JP4458668B2 - トリス(オキシムエーテル)誘導体及び抗誘導物質を基礎とする殺菌剤混合物 - Google Patents
トリス(オキシムエーテル)誘導体及び抗誘導物質を基礎とする殺菌剤混合物 Download PDFInfo
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Description
本発明は、
a)式I:
【0002】
【化3】
[但し、
XがNOCH3、CHOCH3、CHCH3を表し;
YがO、NRを表し;
R1、Rが相互に独立して、それぞれ水素又はC1〜C4アルキルを表し;
R2がシアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、ハロゲン、C1〜C4アルキル又はC1〜C4アルコキシを表し;
mが0、1又は2を表し、mが2である場合、基R2は相互に異なっていても良く;
R3が水素、シアノ、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C3〜C6シクロアルキルを表し;
R4、R6が相互に独立して、それぞれ水素、
C1〜C10アルキル、C3〜C6シクロアルキル、C2〜C10アルケニル、C2〜C10アルキニル、C1〜C10アルキルカルボニル、C2〜C10アルケニルカルボニル、C3〜C10アルキニルカルボニル又はC1〜C10アルキルスルホニル{これらの基は部分的に若しくは完全にハロゲン化されていても、又は1〜3個の下記の基:シアノ、ニトロ、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、カルボキシル、アミノカルボニル、アミノチオカルボニル、ハロゲン、C1〜C6アルキル、C1〜C6ハロアルキル、C1〜C6アルキルスルホニル、C1〜C6アルキルスルホキシル、C1〜C6アルコキシ、C1〜C6ハロアルコキシ、C1〜C6アルコキシカルボニル、C1〜C6アルキルチオ、C1〜C6アルキルアミノ、ジ−C1〜C6アルキルアミノを有していても良い}、
C1〜C6アルキルアミノカルボニル、ジ−C1〜C6アルキルアミノカルボニル、C1〜C6アルキルアミノチオカルボニル、ジ−C1〜C6アルキルアミノチオカルボニル、C2〜C6アルケニル、C2〜C6アルケニルオキシ、C3〜C6シクロアルキル、C3〜C6シクロアルキルオキシ、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルオキシ、ベンジル、ベンジルオキシ、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、ヘテロアリール、ヘテロアリールオキシ及びヘテロアリールチオ{これらの環式基については、部分的に若しくは完全にハロゲン化されていても、又は1〜3個の下記の基:シアノ、ニトロ、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、カルボキシル、アミノカルボニル、アミノチオカルボニル、ハロゲン、C1〜C6アルキル、C1〜C6ハロアルキル、C1〜C6アルキルスルホニル、C1〜C6アルキルスルホキシル、C3〜C6シクロアルキル、C1〜C6アルコキシ、C1〜C6ハロアルコキシ、C1〜C6アルキルオキシカルボニル、C1〜C6アルキルチオ、C1〜C6アルキルアミノ、ジ−C1〜C6アルキルアミノ、C1〜C6アルキルアミノカルボニル、ジ−C1〜C6アルキルアミノカルボニル、C1〜C6アルキルアミノチオカルボニル、ジ−C1〜C6アルキルアミノチオカルボニル、C2〜C6アルケニル、C2〜C6アルケニルオキシ、ベンジル、ベンジルオキシ、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、ヘテロアリール、ヘテロアリールオキシ、ヘテロアリールチオ若しくはC(=NOR7)−An−R8を有していても良い}、
アリール、アリールカルボニル、アリールスルホニル、ヘテロアリール、ヘテロアリールカルボニル又はヘテロアリールスルホニル{これらの基は、部分的に若しくは完全にハロゲン化されていても、又は1〜3個の下記の基:シアノ、ニトロ、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、カルボキシル、アミノカルボニル、アミノチオカルボニル、ハロゲン、C1〜C6アルキル、C1〜C6ハロアルキル、C1〜C6アルキルカルボニル、C1〜C6アルキルスルホニル、C1〜C6アルキルスルホキシル、C3〜C6シクロアルキル、C1〜C6アルコキシ、C1〜C6ハロアルコキシ、C1〜C6アルキルオキシカルボニル、C1〜C6アルキルチオ、C1〜C6アルキルアミノ、ジ−C1〜C6アルキルアミノ、C1〜C6アルキルアミノカルボニル、ジ−C1〜C6アルキルアミノカルボニル、C1〜C6アルキルアミノチオカルボニル、ジ−C1〜C6アルキルアミノチオカルボニル、C2〜C6アルケニル、C2〜C6アルケニルオキシ、ベンジル、ベンジルオキシ、アリール、アリールオキシ、ヘテロアリール、ヘテロアリールオキシ若しくはC(=NOR7)−An−R8を有していても良い}を表し;
R5が水素、
C1〜C6アルキル、C2〜C6アルケニル、C2〜C6アルキニル{これら基の炭化水素基は、部分的に若しくは完全にハロゲン化されていても、又は1〜3個の下記の基:シアノ、ニトロ、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、カルボキシル、アミノカルボニル、アミノチオカルボニル、ハロゲン、C1〜C6アルキルアミノカルボニル、ジ−C1〜C6アルキルアミノカルボニル、C1〜C6アルキルアミノチオカルボニル、ジ−C1〜C6アルキルアミノチオカルボニル、C1〜C6アルキルスルホニル、C1〜C6アルキルスルホキシル、C1〜C6アルコキシ、C1〜C6ハロアルコキシ、C1〜C6アルコキシカルボニル、C1〜C6アルキルチオ、C1〜C6アルキルアミノ、ジ−C1〜C6アルキルアミノ、C2〜C6アルケニルオキシ、C3〜C6シクロアルキル、C3〜C6シクロアルキルオキシ、