JP4447949B2 - 位置決め装置の初期化方法、露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
(1)X梁とY梁がクロスバー構成であり、X梁とY梁を取り囲むように構成されたXYスライダが電磁石を搭載した電磁ガイド構成のステージにおいて、X梁およびY梁の少なくとも一方の梁に姿勢を規定するヨーガイドなどを設ける。
ヨーガイドがY梁にあっても、Y梁から同様な手順で行うことができるし、両側についていても同様である。また、基準位置を検出する手段は、遮光版およびフォトスイッチでも良いし、機械的スイッチでも良いし、ストッパ位置への突き当てでも良い。以下、本発明の実施例について図面を参照しながら詳細に説明する
・ 梁に遮光板を設け、基準位置にフォトインタラプタを設ける方法
・ 基準位置にレバースイッチなどの機械的スイッチを設ける方法
・ 基準位置に突き当てストッパを設ける方法
などの方法をとることが望ましい。また、ヨーガイドをY梁4側だけに設ける場合も同様である。
・ 梁に遮光板を設け、基準位置にフォトインタラプタを設ける方法
・ 基準位置にレバースイッチなどの機械的スイッチを設ける方法
・ 基準位置に突き当てストッパを設ける方法
などのいずれかの方法をとることが望ましい。
この露光装置は、半導体集積回路等の半導体デバイスや、マイクロマシン、薄膜磁気ヘッド等の微細なパターンが形成されたデバイスの製造に利用され、原版であるレチクルRを介して基板としての半導体ウエハW上に光源61からの露光エネルギーとしての露光光(この用語は、可視光、紫外光、EUV光、X線、電子線、荷電粒子線等の総称である)を投影系としての投影レンズ(この用語は、屈折レンズ、反射レンズ、反射屈折レンズシステム、荷電粒子レンズ等の総称である)62を介して照射することによって、基板上に所望のパターンを形成している。
Claims (10)
- 互いに直交する第1方向および第2方向に移動可能な対象物と、
前記対象物の位置を計測する対象物位置計測手段と、
前記対象物を第2方向に案内し、第1方向に移動可能な第1補助構造体と、
前記対象物を第1方向に案内し、第2方向に移動可能な第2補助構造体と、
前記第1補助構造体および前記第2補助構造体の側面をそれぞれ挟み込むように前記対象物に設けられた少なくとも2対の電磁石ユニットと、
少なくとも一方の補助構造体の回転を規制する回転規制手段とを有する位置決め装置の初期化方法であって、
前記対象物を前記回転規制手段によって回転を規制された補助構造体に前記電磁石ユニットを用いて吸着する工程と、
前記吸着時に前記対象物位置計測手段をオフセットする工程と、
を有することを特徴とする初期化方法。 - 前記位置決め装置は、前記第1および第2補助構造体の側面に設けられた磁性体部材を有し、前記磁性体部材と前記電磁石ユニットとの間で吸引力を発生することを特徴とする請求項1に記載の初期化方法。
- 前記対象物位置計測手段が前記対象物の相対位置を計測することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の初期化方法。
- 前記位置決め装置が、
前記第1補助構造体の第1方向位置を計測する第1位置計測手段と、
前記第2補助構造体の第2方向位置を計測する第2位置計測手段と、
を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の初期化方法。 - 前記第1位置計測手段および前記第2位置計測手段がそれぞれの相対位置を計測するものであり、
基準位置としての第1基準位置検出手段および第2基準位置検出手段を有することを特徴とする請求項4に記載の初期化方法。 - 前記対象物と前記回転規制手段によって回転を規制された補助構造体とを所定の相対位置関係に維持した状態で、他方の補助構造体を前記対象物に吸着する工程を有することを特徴とする請求項1に記載の初期化方法。
- 前記対象物と前記回転規制手段によって回転を規制された補助構造体とを所定の相対位置関係に維持した状態で、他方の補助構造体を所定の基準位置まで駆動する工程を有することを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の初期化方法。
- 前記回転規制手段は、第1方向と第2方向の両方向に垂直な軸回りの回転を規制することを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の初期化方法。
- 請求項1〜8のいずれかに記載の初期化方法によって、基板または原版を位置決めするための位置決め装置を初期化することを特徴とする露光装置。
- 請求項9に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光された基板を現像する工程とを有することを特徴とするデバイス製造方法。
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