JP4452113B2 - プラズマ処理装置用下部電極 - Google Patents
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(表面粗さRa)
先ず、化学的エッチング処理後の、下部電極の表面粗さRaは、1 μm 以上でかつ6 μm 以下の、1 μm ≦Ra≦6 μm の範囲とすることが必要である。
Claims (4)
- ワークにプラズマ処理を施すプラズマ処理装置に備えられるアルミニウム合金で形成された下部電極であって、前記アルミニウム合金が圧延板または押出材であり、この下部電極の平坦な表面はRaで 1μm ≦Ra≦6 μm である粗さの凹凸を有しており、この凹凸が下部電極表面の化学的エッチング処理のみにより生起させられていることを特徴とするプラズマ処理装置用下部電極。
- 前記化学的エッチング処理がアルミニウムを1 〜20g/l 溶解したアルカリ系水溶液にて行なわれる請求項1に記載のプラズマ処理装置用下部電極。
- 前記下部電極が前記凹凸を有する表面に更に陽極酸化処理皮膜を有している請求項1または2に記載のプラズマ処理装置用下部電極。
- 前記下部電極表面が、アルミニウム合金素材の内部側を、下部電極表面として切り出したものである請求項1乃至3のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置用下部電極。
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