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルオキシ、アリール、アリールオキシ、アリール−C1〜C4アルコキシ、アリールチオ、アリール−C1〜C4アルキルチオ、ヘテロアリール、ヘテロアリールオキシ、ヘテロアリール−C1〜C4アルコキシ、ヘテロアリールチオ、ヘテロアリール−C1〜C4アルキルチオ(これらの環式基については、部分的に若しくは完全にハロゲン化されていても、及び/又は1〜3個の下記の基:シアノ、ニトロ、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、カルボキシル、アミノカルボニル、アミノチオカルボニル、C1〜C6アルキル、C1〜C6ハロアルキル、C1〜C6アルキルスルホニル、C1〜C6アルキルスルホキシル、C3〜C6シクロアルキル、C1〜C6アルコキシ、C1〜C6ハロアルコキシ、C1〜C6アルコキシカルボニル、C1〜C6アルキルチオ、C1〜C6アルキルアミノ、ジ−C1〜C6アルキルアミノ、C1〜C6アルキルアミノカルボニル、ジ−C1〜C6アルキルアミノカルボニル、C1〜C6アルキルアミノチオカルボニル、ジ−C1〜C6アルキルアミノチオカルボニル、C2〜C6アルケニル、C2〜C6アルケニルオキシ、ベンジル、ベンジルオキシ、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、ヘテロアリール、ヘテロアリールオキシ、ヘテロアリールチオ及びC(=NOR7)−An−R8を有していても良い)を有していても良い}、
C3〜C6シクロアルキル、C3〜C6シクロアルケニル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール{これらの環式基は、部分的に若しくは完全にハロゲン化されていても、又は1〜3個の下記の基:シアノ、ニトロ、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、カルボキシル、アミノカルボニル、アミノチオカルボニル、ハロゲン、C1〜C6アルキル、C1〜C6ハロアルキル、C1〜C6アルキルスルホニル、C1〜C6アルキルスルホキシル、C3〜C6シクロアルキル、C1〜C6アルコキシ、C1〜C6ハロアルコキシ、C1〜C6アルコキシカルボニル、C1〜C6アルキルチオ、C1〜C6アルキルアミノ、ジ−C1〜C6アルキルアミノ、C1〜C6アルキルアミノカルボニル、ジ−C1〜C6アルキルアミノカルボニル、C1〜C6アルキルアミノチオカルボニル、ジ−C1〜C6アルキルアミノチオカルボニル、C2〜C6アルケニル、C2〜C6アルケニルオキシ、ベンジル、ベンジルオキシ、アリール、アリールオキシ、ヘテロアリール及びヘテロアリールオキシを有していても良い}を表し;
Aが酸素、硫黄、又は水素若しくはC1〜C6アルキルを含んでいる窒素を表し;
nが0又は1を表し;
R7が水素又はC1〜C6アルキルを表し;そして
R8が水素又はC1〜C6アルキルを表す]
で表されるフェニル酢酸誘導体及びその塩、並びに
b)式II〜III:
【0003】
【化4】
で表される殺菌剤から選択される少なくとも1種の殺菌剤
を含む、有害菌類防除用殺菌剤混合物に関する。
【0004】
本発明の目的は、特にイネの菌類病に対して、単独で混合物の各成分の作用を上回る良好な殺菌作用を示す殺菌剤混合物を提供することにある。
【0005】
本発明者等は、本発明の目的が請求項1の混合物により達成されることを見出した。
【0006】
式Iで表される化合物は、それ自体公知であり、文献(WO97/15552)に開示されている。
【0007】
式II〜IIIで表される殺菌剤もまた公知であり、文献に開示されている。さらに、これらは以下に括弧書きにされている商品名で市販されている:
II:EP313512、提案名:アキベンゾラル(acibenzolar)(商品名:バイオン(登録商標)(BionR)、ノバルティス(Novartis)社製);
III:一般名:プロベナゾール(probenazole)(商品名:オリザメート(登録商標)(OryzamateR)、メイジセイカ社製)。
【0008】
化合物IのC=C及びC=N二重結合のために、化合物Iの製造によって、E/Z異性体混合物が得られる。この混合物は、慣用法、例えば結晶化又はクロマトグラフィー処理により個々の化合物に分離することができる。
【0009】
しかしながら、前記合成により異性体混合物が得られる場合、個々の異性体が、使用のための調製中、或いは使用時(例えば、光、酸又は塩基の作用下に)に相互に転化し得ることもあるので、一般に分離させることは必ずしも必要ではない。例えば、植物を処理する場合、処理される植物中或いは防除されるべき有害菌類又は有害動物内で、施与後に類似の転化を起こすことも可能である。
【0010】
C=X二重結合について、化合物Iの作用の点から、E異性体が好ましい(−CO2R1に関する−OCH3又は−CH3基に基づく立体配置)。
【0011】
−C(R3)=NOCH2−二重結合について、化合物Iの作用の点から、シス異性体が好ましい(−OCH2基に関する基R3に基づく立体配置)。
【0012】
冒頭に記載されている化合物Iの定義において、一般的に以下の基を表す共通の用語が使用された:
ハロゲン:フッ素、塩素、臭素及びヨウ素;
アルキル:1〜4個、1〜6個、又は1〜10個の炭素原子を有する直鎖又は分枝の炭化水素基、例えば以下のC1〜C6アルキル、即ちメチル、エチル、プロピル、1−メチルエチル、ブチル、1−メチルプロピル、2−メチルプロピル、1,1−ジメチルエチル、ペンチル、1−メチルブチル、2−メチルブチル、3−メチルブチル、2,2−ジメチルプロピル、1−エチルプロピル、ヘキシル、1,1−ジメチルプロピル、1,2−ジメチルプロピル、1−メチルペンチル、2−メチルペンチル、3−メチルペンチル、4−メチルペンチル、1,1−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、1,3−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチル、3,3−ジメチルブチル、1−エチルブチル、2−エチルブチル、1,1,2−トリメチルプロピル、1,2,2−トリメチルプロピル、1−エチル−1−メチルプロピル及び1−エチル−2−メチルプロピル;
