JP4452499B2 - 各光学精密要素用の層システムの製造方法及び装置 - Google Patents
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Claims (19)
- 基板上に、高屈折光学作用層と低屈折光学作用層とを交互に積層した積層体を有している光学精密構成要素用の層システムの製造方法において、
一定保持された「遷移モード」での作動点で反応して駆動されるパルスマグネトロンスパッタステーションによって個別層を析出する際に、
基板を所定の第1の搬送速度v1の線形運動によって、各パルスマグネトロンスパッタステーションの領域内かつその前方で通過させ、
このとき前記各パルスマグネトロンスパッタステーションにはターゲット材料が配属されており、このターゲット材料から層が形成され、
前記第1の搬送速度v1は、前記個別層の析出の際に、所定回数の通過後に、各層で目標層厚の少なくとも50%の厚みまで堆積されるように調整された搬送速度であり、
その後、前記基板上で、部分層システムの透過及び/又は反射及び/又は偏光を光学精密測定し、
該光学精密測定の結果を、各層が完全に析出された後に達成すべき前記透過及び/又は反射及び/又は偏光の目標値と比較し、
該比較から、目標層厚になる迄に未だ残っている層厚を検出し、
未だ不足している層厚に応じて、所定回数の通過後に前記目標層厚が達成されるように新たに第2の搬送速度v2を設定し、
前記目標層厚に達される迄、層厚を新たに検出し、別の新たな搬送速度を設定し、
少なくとも、前記積層体のすべての層が析出されるまで、パルスマグネトロンスパッタステーションをスイッチオフしない
ことを特徴とする方法。 - 前記2つの搬送速度(v1、v2)での各2回の通過後に目標層厚に達する請求項1記載の方法。
- 2回の通過後、目標層厚の少なくとも90%を析出するように第1の搬送速度v1を調整する請求項1又は2記載の方法。
- パルスマグネトロンスパッタ源として、埋込アノードを用いた直流電流パルスのユニポーラ供給によって駆動される個別源を使う請求項1から3迄の何れか1記載の方法。
- パルスマグネトロンスパッタ源として、バイポーラに駆動される、対状駆動式のマグネトロンの2重装置を使う請求項1から3迄の何れか1記載の方法。
- 各基板を線形運動に対して付加的に、基板面に対して垂直方向に延在している軸を中心にして回転する請求項1から5迄の何れか1記載の方法。
- パルスマグネトロンスパッタステーションを、光学精密構成部品をコーティングする前に、個別層の堆積時に基板上の層特性の局所偏差が±1%よりも小さい程度に最適化する請求項1から6迄の何れか1記載の方法。
- 目標層厚の達成に必要な前記第2の搬送速度v2の評価によって、コーティングステーションの各々の平均析出速度のドリフトを検出し、前記第1の搬送速度v1の設定値の適合によって補償する請求項2から7迄の何れか1記載の方法。
- 複数の個別層を堆積した後、基板のコーティングを終了し、
コーティング室内で形成されたテスト基板を個別層でコーティングし、
該個別層の透過及び/又は反射及び/又は偏光を測定して、該透過及び/又は反射及び/又は偏光の目標値と比較し、
検出された偏差から、層厚と搬送速度との関係性を求め、前記第1の搬送速度v1を補正する請求項1から8迄の何れか1記載の方法。 - 同時に少なくとも2つの基板をコーティングし、一方の前記基板上に高屈折層を堆積する間、他方の前記基板上に低屈折層を堆積し、逆に、一方の前記基板上に低屈折層を堆積する間、他方の前記基板上に高屈折層を堆積する請求項1から9迄の何れか1記載の方法。
- 少なくとも1つの基板(2)を収容するための、少なくとも1つの真空化可能な真空コーティング室(1)と、反応性パルスマグネトロンスパッタリング(Zerstaeubung)プロセスの実行用の位置的に相互に別個に設けられた少なくとも2つのパルスマグネトロンスパッタステーション(3′,3″)とを有しており、
該パルスマグネトロンスパッタステーションには、少なくとも各々1つのマグネトロン源、作業ガスおよび反応ガスの供給および配分用手段、供給ガスの分圧及び/又は流れの測定および調整用手段、並びに、電気エネルギの供給および調整用手段が設けられており、少なくとも1つのパルスマグネトロンスパッタステーションの前記マグネトロン源には、光学低屈折層の析出用のターゲットが装着されており、前記マグネトロン源に対して所定の間隔でパルスマグネトロンスパッタステーションの各々に対して相対的に基板のリニアな運動を行うための手段、並びに、光学反射及び/又は光学透過及び/又は当該測定装置に対して所定の間隔で配置された基板の偏光の精密測定用の少なくとも1つの測定装置が設けられている請求項1記載の方法を実施するための装置。 - 測定装置は、単色光用の透過フォトメータを有する請求項11記載の装置。
- 装置は、基板の送給および搬出用の別の真空室を有している請求項11又は12記載の装置。
- 装置は、基板の温度調節用の装置を有している請求項11から13迄の何れか1記載の装置。
- 装置は、予め設定可能な波長領域内で、コーティング基板の透過、反射または偏光の各光学特性量の1つを波長に依存して測定するための装置を有している請求項11から14迄の何れか1記載の装置。
- 基板を線形運動するための手段が、垂直方向の基板位置または高々垂直方向の位置から10°の偏差が達成されるように構成されている請求項11から15迄の何れか1記載の装置。
- 基板の搬送のために、頑丈な基板坦体を有しており、該基板坦体は、加工可能なセラミック材料製であり、前記基板坦体は、前記基板と形状がほぼ一致するようにして当該基板を収容するための凹部を有している請求項11から16迄の何れか1記載の装置。
- 基板坦体の無接触磁気案内用の手段が設けられている請求項11から17迄の何れか1記載の装置。
- 基板の線形運動に対して付加的に、基板面に対して垂直方向の軸を中心にして前記基板を回転することができる手段が設けられている請求項11から18迄の何れか1記載の装置。
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