電極22,23のコンタクトを所定の間隔をおいて設けられているため、ゲート電極により均等に所定の電位を印加できる。ゲート電極22は、コンタクト41〜45により第1金属配線層55と電気的に接続されている。同様に、第2ゲート電極23は、コンタクト46〜50により第2金属配線層57と電気的に接続されている。これらの金属配線層55,57は、ゲート電極22,23に電位を供給するためのものであり、ゲート電極への電流の供給経路を短くするために複数のコンタクトを介してゲート電極と接続されている。
【0024】
2.接続関係
図4は、本実施の形態にかかる半導体装置の保護回路を示す図である。図4を用いて、その接続関係について説明する。本実施の形態にかかる保護回路は、MOSトランジスタ200,202を含む。一方のMOSトランジスタ200のゲートおよびソースは、接地ラインVSSと電気的に接続されている。他方のMOSトランジスタ202のゲートおよびソースは、電源ラインVDDと電気的に接続されている。MOSトランジスタ200,202は、共通のドレインを有しており、パッド204からの配線はドレインと電気的に接続されている。図示はないが、図1のトランジスタを出力トランジスタとして使用する場合は、ゲートは接地ラインあるいは電源ラインには接続されず、半導体装置内部で生成された制御信号が接続される。
【0025】
3.半導体装置の製造方法
次に、上記半導体装置を製造する方法について図1,図2および図3を参照して説明する。
【0026】
(1)図2および図3に示すように、まず、シリコン基板11の表面上にLOCOS法あるいはトレンチアイソレーション法により素子分離領域12を形成する。ついで、シリコン基板11上に熱酸化法によりゲート絶縁層21を形成する。次に、このゲート絶縁層21上にドープトポリシリコンからなる所定のパターンを有するゲート電極22,23を形成する。ゲート電極22,23は、図1に参照されるように、分岐部22a〜c,23a〜cを有する。そして、ゲート電極22,23をマスクとしてイオン注入することにより、シリコン基板11に、たとえばLDD構造を構成する低濃度の不純物拡散層などのエクステンション層(図示せず)が形成される。このエクステンション層は、デバイスの構造によって必要に応じて形成される。
【0027】
(2)この後、ゲート電極22,23の両側壁に公知の方法によりサイドウォールスペーサ27を設ける。さらに、ゲート電極22,23およびサイドウォールスペーサ27をマスクとしてイオン注入することにより、シリコン基板11にソース/ドレイン領域である不純物層24,25,26が形成される。
【0028】
(3)次に、ゲート電極22,23およびソース/ドレイン領域の不純物層24,25,26を含む全面上に、CVD(Chemical Vapor Deposition)法によりプロテクト絶縁層のための絶縁層を堆積する。プロテクト絶縁層としては、酸化シリコン、窒化シリコンなどを用いることができる。この後、エッチング加工により所定領域に開口部が形成されて、プロテクト絶縁層31が形成される。開口部は、後述するシリサイド層33,34,35が形成される領域に形成される。次に、この開口部により露出したソース/ドレイン領域である不純物層24,25,26を含む全面に、チタン層などのシリサイド層のための金属層(図示せず)を堆積する。この後、熱処理を施すことにより、不純物層24,25,26の露出面にシリサイド層33,34,35が形成される。
【0029】
(4)この後、シリサイド層33,34,35を含む全面に層間絶縁層32を堆積し、層間絶縁層32およびプロテクト絶縁層31にコンタクトホールを設ける。次に、コンタクトホール内および層間絶縁層32上に所定パターンの金属層を堆積させて、コンタクト41〜45,46〜50および金属配線層55,57,61〜63を形成する。
【0030】
以上の工程で、本実施の形態にかかる半導体装置を形成できる。
【0031】
本実施の形態の半導体装置の利点を以下に述べる。
【0032】
(A)不純物層24のコンタクト51と、不純物層25のコンタクト52とは、ゲート電極22の主軸部に対して、第2方向に延在する仮想直線上に対向配置され、コンタクト51とコンタクト52の個数は同数である。たとえば、コンタクト51に対し、コンタクト52の対向する位置が第2方向に延在する仮想直線上を外れる場合や個数が揃わない構造をとる場合には、静電気を均一に放電することができない。しかし、本実施の形態の半導体装置では、そのような問題を起すことがない。すなわち、電界の集中をさけることができ放電を均一に行なうことができる。その結果、特性の良好な静電保護回路を含む半導体装置を提供することができる。
【0033】
(B)不純物層24,26に形成されるコンタクト51,53は、ゲート電極22,23の分岐部22a〜c,23a〜cの相互間にのみ設けられる。つまり、分岐部22a〜c,23a〜cに挟まれた領域にのみコンタクト51,53が形成されることとなる。そのため、コンタクト51,53の電界の状態をより均一にすることができる。その結果、電界の集中を防ぐことができる。
【0034】
(C)ゲート電極22,23は、ソース領域を構成する不純物層24,26側に分岐部を有し、不純物層25側では平面的にみてほぼ直線をなす形状を有する。そのため、ドレイン領域を構成する不純物層25側のゲート電極22,23の側面を直線状にすることで、ドレインジャンクションをスムーズに構成でき、静電破壊に至る電界集中の発生を防止できる。
【0035】
(D)また、本実施の形態では、ゲート電極上にシリサイド層を形成しないため、シリサイド層の大きさの変動によるゲート抵抗のばらつきが生じることがない。従って、トランジスタの相互でゲート抵抗を一定にすることが可能となり、トランジスタ特性のばらつきを少なくできる。
【0036】