【0013】
ハロアルキル:1〜6個の炭素原子を有する直鎖又は分枝のアルキル基であり、且つこれら基の水素原子の幾つか又は全ては、上述のハロゲン原子に置き換わっていても良く、このようなハロアルキルの例としては、例えば以下のC1〜C2ハロアルキル、即ち、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トルフルオロメチル、クロロフルオロメチル、ジクロロフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、1−フロオロエチル、2−フルオロエチル、2,2−ジフルオロエチル、2,2,2−トリフルオロエチル、2−クロロ−2−フルオロエチル、2−クロロ−2,2−ジフルオロエチル、2,2−ジクロロ−2−フロオロエチル、2,2,2−トリクロロエチル及びペンタフルオロエチル;
シクロアルキル:3〜6炭素環員の単環のアルキル基、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル及びシクロヘキシル;
アルケニル:任意の位置に二重結合を有し、2〜6個又は2〜10個の炭素原子を有する直鎖又は分枝のアルケニル基であり、このようなアルケニルの例としては以下のC2〜C6アルケニル、即ちエテニル、1−プロペニル、2−プロペニル、1−メチルエテニル、1−ブテニル、2−ブテニル、3−ブテニル、1−メチル−1−プロペニル、2−メチル−1−プロペニル、1−メチル−2−プロペニル、2−メチル−2−プロペニル、1−ペンテニル、2−ペンテニル、3−ペンテニル、4−ペンテニル、1−メチル−1−ブテニル、2−メチル−1−ブテニル、3−メチル−1−ブテニル、1−メチル−2−ブテニル、2−メチル−2−ブテニル、3−メチル−2−ブテニル、1−メチル−3−ブテニル、2−メチル−3−ブテニル、3−メチル−3−ブテニル、1,1−ジメチル−2−プロペニル、1,2−ジメチル−1−プロペニル、1,2−ジメチル−2−プロペニル、1−エチル−1−プロペニル、1−エチル−2−プロペニル、1−ヘキセニル、2−ヘキセニル、3−ヘキセニル、4−ヘキセニル、5−ヘキセニル、1−メチル−1−ペンテニル、2−メチル−1−ペンテニル、3−メチル−1−ペンテニル、4−メチル−1−ペンテニル、1−メチル−2−ペンテニル、2−メチル−2−ペンテニル、3−メチル−2−ペンテニル、4−メチル−2−ペンテニル、1−メチル−3−ペンテニル、2−メチル−3−ペンテニル、3−メチル−3−ペンテニル、4−メチル−3−ペンテニル、1−メチル−4−ペンテニル、2−メチル−4−ペンテニル、3−メチル−4−ペンテニル、4−メチル−4−ペンテニル、1,1−ジメチル−2−ブテニル、1,1−ジメチル−3−ブテニル、1,2−ジメチル−1−ブテニル、1,2−ジメチル−2−ブテニル、1,2−ジメチル−3−ブテニル、1,3−ジメチル−1−ブテニル、1,3−ジメチル−2−ブテニル、1,3−ジメチル−3−ブテニル、2,2−ジメチル−3−ブテニル、2,3−ジメチル−1−ブテニル、2,3−ジメチル−2−ブテニル、2,3−ジメチル−3−ブテニル、3,3−ジメチル−1−ブテニル、3,3−ジメチル−2−ブテニル、1−エチル−1−ブテニル、1−エチル−2−ブテニル、1−エチル−3−ブテニル、2−エチル−1−ブテニル、2−エチル−2−ブテニル、2−エチル−3−ブテニル、1,1,2−トリメチル−2−プロペニル、1−エチル−1−メチル−2−プロペニル、1−エチル−2−メチル−1−プロペニル及び1−エチル−2−メチル−2−プロペニル;
【0014】
アルキニル:任意の位置に三重結合を有し、2〜10個の炭素原子を有する直鎖又は分枝のアルキニル基であり、このようなアルキニルの例としては以下のC2〜C6アルキニル、即ちエチニル、2−プロピニル、2−ブチニル、3−ブチニル、1−メチル−2−プロピニル、2−ペンチニル、3−ペンチニル、4−ペンチニル、1−メチル−2−ブチニル、1−メチル−3−ブチニル、2−メチル−3−ブチニル、1,1−ジメチル−2−プロピニル、1−エチル−2−プロピニル、2−ヘキシニル、3−ヘキシニル、4−ヘキシニル、5−ヘキシニル、1−メチル−2−ペンチニル、1−メチル−3−ペンチニル、1−メチル−4−ペンチニル、2−メチル−3−ペンチニル、2−メチル−4−ペンチニル、3−メチル−4−ペンチニル、4−メチル−2−ペンチニル、1,1−ジメチル−2−ブチニル、1,1−ジメチル−3−ブチニル、1,2−ジメチル−3−ブチニル、2,2−ジメチル−3−ブチニル、1−エチル−2−ブチニル、1−エチル−3−ブチニル、2−エチル−3−ブチニル及び1−エチル−1−メチル−2−プロピニル;
【0015】
ヘテロシクリル又はヘテロシクリルオキシ、ヘテロシクリルチオ及びヘテロシクリルアミノ:酸素、窒素及び硫黄原子から選ばれる1〜3個のヘテロ原子を有し、かつ直接又は酸素原子(ヘテロシクリルオキシ)を介して、若しくは硫黄原子(ヘテロシクリルチオ)を介して、若しくは窒素原子(ヘテロシクリルアミノ)を介して骨格に結合する3〜6員の飽和又は部分不飽和の単環もしくは多環ヘテロシクリル(複素環)、例えば、2−テトラヒドロフラニル、オキシラニル、3−テトラヒドロフラニル、2−テトラヒドロチエニル、3−テトラヒドロチエニル、2−ピロリジニル、3−ピロリジニル、3−イソオキサゾリジニル、4−イソオキサゾリジニル、5−イソオキサゾリジニル、3−イソチアゾリジニル、4−イソチアゾリジニル、5−イソチアゾリジニル、3−ピラゾリジニル、4−ピラゾリジニル、5−ピラゾリジニル、2−オキサゾリジニル、4−オキサゾリジニル、5−オキサゾリジニル、2−チアゾリジニル、4−チアゾリジニル、5−チアゾリジニル、2−イミダゾリジニル、4−イミダゾリジニル、1,2,4−オキサジアゾリジン−3−イル、1,2,4−オキサジアゾリジン−5−イル、1,2,4−チアジアゾリジン−3−イル、1,2,4−チアジアゾリジン−5−イル、1,2,4−トリアゾリジン−3−イル、1,3,4−オキサジアゾリジン−2−イル、1,3,4−チアジアゾリジン−2−イル、1,3,4−トリアゾリジン−2−イル、2,3−ジヒドロフラ−2−イル、2,3−ジヒドロフラ−3−イル、2,3−ジヒドロフラ−4−イル、2,3−ジヒドロフラ−5−イル、2,5−ジヒドロフラ−2−イル、2,5−ジヒドロフラ−3−イル、2,3−ジヒドロチエン−2−イル、2,3−ジヒドロチエン−3−イル、2,3−ジヒドロチエン−4−イル、2,3−ジヒドロチエン−5−イル、2,5−ジヒドロチエン−2−イル、2,5−ジヒドロチエン−3−イル、2,3−ジヒドロピロール−2−イル、2,3−ジヒドロピロール−3−イル、2,3−ジヒドロピロール−4−イル、2,3−ジヒドロピロール−5−イル、2,5−ジヒドロピロール−2−イル、2,5−ジヒドロピロール−3−イル、2,3−ジヒドロイソオキサゾール−3−イル、2,3−ジヒドロイソオキサゾール−4−イル、2,3−ジヒドロイソオキサゾール−5−イル、4,5−ジヒドロイソオキサゾール−3−イル、4,5−ジヒドロイソオキサゾール−4−イル、4,5−ジヒドロイソオキサゾール−5−イル、2,5−ジヒドロイソチアゾール−3−イル、2,5−ジヒドロイソチアゾール−4−イル、2,5−ジヒドロイソチアゾール−5−イル、2,3−ジヒドロイソピラゾール−3−イル、2,3−ジヒドロイソピラゾール−4−イル、2,3−ジヒドロイソピラゾール−5−イル、4,5−ジヒドロイソピラゾール−3−イル、4,5−ジヒドロイソピラゾール−4−イル、4,5−ジヒドロイソピラゾール−5−イル、2,5−ジヒドロイソピラゾール−3−イル、2,5−ジヒドロイソピラゾール−4−イル、2,5−ジヒドロイソピラゾール−5−イル、2,3−ジヒドロオキサゾール−3−イル、2,3−ジヒドロオキサゾール−4−イル、2,3−ジヒドロオキサゾール−5−イル、4,5−ジヒドロオキサゾール−3−イル、4,5−ジヒドロオキサゾール−4−イル、4,5−ジヒドロオキサゾール−5−イル、2,5−ジヒドロオキサゾール−3−イル、2,5−ジヒドロオキサゾール−4−イル、2,5−ジヒドロオキサゾール−5−イル、2,3−ジヒドロチアゾール−2−イル、2,3−ジヒドロチアゾール−4−イル、2,3−ジヒドロチアゾール−5−イル、4,5−ジヒドロチアゾール−2−イル、4,5−ジヒドロチアゾール−4−イル、4,5−ジヒドロチアゾール−5−イル、2,5−ジヒドロチアゾール−2−イル、2,5−ジヒドロチアゾール−4−イル、2,5−ジヒドロチアゾール−5−イル、2,3−ジヒドロイミダゾール−2−イル、2,3−ジヒドロイミダゾール−4−イル、2,3−ジヒドロイミダゾール−5−イル、4,5−ジヒドロイミダゾール−2−イル、4,5−ジヒドロイミダゾール−4−イル、4,5−ジヒドロイミダゾール−5−イル、2,5−ジヒドロイミダゾール−2−イル、2,5−ジヒドロイミダゾール−4−イル、2,5−ジヒドロイミダゾール−5−イル、2−モルホリニル、3−モルホリニル、2−ピペリジニル、3−ピペリジニル、4−ピペリジニル、3−テトラヒドロピリダジニル、4−テトラヒドロピリダジニル、2−テトラヒドロピリミジニル、4−テトラヒドロピリミジニル、5−テトラヒドロピリミジニル、2−テトラヒドロピラジニル、1,3,5−テトラヒドロトリアジン−2−イル、1,2,4−テトラヒドロトリアジン−3−イル、1,3−ジヒドロオキサジン−2−イル、1,3−ジチアン−2−イル、2−テトラヒドロピラニル、1,3−ジオキソラン−2−イル、3,4,5,6−テトラヒドロピリジン−2−イル、4H−1,3−チアジン−2−イル、4H−3,1−ベンゾチアジン−2−イル、1,1−ジオキソ−2,3,4,5−テトラヒドロチエン−2−イル、2H−1,4−ベンゾチアジン−3−イル、2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−イル、1,3−ジヒドロオキサジン−2−イル、1,3−ジチアン−2−イル;
【0016】
アリール又はアリールオキシ、アリールチオ、アリールカルボニル及びアリールスルホニル:直接又は酸素原子(−O−)を介して(アリールオキシ)、硫黄原子(−S−)を介して(アリールチオ)、カルボニル基(−CO−)を介して(アリールカルボニル)、若しくはスルホニル基(−SO2−)を介して(アリールスルホニル)骨格に結合する芳香族単環又は多環基、例えばフェニル、ナフチル及びフェナントレニル若しくはフェニルオキシ、ナフチルオキシ及びフェナントレニルオキシ、並びに対応するカルボニル及びスルホニル基;
ヘテロアリール又はヘテロアリールオキシ、ヘテロアリールチオ、ヘテロアリールカルボニル及びヘテロアリールスルホニル:炭素環員の他に、さらに1〜4個の窒素原子、又は1〜3個の窒素原子及び1個の酸素原子又は硫黄原子、又は1個の酸素原子若しくは硫黄原子を含んでいても良く、かつ直接又は酸素原子(−O−)を介して(ヘテロアリールオキシ)、若しくは硫黄原子(−S−)を介して(ヘテロアリールチオ)、カルボニル基(−CO−)を介して(ヘテロアリールカルボニル)若しくはスルホニル基(−SO2−)を介して(ヘテロアリールスルホニル)骨格に結合する芳香族単環又は多環基、例えば
1〜3個の窒素原子を含む5員のヘテロアリール:炭素原子の他に、環員として1〜3個の窒素原子を含んでいても良い5員のヘテロアリール基、例えば2−ピロリル、3−ピロリル、3−ピラゾリル、4−ピラゾリル、5−ピラゾリル、2−イミダゾリル、4−イミダゾリル、1,2,4−トリアゾール−3−イル及び1,3,4−トリアゾール−2−イル;
【0017】
1〜4個の窒素原子又は1〜3個の窒素原子及び1個の硫黄原子又は酸素原子、又は1個の酸素原子若しくは硫黄原子を含んでいる5員のヘテロアリール:炭素原子の他に、環員としてさらに1〜4個の窒素原子又は1〜3個の窒素原子及び1個の硫黄原子又は酸素原子、又は1個の酸素原子若しくは硫黄原子を含んでいても良い5員のヘテロアリール基、例えば2−フリル、3−フリル、2−チエニル、3−チエニル、2−ピロリル、3−ピロリル、3−イソオキサゾリル、4−イソオキサゾリル、5−イソオキサゾリル、3−イソチアゾリル、4−イソチアゾリル、5−イソチアゾリル、3−ピラゾリル、4−ピラゾリル、5−ピラゾリル、2−オキサゾリル、4−オキサゾリル、5−オキサゾリル、2−チアゾリル、4−チアゾリル、5−チアゾリル、2−イミダゾリル、4−イミダゾリル、1,2,4−オキサジアゾール−3−イル、1,2,4−オキサジアゾール−5−イル、1,2,4−チアジアゾール−3−イル、1,2,4−チアジアゾール−5−イル、1,2,4−トリアゾール−3−イル、1,3,4−オキサジアゾール−2−イル、1,3,4−チアジアゾール−2−イル、1,3,4−トリアゾール−2−イル;