本発明は、上記実施の形態に限定されず、本発明の範囲内で種々変更して実施することが可能である。たとえば、上記実施の形態では、半導体層としてシリコン基板を用いているが、これに限らず、SOI基板の半導体層を用いることも可能である。
【0037】
また、上記実施の形態では、ソース/ドレイン領域の不純物層上の一部の領域にシリサイド層を形成しているが、このようなシリサイド層は本発明の必須要件ではない。従って、本発明は、シリサイド層が形成されていないMOSトランジスタを有することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 第1の実施の形態にかかる半導体装置を模式的に示す平面図。
【図2】 図1に示す平面図のA‐A線に沿った断面図。
【図3】 図1に示す平面図のB‐B線に沿った断面図。
【図4】 本実施の形態の半導体装置にかかる静電保護回路を示す図。
【符号の説明】
11…シリコン基板、 12…素子分離領域、 21…ゲート絶縁層、 22,23…ゲート電極、 22a〜c,23a〜c…分岐部、 24,25,26…不純物層、 27…サイドウォールスペーサ、 31…プロテクト絶縁層、 32…層間絶縁層、33,34,35…シリサイド層、 42,43,44…コンタクト、 51,52,53…コンタクト、 55,57…金属配線層、 61,62,63…金属配線層、 200,202…MOSトランジスタ、 204…パッド
Claims (2)
- 半導体層と、
前記半導体層の上方に形成されたゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層の上方に形成されたゲート電極であって、第1の方向に延在する主軸部と、前記第1の方向に直交する第2の方向に延在する複数の分岐部と、を有する前記ゲート電極と、
前記半導体層内に形成され、ソース領域となる第1の不純物層の上であって、前記複数の分岐部の間に配置された複数の第1のコンタクトと、
前記ゲート電極の前記主軸部に対して前記複数の第1のコンタクトと対向する位置において、前記半導体層内に形成され、ドレイン領域となる第2の不純物層の上に配置された複数の第2のコンタクトと、を含み、
前記複数の第1のコンタクトのうち一つの第1のコンタクトと、前記複数の第2のコンタクトのうち、前記一つの第1のコンタクトに対して前記ゲート電極を挟んで対向する一つの第2のコンタクトとは、前記第2の方向に延在する仮想線上に対向配置され、
前記複数の第1のコンタクトと前記複数の第2のコンタクトとは同じ個数であり、
前記複数の第1のコンタクトおよび前記複数の第2のコンタクトのいずれも、前記複数の分岐部のうち、第1の方向において、最も端に位置する分岐部より外側には配置されておらず、
前記ゲート電極は、前記第2の不純物層側において、平面的にみて、ほぼ直線をなす形状を有し、
さらに、前記ゲート電極の前記分岐部の上に形成された第3のコンタクトと、該ゲート電極に電位を供給するための金属配線層と、を有し、前記ゲート電極は、前記第3のコンタクトを介して前記金属配線層と電気的に接続されている、静電気保護半導体装置。 - 請求項1において、
前記ゲート電極の前記分岐部は前記主軸部に比べて幅が大きい、静電気保護半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003091719A JP4462400B2 (ja) | 2003-03-28 | 2003-03-28 | 静電気保護半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003091719A JP4462400B2 (ja) | 2003-03-28 | 2003-03-28 | 静電気保護半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004303774A JP2004303774A (ja) | 2004-10-28 |
JP4462400B2 true JP4462400B2 (ja) | 2010-05-12 |
Family
ID=33405023
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003091719A Expired - Fee Related JP4462400B2 (ja) | 2003-03-28 | 2003-03-28 | 静電気保護半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4462400B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6364891B2 (ja) | 2014-04-01 | 2018-08-01 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置、電子機器および半導体装置 |
JP6610171B2 (ja) | 2015-11-02 | 2019-11-27 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶装置および電子機器 |
CN110289309B (zh) * | 2019-06-10 | 2021-04-27 | Tcl华星光电技术有限公司 | 薄膜晶体管及电路 |
-
2003
- 2003-03-28 JP JP2003091719A patent/JP4462400B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004303774A (ja) | 2004-10-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4845410B2 (ja) | 半導体装置 | |