1〜3個の窒素原子又は1個の窒素原子及び/又は1個の酸素原子又は硫黄原子を含む5員のベンゾ縮合ヘテロアリール:炭素原子の他に、環員として、1〜4個の窒素原子、又は1〜3個の窒素原子と1個の硫黄又は酸素原子、又は1個の酸素原子、又は1個の硫黄原子を含み、かつ2個の隣接する炭素環員又は1個の窒素原子と1個の隣接する炭素環員がブタ−1,3−ジエン−1,4−ジイル基でブリッジされていても良い5員のヘテロアリール基;
窒素を介して結合し、かつ1〜4個の窒素原子を含む5員のヘテロアリール、或いは窒素を介して結合し、かつ1〜3個の窒素原子を含む5員のベンゾ縮合ヘテロアリール:炭素原子の他に、環員として1〜4個及び1〜3個の窒素原子をそれぞれ含み、2個の隣接する炭素環員又は1個の窒素原子と1個の隣接する炭素環員がブタ−1,3−ジエン−1,4−ジイル基でブリッジされていても良く、その際これらの環は窒素環員の1つを介して骨格と結合する、5員のヘテロアリール基;
【0018】
1〜3個及び1〜4個の窒素原子をそれぞれ含む6員のヘテロアリール:炭素原子の他に、環員として、1〜3個の窒素原子及び1〜4個の窒素原子をそれぞれ有する6員のヘテロアリール基、例えば2−ピリジニル、3−ピリジニル、4−ピリジニル、3−ピリダジニル、4−ピリダジニル、2−ピリミジニル、4−ピリミジニル、5−ピリミジニル、2−ピラジニル、1,3,5−トリアジン−2−イル、1,2,4−トリアジン−3−イル及び1,2,4,5−テトラジン−3−イル;
1〜4個の窒素原子を含む6員のベンゾ縮合ヘテロアリール:2個の隣接する炭素環員がブタ−1,3−ジエン−1,4−ジイル基でブリッジされていても良い6員のヘテロアリール基、例えばキノリン、イソキノリン、キナゾリン及びキノキサリン、
並びに、これらに対応するオキシ、チオ、カルボニル又はスルホニル基が挙げられる。
【0019】
ヘテロアリールアミノ:炭素環員とは別に、さらに1〜4個の窒素原子、又は1〜3個の窒素原子と1個の酸素又は硫黄原子を含み、かつ窒素原子を介して骨格と結合する芳香族単環基又は多環基。
【0020】
「部分的に又は完全にハロゲン化されている」という表現は、このように特徴付けられた前記基の水素原子の一部又は全てが、同一又は異なる上述のハロゲン原子により置換されていても良いことを意味する。
【0021】
生物学的作用の観点から、mが0である式Iの化合物が好ましい。
【0022】
同様に、R1がメチルを表す式Iの化合物が好ましい。
【0023】
この他に、R3が水素、シアノ、シクロプロピル、メチル、エチル、1−メチルエチル又はCF3を表す化合物Iが好ましい。
【0024】
さらに、R3がメチルを表す式Iの化合物が好ましい。
【0025】
この他に、R3がシアノを表す化合物Iが好ましい。
【0026】
さらに、R3がシクロプロピルを表す化合物Iが好ましい。
【0027】
さらに、R3がCF3を表す化合物Iが好ましい。
【0028】
さらに、R5が水素、シクロプロピル、メチル、エチル、イソプロピル、非置換又は置換のアリール又はヘテロアリールを表す化合物Iが好ましい。
【0029】
さらに、R5がメチルを表す化合物Iが好ましい。
【0030】
さらに、R5がエチルを表す化合物Iが好ましい。
【0031】
さらに、R5がイソプロピルを表す化合物Iが好ましい。
【0032】
さらに、R5がシクロプロピルを表す化合物Iが好ましい。
【0033】
さらに、R5がCF3を表す化合物Iが好ましい。
【0034】
さらに、R5が非置換又は置換のアリール又はヘテロアリールを表す化合物Iが好ましい。
【0035】
さらに、R5が非置換又は置換のピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル又はトリアジニルを表す化合物Iが好ましい。
【0036】
さらに、R5が非置換又は置換のフリル、チエニル又はピロリルを表す化合物Iが好ましい。
【0037】
さらに、R5が非置換又は置換のオキサゾリル、チアゾリル、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、ピラゾリル又はイミダゾリルを表す化合物Iが好ましい。
【0038】
さらに、R5が非置換又は置換のオキサジアゾリル、チアジアゾリル又はトリアゾリルを表す化合物Iが好ましい。
【0039】
さらに、R5が1個又は2個の下記の基:ニトロ、シアノ、ヒドロキシル、アミノ、アミノカルボニル、アミノチオカルボニル、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロアルコキシ、C1〜C4アルキルアミノ、ジ−C1〜C4アルキルアミノ、C1〜C4アルキルスルホニル、C1〜C4アルコキシカルボニル、C1〜C4アルキルアミノカルボニル又はジ−C1〜C4アルキルアミノカルボニルを有していても良いフェニルを表す化合物Iが好ましい。
【0040】
さらに、R4が水素、C1〜C6アルキル、C2〜C6アルケニル、C2〜C6アルキニル、アリル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールオキシアルキル、ヘテロアリールオキシアルキル、アリール又はヘテロアリールを表す化合物Iが好ましい。
【0041】
さらに、R4がC1〜C6アルキルを表す化合物Iが好ましい。
【0042】
さらに、WO97/15552に開示されている化合物Iが好ましい。
【0043】
本発明の混合物中に含まれている化合物Iは、広範囲の植物病原性菌類、特に子嚢菌類、不完全菌類、藻菌類及び担子菌類に対して顕著な効果がある。
【0044】
それらは種々の栽培植物、例えば綿花、野菜(例えば、キュウリ、豆、トマト、ジャガイモ及びウリ)、大麦、芝、カラス麦、バナナ、コーヒー、トウモロコシ、果実、イネ、ライ麦、大豆、ブドウ、小麦、装飾用植物、サトウキビ及びこれらの種子の多種細菌の防除に特に重要である。
【0045】
新規混合物は、以下の植物病原性菌類の防除に特に適している:
穀物類のエリシペ・グラミニス(Erysiphe graminis;うどん粉病)、
ウリ科のエリシペ・キコラケアラム(Erysiphe cichoracearum)及びスフェロテカ・フリギネア(Sphaerotheca fuliginea)、
リンゴのポドスフェラ・ロイコトリカ(Podosphaera leucotricha)、
ブドウのウンキヌラ・ネカトル(Uncinula necator)、
穀物類のプッキニア(Puccinia)種、
綿花、イネ及びシバのリゾクトニア(Rhizoctonia)種、
穀物類及びサトウキビのウスチラゴ(Ustilago)種、
リンゴのベンツリア・イネクアリス(Venturia inaeqalis;腐敗病)、
穀物類及びイネのヘルミントスポリウム(Helminthosporium)種、
コムギのセプトリア・ノドルム(Septoria nodorum)、
イチゴ、野菜、装飾用植物及びブドウのボトリチス・キネレア(Botrytis cinerea;灰色カビ)、
ナンキンマメのセルコスポラ・アラキジコラ(Cercospora arachdicola)、
コムギ及びオオムギのシュードケルコスポレラ・ヘルポトリコイデス(Pseudocercosporella herpotrichoides)、
イネ及び芝のピリクラリア・オリザエ(Pyricularia orizae)、
ジャガイモ及びトマトのフィトピトラ・インフェスタンス(Phytophthora infestans)、
ブドウのプラスモパラ・ビチコラ(Plasmopara viticola)、
ホップとキュウリのシュードペロノスポラ(Pseudoperonospora)種、
野菜および果実のアルテルナリア(Alternaria)種、
バナナのマイコスフェレラ(Mycosphaerella)種、及び
フサリウム(Fusarium)及びベルチキルリウム(Verticillium)種。
【0046】
化合物IIは、抗誘導物質(resistance inducer)(即ち、発病に対して免疫性を与える有効物質)として市販されている、即ち、化合物IIには直接的な殺菌作用がないが、処理後の植物中で有害菌類に対する抵抗性を誘発する。化合物IIIは、殺菌剤として知られている。
【0047】
本発明の混合物を製造する場合、純粋な有効成分I及びII〜IIIと共に、有害菌類又は他の害虫、例えば昆虫、蛛形、線虫に対して活性な他の成分を用いることも、或いは除草剤又は成長抑制剤有効成分又は肥料を混和するのも好ましい。
【0048】
化合物I及びII〜IIIの少なくとも1種の混合物を、同時に、即ち合わせた又は分離した施与は、広範囲の植物病原性菌類、特に子嚢菌類、担子菌類、藻菌類及び不完全菌類に対する顕著な効果を有するため優れている。ある場合には、組織的に活性であるため茎葉及び土壌の殺菌剤としても用いられる。
【0049】
それらは種々の栽培植物、例えば綿花、野菜(例えば、キュウリ、豆、トマト、ジャガイモ及びウリ)、大麦、芝、カラス麦、バナナ、コーヒー、トウモロコシ、果実、イネ、ライ麦、大豆、ブドウ、小麦、装飾用植物、サトウキビ及びこれらの種子の多種細菌の防除に特に重要である。
【0050】
新規混合物は、以下の植物病原性菌類の防除に特に適している:
穀物類のエリシペ・グラミニス(Erysiphe graminis;うどん粉病)、
ウリ科のエリシペ・キコラケアラム(Erysiphe cichoracearum)及びスフェロテカ・フリギネア(Sphaerotheca fuliginea)、
リンゴのポドスフェラ・ロイコトリカ(Podosphaera leucotricha)、
ブドウのウンキヌラ・ネカトル(Uncinula necator)、
穀物類のプッキニア(Puccinia)種、
綿花、イネ及びシバのリゾクトニア(Rhizoctonia)種、
穀物類及びサトウキビのウスチラゴ(Ustilago)種、
リンゴのベンツリア・イネクアリス(Venturia inaeqalis;腐敗病)、
穀物類及びイネのヘルミントスポリウム(Helminthosporium)種、
コムギのセプトリア・ノドルム(Septoria nodorum)、
イチゴ、野菜、装飾用植物及びブドウのボトリチス・キネレア(Botrytis cinerea;灰色カビ)、
ナンキンマメのセルコスポラ・アラキジコラ(Cercospora arachdicola)、
コムギ及びオオムギのシュードケルコスポレラ・ヘルポトリコイデス(Pseudocercosporella herpotrichoides)、
イネ及び芝のピリクラリア・オリザエ(Pyricularia orizae)、
ジャガイモ及びトマトのフィトピトラ・インフェスタンス(Phytophthora infestans)、
ブドウのプラスモパラ・ビチコラ(Plasmopara viticola)、
ホップとキュウリのシュードペロノスポラ(Pseudoperonospora)種、
野菜および果実のアルテルナリア(Alternaria)種、
バナナのマイコスフェレラ(Mycosphaerella)種、及び
フサリウム(Fusarium)及びベルチキルリウム(Verticillium)種。
【0051】
本発明の混合物は、ピリクラリア・オリザエの防除に利用可能であるのが特に好ましい。
【0052】
化合物I及び化合物II〜IIIの少なくとも1種を、同時に、一緒に、若しくは別々に、又は連続的に施与することが可能であり、別々に施与する場合の順序により、一般に防除成果に影響が与えられることはない。
【0053】
所望の効果の性質によって異なるが、本発明の混合物よる施与率は、特に農作物中において、1ヘクタール(0.01km2)当たり0.01〜8kgであり、0.1〜5kgが望ましく、特に0.5〜3.0kgが望ましい。
【0054】
化合物Iの施与率は、1ヘクタール当たり0.01〜2.5kgであり、0.05〜2.5kgが望ましく、特に0.1〜1.0kgが望ましい。
【0055】
化合物II〜IIIの施与率は、上記に対応して1ヘクタール当たり、0.001〜5kgであり、0.005〜2kgが望ましく、特に0.01〜1.0kgが望ましい。
【0056】
種子を処理する場合、混合物の施与率は、一般に種子1kgに対して0.001〜250gであり、0.01〜100gが望ましく、0.01〜50gが特に望ましい。
【0057】
植物に対して病原性のある有害菌類を防除する場合、播種の前もしくは後、或いは発芽の前もしくは後に、種子、植物又は土壌に噴霧すること又は散布することにより、別々に又は一緒に化合物I及び化合物II〜IIIの少なくとも1種を施与する。
【0058】
本発明による相乗殺菌混合物は、例えば直接噴霧可能な溶液、粉末、懸濁液の形態で、或いは高濃度の水性、油性又は他の懸濁液、分散液、乳濁液、油性分散液、ペースト、ダスト剤、散布剤又は顆粒の形態で調製可能であり、且つ噴霧、ミスト法、ダスト法、散布法又は注入法により施与可能である。使用形式は、使用目的に基づいて決定される。いずれの場合にも、本発明の混合物の分配を可能な限り微細且つ均一とすることが保証されるべきである。
【0059】
調剤は公知方法で、例えば有効成分を溶剤および/または担体で、必要により乳化剤および分散剤を使用して増量することにより得られる。希釈剤として水を使用する場合には、補助溶剤として別の有機溶剤を使用することができる。このための助剤としては、以下のものが挙げられる:
溶剤、例えば芳香族化合物(例えば、キシレン)、塩素化芳香族化合物(例えば、クロロベンゼン)、パラフィン(例えば、石油留分)、アルコール(例えば、メタノール、ブタノール)、ケトン(例えば、シクロヘキサノン)、アミン(例えば、エタノールアミン、ジメチルホルムアミド)および水;
担体、例えば天然岩石粉(例えば、カオリン、粘土質土、タルク、白亜)、合成岩石粉(例えば、高分散性シリカゲル、珪酸塩);
乳化剤、例えば非イオン性および陰イオン性乳化剤(例えば、ポリオキシエチレン脂肪アルコールエーテル、アルキルスルホナートおよびアリールスルホナート)、および
分散剤、例えばリグニン亜硫酸廃液およびメチルセルロースが該当する。
【0060】
界面活性剤としては下記のものが挙げられる。芳香族スルホン酸(例えば、リグノスルホン酸、フェノールスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸)、並びに脂肪酸の各アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩及びアンモニウム塩、アルキルスルホナート、アルキルアリールスルホナート、アルキルスルファート、ラウリルエーテルスルファート、脂肪アルコールスルファート、並びに硫酸化ヘキサデカノール、ヘプタデカノール及びオクタデカノールの塩、又は脂肪アルコールグリコールエーテルの塩、スルホン化ナフタレン及びその誘導体とホルムアルデヒドとの縮合生成物、ナフタレン或いはナフタレンスルホン酸とフェノール及びホルムアルデヒドとの縮合生成物、ポリオキシエチレンオクチルフェノールエーテル、エトキシル化−イソオクチルフェノール、−オクチルフェノール又は−ノニルフェノール、アルキルフェノールポリグリコールエーテル、トリブチルフェニルポリグリコールエーテル、アルキルアリールポリエーテルアルコール、イソトリデシルアルコール、脂肪アルコール/エチレンオキシド縮合物、エトキシル化ヒマシ油、ポリオキシエチレンアルキルエーテル又はポリオキシプロピレン、ラウリルアルコールポリグリコールエーテルアセタート、ソルビトールエステル、リグニン−亜硫酸廃液又はメチルセルロース。
【0061】
粉末、散布剤及びダスト剤は、化合物I及び化合物II〜IIIの少なくとも1種、或いは化合物I及び化合物II〜IIIの少なくとも1種の混合物と固状担体物質とを、混合または一緒に磨砕することにより製造することができる。
粒状体(例えば、被覆粒状体、含浸粒状体および均質粒状体)は、通常、有効成分を固体担体に結合させることにより製造することができる。
【0062】
フィラー又は固状担体は、例えば鉱物土(例えば、シリカ、珪酸、シリカゲル、珪酸塩、滑石、カオリン、石灰石、石灰、白亜、膠灰粒土、石灰質黄色粘土、粘土、白雲石、珪藻土、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、酸化マグネシウム、磨砕合成樹脂)、肥料(例えば、硫酸アンモニウム、燐酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、尿素)、植物性生成物(例えば、穀物粉、樹皮、木材およびクルミ穀粉)、セルロース粉末又は他の固状担体物質である。
【0063】
一般に、調剤は0.1〜95質量%、好ましくは0.5〜90質量%の化合物Iのうちの1つ及び化合物II〜IIIの少なくとも1種、或いは化合物I及び化合物II〜IIIの少なくとも1種の混合物を含む。その際、有効成分は純度90〜100%、特に95〜100%(NMR又はHPLCスペクトルによる)で使用される。
【0064】
対応する調剤を、有害菌類、その生息地、或いはこれらから保護されるべき植物、種子、土壌、領域、資材又は空間を、前記混合物の殺菌効果量、或いは別々に施与する場合、化合物I及び化合物II〜IIIの少なくとも1種の殺菌効果量で処理することにより施与する。
【0065】
有害菌類による感染前又は後に施与を行うことができる。
【0066】
有効成分を含む製剤例を以下に示す:
I.90質量部の有効成分及び10質量部のN−メチルピロリドンを含む、微小液滴の形状での使用が好ましい溶液;
II.20質量部の有効成分、80質量部のキシレン、10質量部の、オレイン酸N−モノエタノールアミド(1モル)のエチレンオキシド(8〜10モル)付加体、5質量部のドデシルベンゼンスルホン酸のカルシウム塩及び5質量部の、ひまし油(1モル)のエチレンオキシド(40モル)付加体から成る混合物;この溶液を水中にて微細に分散させて分散液を得る;
III.20質量部の有効成分、40質量部のシクロヘキサノン、30質量部のイソブタノール及び20質量部の、ひまし油(1モル)のエチレンオキシド(40モル)付加体から成る水性分散液;
IV.20質量部の有効成分、25質量部のシクロヘキサノール、65質量部の鉱油留分(沸点:210〜280℃)及び10質量部の、ひまし油(1モル)のエチレンオキシド(40モル)付加体から成る水性分散液;
V.80質量部の有効成分、3質量部のジイソブチルナフタリン−1−スルホン酸のナトリウム塩、10質量部のリグニンスルホン酸のナトリウム塩(亜硫酸廃液より得る)及び7質量部の微粉末状シリカゲルから成る、ハンマーミル中において磨砕される混合物;この混合物を水中にて微細に分散させることにより、噴霧混合物が得られる;
VI.3質量部の有効成分及び97質量部の細粒状カオリンから成る均質混合物(混和物);このダストは、3質量%の有効成分を含む;
VII.30質量部の有効成分、92質量部の微粉末状シリカゲル及び8質量部の、このシリカゲルの表面上に吹きつけられたパラフィン油から成る均質混合物;有効成分に対して良好な接着性を有する調剤が得られる;
VIII.40質量部の有効成分、10質量部のフェノールスルホン酸/尿素/ホルムアルデヒド縮合物のナトリウム塩、2質量部のシリカゲル及び48質量部の水から成る安定な水性分散液;この分散液をさらに希釈することができる;
IX.20質量部の有効成分、2質量部のドデシルベンゼンスルホン酸のカルシウム塩、8質量部の脂肪アルコールポリグリコールエーテル、20質量部のフェノールスルホン酸/尿素/ホルムアルデヒド縮合物のナトリウム塩及び88質量部のパラフィン系鉱油から成る安定な油性分散液。
【0067】
本発明による混合物の相乗作用を、下記の実験により示した:
有効成分を、63質量%のシクロヘキサノン及び27質量%の乳化剤からなる混合物中の濃度10質量%の乳濁液として別々に、又は一緒に調製し、そしてこれに対応して水で希釈して所望の濃度を得た。
【0068】
被害を受けた葉面を%単位で測定することにより評価を行った。この%を効力に換算した。効力(W)は下記のアボット(Abbot)の式により求められる。
【0069】
アボットの式:
W=(1−α/β)・100
上記式中、
αは処理後の植物の菌類による被害(%)、
βは未処理(対照)植物の菌類による被害(%)、
をそれぞれ表す。
【0070】
効力0は、処理された植物が未処理の植物と同様の被害を受けたことを示し、効力100は処理された植物が全く被害を受けなっかたことを示す。
【0071】
有効成分の混合物により、予想される効力を以下のコルビーの式[R.S. Colby, Weeds 15, 20〜22頁 (1967)]により算出し、実際に観察された効力と対比した。
【0072】
コルビーの式:
E=x+y−x・y/100
上記式中、
Eは濃度a及びbの有効成分A及びBの混合物を使用した場合の、未処理対照に対する%で表された予想される効力(%)、
xは、有効成分Aを濃度aで使用した場合の、未処理対照に対する%で表された効力(%)、
yは、有効成分Bを濃度bで使用した場合の、未処理対照に対する%で表された効力(%)、
をそれぞれ表す。
【0073】
[使用実施例1] ピリクラリア・オリザエに対する作用(保護)
鉢植えにした稲の幼苗(Tai-Nong 67相当種)の葉に、10%の有効成分、63%のシクロヘキサノン及び27%の乳化剤からなる原液から調製された有効成分の水性調製液を液が滴り落ちるまで噴霧した。翌日、植物にピリクラリア・オリザエ菌の胞子水性懸濁液を噴霧した。次いで、被験植物を22〜24℃、相対湿度(95〜99%)の気候調節チャンバー(climatized chamber)内に6日間保管した。葉における菌類の繁殖割合を目視にて評価を行った。
【0074】
被害を受けた葉面の割合(%)について目視にて測定された値を、未処理対照の%として効力に変換した。効力0は、未処理対照と同様の被害を受けたことを示し、効力100は被害が0%であることを示す。有効成分を組み合わせた場合の予想される効力を、コルビーの式(Colby, S. R. "Calculating synergistic and antagonistic responses of herbicide combinations", Weeds, 15, 20〜22頁, 1967)により算出し、実際に観察された効力と対比した。
【0075】
以下の化合物I’を、成分a)として使用した:
【0076】
【化5】
試験結果を、以下の表1及び2に示す:
【0077】
【表1】
【表2】
*コルビーの式により計算
【0078】
実験結果から、あらゆる混合比において実際に観察された効力は、コルビーの式により事前に計算された効力よりも高い結果を示していることが分かる。
Claims (6)
- 一方の部分が化合物I若しくはI’を固体又は液体の担体中に含み、他方の部分が化合物II〜IIIの少なくとも1種を固体又は液体の担体中に含む、2つの部分からなる請求項1又は2に記載の栽培植物保護用混合物。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の栽培植物保護用混合物を用いて、有害菌類、その生息地、或いは菌類の感染から保護されるべき資材、植物、種子、土壌、領域又は空間を処理する有害菌類の防除方法であって、
化合物I又はI’及び化合物II〜IIIの少なくとも1種の施与を、同時に、合わせて、又は別々に、或いは連続して行うことを特徴とする方法。 - 請求項1又は2に記載の成分a)を1ヘクタールあたり0.005〜1kg用いて、前記有害菌類、その生息地、或いはこれらから保護されるべき前記植物、種子、土壌、領域、資材又は空間を処理する請求項4に記載の方法。
- 請求項1に記載の化合物II〜IIIの少なくとも1種を1ヘクタールあたり0.01〜1kg用いて、前記有害菌類、その生息地、或いはこれらから保護されるべき前記植物、種子、土壌、領域、資材又は空間を処理する請求項4に記載の方法。
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