US8354723B2 (en) | Electro-static discharge protection device, semiconductor device, and method for manufacturing electro-static discharge protection device | |
JP4783050B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
US7528041B2 (en) | Method of manufacturing semiconductor device that utilizes oxidation prevention film to form thick and thin gate insulator portions | |
US8110873B2 (en) | High voltage transistor | |
KR20070003787A (ko) | Soi 바디-접촉형 트랜지스터를 형성하기 위한 방법 및장치 | |
JP2001118997A (ja) | Soi構造を有する半導体素子及びその製造方法 | |
KR20110018841A (ko) | 반도체 장치 및 그 제조 방법 | |
US7964457B2 (en) | Semiconductor integrated circuit device and a manufacturing method for the same | |
US6638799B2 (en) | Method for manufacturing a semiconductor device having a silicon on insulator substrate | |
KR100407421B1 (ko) | Mis형전계효과트랜지스터를포함하는반도체장치및그제조방법 | |
US20070205465A1 (en) | Semiconductor device and fabrication method thereof | |
JP4462400B2 (ja) | 静電気保護半導体装置 | |
US6730971B2 (en) | Semiconductor devices and methods of fabricating the same | |
JP3731643B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP5155617B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
US20060220155A1 (en) | Semiconductor device | |
US20110269285A1 (en) | Field transistors for electrostatic discharge protection and methods for fabricating the same | |
JP3926964B2 (ja) | 半導体装置とその製造方法 | |
JP2826024B2 (ja) | Mos型トランジスタの製造方法 | |
JP2001028424A (ja) | 半導体装置とその製造方法 | |
US20100001352A1 (en) | Semiconductor device and method of manufacturing the same | |
KR100245814B1 (ko) | 정전기 보호 트랜지스터와 이를 가진 반도체장치의 제조방법 | |
CN116705840A (zh) | 半导体器件及其制造方法 | |
JP2001308297A (ja) | 半導体集積回路装置およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051025 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20051221 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071101 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090218 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090416 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090527 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090724 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091111 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091127 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100127 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130226 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4462400 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100209 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130226 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |