JP4443057B2 - 差動的圧力設定制御を有する流体圧力調整器 - Google Patents
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Description
【発明の背景】
本発明は広くは流体圧力調整器と同品を動作させる方法に関し、特に、半導体プロセス産業で見出される様な、例えば、バッチ式ガス供給応用(batchwise gas delivery applications)での使用時に改良された応答を提供する制御された差動的圧力の能力を有する圧力調整器に関する。
【0002】
流体圧力調整器は加圧プロセスガス等の供給又は他の輸送を含む種々の流体輸送応用で使用される。これらの応用では、調整された出口圧力(regulated outlet pressure)での加圧ガス又は他の流体の流れを供給し、そして該ガス流量(gas flow rate)から概ね独立した設定値にその圧力を保持するために圧力調整器が提供される。その目的で、該圧力調整器はその入り口ポートで該望ましい出口圧力より実質的に高い圧力が典型的な流体源(source of fluid)により供給される。該望ましい出口圧力は設定されそして該調整器は、実際の出口圧力と該設定圧力との間のオフセットを最小化するためにその入り口及び出口のポート間の可変通路(variable passage)の寸法を調節するために内部弁(internal valve)を自動的に駆動する。
【0003】
共通に譲渡された米国特許第5、787、925号、第5、762、086号、第5、755、428号、第5、732、736号、第5、458、001号、第5、230、359号、第4、702、277号そして第4、257、450号でより充分に詳述されている様に、従来これに含まれる種類の圧力調整器は力の平衡の原理で動作する。この点で、該調整器の内部ダイアフラム組立体(internal diaphrgm assembly)は相対する方向に作用する力を受ける。これらの力は、第1方向に作用しそしてコイル又は他のばねの手動圧縮により典型的に展開され、該圧力設定に関連する第1力と、該第1方向と反対の第2方向に作用しそしてそれらの圧力に曝される該ダイアフラムの有効面積に印加される入り口及び出口圧力により展開される第2力とを含む。標準動作条件で、該圧力設定の第1力は、該入り口又は出口圧力の何等かの変動が該ダイアフラムに印加されつつある第2の、反対の力に比例的変化をもたらすように、一定に保持される。それによりこれらの相対する第1及び第2力間で創られる不平衡が該ダイアフラムをそらさせる。この反り(deflection)は該弁(valve)に直接伝達され、該弁は付随する弁シート(valve seat)と協力して該弁と該シート間に規定されたオリフイス又は他の流体通路(fluid passage)の開く面積(open area)を変化させそして、結果として、該調整器の入り口からその出口への流体流れを変化させる。米国特許第4、066、091号は大気密度の変動に応答した開閉動作を補償するためにダイアフラムと係合する大気密度補償機構( atmospheric density compensating mechanism )を有する圧力スイッチング弁( pressure switching valve )を説明している。
【0004】
例えば、出口流量のステップ変化的増加(step change increase)は一般に出口圧力を減じる傾向がありそして、比例的に、第2の、反対の力が該出口圧力により該ダイアフラムに印加される。それにより展開される力の不平衡は該ダイアフラムのそりを介して該弁要素(valve element)へと移される(translated)。この様なそりは該弁要素を、該要素とその付随弁シートとの間に規定された流体流れオリフイスの面積を増加させる方向に動くよう促す。この増加は、今度は、該調整器を通しての流体流量の対応する増加をもたらし終局的に該出口圧力の減少が調節された定常状態条件(steady state condition)で平衡する。
【0005】
逆に、該出口流量のステップ変化的減少については、それにより展開された流れの不平衡は反対方向へ該弁要素を動かす結果を有し、その流体流れオリフイスの面積をそして、比例的に、該流量を減じる。かくして新しい平衡がもたらされそこでは該出口圧力は該ステップ変化的減少の前の出口流れに比して僅かに増加させられる。
【0006】
上記説明の自動的動作は出口圧力の幾らかの変化が出口流れの変化を受け入れるため必要なことを図解する。従って圧力調整の目的は流れ変動の与えられた範囲に対し出口圧力の変化を最小化することである。出口圧力に加えて、圧力調整器の応答は該調整された出口圧力への入り口圧力変化の影響を、そして又該流量がゼロに近付いた時の該影響を受け入れねばならない。後者は無流れ状態(no-flow condition)での該圧力調整器の閉じる能力(ability of the pressure regulator to close)として表現される。
【0007】
入り口圧力の変化の影響に関しては、弁通路の面積に印加された入り口圧力は、前述の様に、圧力設定力のそれと反対方向に作用する力を展開する。例えば、入り口圧力の減少は該ダイアフラムに印加される力での比例的減少に帰着し、該力の平衡は出口圧力での対応する増加により回復される。順に、入り口圧力の該減少は該圧力設定力に相対する力を減少させ、それは今度は該ダイアフラム組立体をして該弁開口度を増加させる。それによる弁間の流れが増加され、加圧される出口は新しい値に増加しそれは該力の平衡を再び回復させる。従来約2、068.44−34,474hPa(30−500ピーエスアイ)の入り口圧力で動作時、これに含まれる種類の圧力調整器は入り口圧力での各約6、894.8hPa(100ピーエスアイ)の変化に対し、典型的に約137.896−551.584hPa(2−4ピーエスアイ)の増加又は、場合がそうであると、減少を出口圧力で示す。
【0008】
入り口圧力減少と出口圧力増加の間の精密な関係は該弁通路と該ダイアフラムとの有効面積の比により決定される。この効果のより詳細な解析については、本発明者の前の米国特許第5、230、359号、名称”供給圧力補償された流体圧力調整器と方法(Supply Pressure Compensated Fluid Pressure Regulator And Method)”、を参照されてもよい。
【0009】
使用点でプロセスガスのバッチ式供給を含む応用では特に、各供給サイクルの初めに速いスタートアップ(start-up)を提供することに関心が表明されて来た。この様なスタートアップは、供給サイクルの開始の前の流れ無し(no flow)から、与えられた供給流量へガス流れが増加する時、該調整器の出口圧力が定常値(steady-state value)で速く安定するよう制御されると達成される。
【0010】
例えば、半導体産業は集積回路{アイシー(IC)}チップ(chips)又はダイ(dies)の製造でプロセスガス(process gas)のバッチ式供給を使用する。半導体素子の全体の量産では、数百の同一の”集積化された(integrated)”回路(アイシー)のトレースパターン(trace patterns)が1つの半導体ウエーハ上の数層上にフオトリゾグラフ式に(photolithographically)画像作成され、該ウエーハは、今度は、数百の同一ダイ又はチップに切断される。該ダイ層の各々内で、6フッ化タングステン(tungsten hexafluoride)(WF6)の様なメタライズ用プロセスガス(metallizing process gas)から蒸着され、もう1つのプロセスガスから蒸着された絶縁材料により次層から分離される。該プロセスガスは加圧源(pressurized supplies)から離散流れサイクル(discrete flow cycles)で又は”バッチ式”に供給されるのが典型的で、そこでは交互の流れと無流れのモード(alternate flow and no-flow modes)で動作する種類の供給システムを要する。
【0011】
この様な種類の代表的供給システム(representative delivery system)は図1の略図で10で示される。図1を参照すると、供給システム10は従来、1連の、ガス源(gas supply)12,空圧式分離弁(pneumatic isolation valve)、14、圧力調整器(pressure regulator)、16、圧力変換器(pressure transducer)、18,手動弁(manual valve)、20、質量流れ制御器(mass flow controller)、22、そして空圧式オン/オフ弁(pneumatic on/off valve)、24を含むのが見られる。システム10を通しての流体流れは矢印30で参照される方向にある。
【0012】
供給サイクルの始動(initiation)の前に、システム10はスタートアップ/スタンバイ又は”無流れ”動作モードにありそこでは空圧式弁14と24は閉じるよう命じられ、手動弁20は開いて設定され、そして質量流れ制御器22はゼロに設定される。”流れ”又は供給動作モードの始動では、空圧式弁14と24とが開くよう命じられ質量流れ制御器22は望ましい流量での制御流れに設定される。その後、該流れモードの終了では、該空圧式弁14と24とは閉じるよう命じられ該質量流れ制御器22の設定はゼロに戻される。両動作モード中は何時も、該圧力調整器16は望ましい調整圧力に設定され、源又は入り口圧力は該調整器の入り口に32に供給されそして出口又は供給圧力は該調整器の出口34から質量流れ制御器22へ供給される。
【0013】
実際、システム10の様な流体システム内で、低い又は無流れから比較的高い流れまでの該システムの動作モード間で変わるガス流量要求にも拘わらず概ね一定のガス圧を保持する特別のニーヅがある。この点で、質量流れ制御器22の様な、これらのシステムで使われる流れ調整装置は、該装置の入り口で安定なガス圧力が保持出来れば、一般に高精度である。しかしながら、該供給システムの流れ要求の変化に付随する大きな圧力降下は、安定なガス圧力保持をそして、ひいては、流れ調整装置の該精度を保証することを難しくさせることが多い。終局的に該プロセスの欠陥率(defect rate)とイールド(yield)が損なわれるよう影響される。
【0014】
更に、該供給モード(delivery mode)で流れが始動されるや否や調整器22の出口圧力は減少を始め、そしてそれが該調整器の設定に対応する値に到達するまで減少し続けることがシステム10の従来の動作に連携して観察されて来た。該圧力減少は2つの成分、すなわち”クリープ(creep)”成分と”ドループ(droop)成分とを含む。これらの成分の影響は図2を参照して評価されてもよく、そこではこれに含まれる種類の代表的圧力調整器の流れ曲線が与えられた入り口圧力の流量(R)の対数に対する出口圧力(Po)の関数として40でプロットされる。矢印42で参照される方向で流量が約50から10、000×10-3l/minへ増加すると、該ドループ成分は該流量に比例した圧力降下で表される。翻って、該クリープ成分は、該流量がゼロから約20−50×10-3l/minの少ない値に増加すると圧力降下として表されるか、又は代わって該流れが20−50×10-3l/minからゼロに減少すると矢印44により参照される方向で圧力増加で表される。
【0015】
従って調整器の該”クリープ(creep)”は該流れが小さな値から無流れ条件に減少した時一定出口圧力を保持するその能力と規定される。この点で、シート用材料(seating material)のコールドフロー(cold flow)又は他の変形の結果として、何れの圧力調整器の内部弁もゼロ流れ条件で絶対的な流体不浸透性シール(absolutely fluid-tight seal)を作ることが出来ない。従って該調整器の出口圧力は時間が経つとゆっくり増加することが観察される。出口圧力のこの増加は該加圧ガス源からの該調整器への入り口圧力の対応した減少に伴われる。終局的に、該入り口での圧力と出口圧力は、初期出口圧力より高く該初期入り口圧力より低い値で等しくなる。該出口圧力の増加は該無流れ条件の初期の該入り口及び出口圧力間の初期圧力差の関数(function of the initial pressure differential between the inlet and outlet pressures)である。増加率は一般的に非線形で時間が経つと減少し、すなわち該出口圧力が約68.948hPa(1ピーエスアイ)だけ増加するのに30秒、約137.896hPa(2ピーエスアイ)に3分そして約206.844hPa(3ピーエスアイ)に30分かかる。
【0016】
図1のシステム10の様な流体システムの動作へのクリープの影響は、該出口圧力がより高い、クリープが誘起される無流れ値から、調整器設定により決定されるより低い、動作又は設定値まで減少せねばならないので、定常流れに到達するために該システムの応答時間を増すことである。該出口圧力が該調整器の設定点の値まで到達するために必要な時間は該流量と、該調整器16と該質量流れ制御器22との間の流体容積と、の関数である。例えば、すなわち約1、172.116hPa(17ピーエスアイ)から約1、934.22hPa(15ピーエスアイ)の標準動作圧力までの約137.896hPa(2ピーエスアイ)の減少は8×10-3lの典型的な流体容積と200×10-3l/minの流量用で約0.3秒要する。しかしながら、より低い流量、すなわち、20−50×10-3l/minでは該応答時間は可成りに、すなわち1−3秒になり、1秒より短い応答が一般的に望ましいので受け入れ不可能でさえある。
【0017】
別の、しかし同様に重要な考慮点は該出口圧力が流量のステップ変化に応答して定常状態条件に近付く仕方である。すなわち、もし該出口圧力応答が線形でないが、幾らかのオーバーシュート(overshoot)とリカバリー(recovery)を有して振動的(oscillatory)であるなら、望ましい1秒の時間内に該質量流れ制御器への定常状態流れを確立することは不可能である。この点で、該質量流れ制御器の動作は圧力オーバーシュートで起こる圧力逆転により悪影響を受けることが知られている。該クリープで誘起される無流れ弁から該動作設定点までの該出口圧力減少が大きい程、該圧力オーバーシュートの可能性を増加させる。
【0018】
前記を見れば、プロセスガス供給及び他のバス(bath)プロセス用圧力調整器の設計の更に進んだ改良が半導体製造産業により特に歓迎されることは評価される。無流れから該流体回路の流れ条件への圧力オーバーシュートのない急速応答を提供し、かくしてバッチ当たりのより高いイールドに対しプロセスガスの使用を節約する調整器が特に望まれている。
【0019】
【発明の概要】
本発明は流体圧力調整器構造と同品の動作方法に広く向けられている。特に、本発明は半導体プロセス産業に於いてのみならず流れ及び無流れ動作モードを有する他の応用に於いても見出される様な加圧ガスのバッチ式供給用に、例えば、流体システムで使用される時、改良された応答を提供する制御された差動的圧力能力を可能にするダイアフラム型調整器(diaphragm-type regulator)の構造と方法に向けられている。この様な能力は差動的圧力が主圧力設定力(main pressure setting force)から独立に該調整器のダイアフラムに印加されることを可能にする。結果として、本発明の調整器は、圧力オーバーシュート他のシステム不安定化ヒステレシス効果無し(without pressure overshoot other system de-stabilizing hysteresis effects)の定常流れへのより急激な接近用に該出口圧力へのクリープの影響を取り除くか又は少なくとも最小化する仕方で動作する。
【0020】
本発明の指針に依れば、その調整器は従来の仕方で流体システム内で動作するが例外は、出口圧力設定が、手動調節可能な主圧力設定力と、空圧的に又はもう1つの圧力信号により制御される別の、差動的力(differential force)と、の両者で決定されることである。この点で、該主圧力設定力は、該出口流れが質量流れ制御器又は他の該流体システムの流れ要素用に指定された該出口圧力よりインクレメンタルに小さな出口圧力に調整されるように調節される。流れモードでの該システムの動作のスタート付近では、該差動的力は、該流体流れが概略該指定された出口圧力である出口圧力に該システムの流れモードで調整されるように、該主圧力設定力と同じ方向で該ダイアフラムに印加される。その後、該流れモードの該システムの動作の終わり、すなわち該無流れモードの始め付近で該差動的力の印加は終了する。この方法で、代用的クリープ効果(ersatz creep effect)は、該出口圧力が該システムの無流れモードで該指定値に概略等しいか、又はほんの僅かより大きい値で、ずっと、保持されたと、酷似したものになる。従って、該差動的力に応答して該出口圧力が立ち上がる前に該差動的力が再印加され、該システム流れが始動させられると、定常状態動作に急速に近づき、該流量が増加した時出口圧力内の僅かのドループ減少が出口圧力にあるに過ぎずそして、結果として実質的に圧力オーバーシュートはない。従って、例えば、半導体の製造で使われると、本発明の調整器と方法はバッチ当たりのより高いイールドに対してプロセスガスの使用を節約する。
【0021】
好ましい実施例では、本発明の該調整器は該差動的力を印加するために空圧的な又は他の圧力の信号に応答するよう提供される。この点で、該調整器は該ダイアフラムと力伝達式に連携して結合された、ばねコイルでもよい別の圧縮可能なばね部材を有する。該ダイアフラムに該差動的力を印加するように該コイルを圧縮するために、ピストン部材が該圧縮可能な部材に動作可能に結合されるよう前記調整器内で受けられる。該ピストン部材は、該信号の入力圧力に比例する差動的力を前記ダイアフラムに印加するために、該圧力信号に応答して、普通に偏倚された(normally-biased)第1位置から該圧縮可能な部材の圧縮をもたらす第2位置まで該調整器の縦軸線に沿って変位可能である。有利なことは、該信号は該差動的力の印加が該システムの流れモードと同時期の始動となるように該流体システムの該調整器と空圧式弁との両者に供給されるべく制御されることである。
【0022】
従って本発明は、下記詳細な開示で例示される装置と、構造、要素組み合わせ、そして部品及び過程の配置とを具備している。本発明の利点は、より速い圧力応答と定常状態動作用として交互の流れ及び無流れモードで動作する流体システムで使用時圧力クリープを最小化する圧力調整器と同品の動作させる方法とを含んでいる。追加的利点は一般的に頑丈で製造が経済で、多数段、電子制御、又は追加的弁及びより安定な動作用に従来必要な部品の必要性を除く調整器構造を含んでいる。これら及び他の利点はここに含まれる開示に基づけば当業者には容易に明らかになるであろう。
【0023】
【本発明の詳細な説明】
何等か限定する目的よりむしろ便宜のために、或る用語が、下記説明で使用される。例えば、用語”前方向(forward)”、後方向(rearward)”、”右”、”左”、”上部(upper)”、”下部(lower)”は、参照される図面内の方向を称し、用語”内側”、”内部”又は”機内”そして”外側”、”外部”又は”機外”は、それぞれ、参照要素の中央に向かう及び離れる方向を称し、用語”半径方向”そして”軸方向”は、それぞれ、該参照要素の縦中央軸線に対し直角及び平行な方向又は平面を称し、そして用語”下流”及び”上流”は、それぞれ、流体流れのそれに対し同じ又は反対の方向を称する。上記で特定的に述べられた用語の他の同様な意味の用語は同じく何等か限定する意味でよりむしろ便宜的な目的で使用されていると考慮すべきである。
【0024】
下記議論の目的のために、ここに含まれる本発明の、該圧力調整器と、その制御された差動的設定動作の指針を、図1に示す供給回路の様な、源から加圧ガスがバッチ式に供給される、流体システム内でのこの様な調整器の使用法と連携して説明する。しかしながら、本発明の側面が交互の流れと無流れのモードで動作する他の流体システムでも応用されることは評価されよう。従ってこの様な他の応用での利用は明確に本発明の範囲内にあると考えられるべきである。
【0025】
幾つかの図を通して対応する要素を呼称するために対応する参照番号が使用されているが、図3の断面図を参照すると、本発明の流体圧力調整器が全体で50で示される。基本構造では、調整器50は、概ね環状の、上部キャップ部分、54と下部ボデイ部分56とを有する、52で参照されるハウジングを備える。ボデイ56のおねじを切られた上部端部、62とのねじ結合のために、キャップ、54のフランジ付き下部端部、60の上で付随ナット、58、が受けられている。キャップとボデイ部分54、56はそれらによりハウジング52内に、内部室、63を規定するよう係合する。上部及び下部支持プレート、64,65は、それぞれ、他の調整器部品を支持するために該キャップ及びボデイ部分、54,56間にクランプされる。プレート、64,65の各々はそれぞれ中央開口部、66,67を有するよう形成される。更にプレート65は、それらの1つが68で参照される、複数の軸線方向に貫通するボア又はチャンネルを有するよう形成され、そして該調整器50を通り流れるガス又は他の流体の漏洩に対しバックアップのシールをもたらすために、ボデイ56の隆起環状面、69と圧縮式に係合するよう作られている。
【0026】
ハウジング52のボデイ部分56自身は内部流体通路、70を有するよう形成されており、それは、各々がボデイ56の軸線方向面72からその上部半径方向面73へ延びる概ねL字型の上流及び下流部分71a及び71bに分かれている。流体通路70自身は矢印76で参照される方向に通り抜ける流体の流れ用に該調整器の入り口、74及び出口、75間に延びている。図1の流体回路10内には、ガスの高圧流れが源12から調整器入り口74へ供給され、そして調整された、より低い圧力の流れが調整器出口75から質量流れ制御器22へ供給される。この点で、調整器入り口74は弁14を経由して源12と流体的に連通して結合されており、出口75は弁20を経由して質量流れ制御器22に流体的に連通して結合されている。従って入り口74と出口75の各々は、図示の様に、それぞれフランジ付き延長配管(flanged tubing extension)76a−bの様に構成され、それらはボデイ部分56とロー付けされる(brazed)か又は他の仕方で接合される。流体回路10内の結合用に、延長部76aは付随雌嵌合コネクター、78を有するよう示され、延長部76bは付随雌コネクター、80を有するよう示される。
【0027】
通路70を通る流体流れを制御するために、室(chamber)63はポペット(popet)、82、及び付随弁シート(associated valve seat)、84、を有する弁作用組立体(valving assembly)を収容するが、該弁シートは、通路70の上流支持プレート71a上に支持され、下部支持プレート65の中央開口部67と通路部分71aの開口部との間でボデイ部分56の上部半径方向面73内へクランプされた、デイスクに依る様に、通路70内に規定されている。弁シート84は上流側、86、と下流側、88、を有するよう流れ方向76に対し配向され、室63の下部プレナム(lower plenum)92内への流体圧受け入れ用にアパーチャ90を有し、該プレナムは下部支持プレート65により部分的に規定される。プレナム92からのそして通路70の下流部分71b内への流れはプレートチャンネル69を経由して受け入れられる。弁シートデイスク84用該デイスクは好ましくはプラスチック又は他のポリマー材料、最も好ましくはケルエフアール(Kel-FR){ミネソタ州、セントポールの、スリーエム(3M,St.Paul.,MN)}の様なフルオロポリマー(fluoropolymer)で形成されるのが良い。
【0028】
ポペット82は、その無流れモードで流体システム10(図1)の動作用に流体流れに対し通路70を閉じる第1位置(図3に示す)と、その流れモードでのシステム10の動作用に通路70の通る流体流れをスロットルする可変第2位置(variable second position)と、の間で調整器50の中央縦軸線、94に沿って移動出来る。弁シート84との協同のために、ポペット82は、弁シート84の上流側86に相対して配置された、下部ヘッド部分(lower head portion)、96から、今度は、ヘッド部分96に結合された下部の近位の端部、100から上部の遠位の端部、102までアパーチャ90及び下部プレート開口部67を通して軸線94に沿って、延びる上部の、長いステム部分(upper elongate stem)、98まで、軸線94に沿って延びるよう提供される。ポペットヘッド部分96は、アパーチャ90の相対的寸法を環状で変え、従って、該可変第2ポペット位置で弁シート84の方へ又はそれから離れるよう動かされた時、該調整器を通る流量を変えるように、図示の様に概ね円錐形の様な、形状をしている。
【0029】
軸線94に沿うポペット82の移動の制御のために、ダイアフラム、110、は、プレナム92の柔軟な上壁を規定するべく通路70と流体的に連通して配置されるよう、そしてポペット82と力伝達式に接触して結合されるよう、室63内に受けられる。ダイアフラム10は従来の1つ又は多数ピース構造であり、周辺に延びる、概ね柔軟な”膜(membrane)”部分112を有するが、それは、アルミニウム、鋼、又は他の金属箔(metal foil)の薄い、コルゲートされた(corrugated)シートから構成されてもよい。膜部分112は外縁まで外方へ半径方向に延びるが、該縁は該ダイアフラム110の外周を規定しそして該膜110の室63内への設置用に上部及び下部プレート64、65間にクランプされている。ダイアフラム110の2ピース構造では、膜部分112はバックアップ部分114に溶接されるか、ボンド(bonded)されるか、又は他の仕方で取付られるが、該バックアップ部分は該膜112を支持しており、そして内部中央通路、116、及び外部肩部、118を有する円筒形延長部、115,を規定しつつそこからプレート64の開口部66を通って軸線方向に延びている。通路116はポペットステム98の遠位の端部102を受けるよう構成され、ステム98の雄ねじ部分120と係合するためめねじを切られてもよい。その様に室63内に受け入れられ、ダイアフラム110は、調整器50への流体流れの入り口圧力(Pi)と出口流体圧力(Po)との比例している、そしてポペット82を流体流れに対し通路70を閉じるその第1位置の方へ動かすよう122で参照される方向に印加される、流体圧力の力に応答するよう提供される。気圧(Pa)がそれぞれキャップ54とナット58を通して形成されるポート124及び126を経由してダイアフラム110の下流側上で室63内に導入される。
【0030】
127で全体的に参照される、主圧力設定組立体(main pressure setting assembly)は、該流体圧力の力122に相対するためそしてポペット82を流体流れに対し通路70を開くその第2位置の方に動かすために、128で参照される方向にダイアフラム110にバランスさせる力を印加するよう駆動可能(actuable)である。この様な力128は、少なくとも部分的には、130で仮想的に示す、主コイルばね、又は室63内で受けられた他の弾性部材の調節可能な圧縮により展開される。図3の図解された実施例では、ダイアフラム110と、軸線94に沿って並進可能になっている手動調節可能のノブ、132との間での圧縮用に、ばね130が軸線94と同軸に配置されている。調整器50のコンパクトな設計用に、ノブ132は134に於ける様に雄ねじが切られ、その雌ねじ部分、136とねじ式に回転可能に係合されるようキャップ54内に収容されている。図4に示す圧力設定組立体127の拡大正面図の瞬間的参照で最も良く分かる様に、キャップ54は窓140を有して提供され(図3でも仮想的に示されている)、該窓を通してノブ132のローレット切り部分(knurled portion)、142は、手でアクセス出来るように提供される。
【0031】
図3の断面図に戻ると、ばね130は上部リテーナー、150,及び下部リテーナー、152、の間に配置されるよう室63内で受けられるのが見られる。上部ばねリテーナー150は概ねデイスク形で、ノブ132のスラスト部分、154と隣接する、力伝達式接触をするよう配置されている。下部ばねリテーナー152は概ね円筒形で、そのおねじ部分156と力伝達式接触をしてねじ式に係合されるようダイアフラムバックアップ延長部115上に同軸に受けられる。リテーナー152はナット160で延長部115上に締結され、該ナットは付随Oリング、162を有し、該Oリング上にはばね130の下端が該ばねの軸線94と同軸整合を助けるために摩擦嵌合(friction fit)されている。該延長部上で該リテーナーの移動の範囲を決めるために圧縮リング、164又は他のスペーサーが延長部115上でリテーナー152を用いて受けられてもよい。
【0032】
矢印122の方向でのダイアフラム110への追加的力の印加用に、170で仮想的に図示する、波形ばね(wave spring)又は他の圧縮可能な部材がリテーナー152上で同軸的に受けられる。ばね170はその間の圧縮用の上部支持プレート64とリテーナー152の半径方向に外方に延びるフランジ部分、172との上に支持される。ばね170のこの様な圧縮は、圧力設定力128が無い時流体通路70が普通閉じるようにポペット82をその第1位置の方へ更に動かす偏倚力を提供する。ポペット82のその第1及び第2位置間の移動は、リテーナー152とプレート64との間の圧縮用にダイアフラム延長部115上で同軸に受けられた圧縮可能なフオームワッシャー(foam washer)、174で減衰される。その第2位置のポペット82の圧力設定力128の印加による変位はリテーナー152の下部停止面、176のプレート64との突き合わせ的係合により範囲を決められる。
【0033】
調整器50は更に全体を180で参照される差動的圧力組立体(differential pressure assembly)を有する。本発明の指針に依れば、差動的圧力組立体180は、差動的力を、第2コイルばね部材、181、の圧縮を介しての様に、矢印128の方向でダイアフラム110へ印加し更にポペット82を流体流れへの通路70を開く第2位置の方へ動かすために該主圧力設定組立体127から独立に駆動され得るよう提供される。図3の図解された実施例では、差動的圧力組立体180は与えられた入り口圧力(Ps)の空圧的オン/オフ制御信号(pneumatic on/off control signal)に応答して駆動可能であり、該入り口圧力は、好ましくは、図1の流体システム10の空圧式弁14及び24の動作で従来使用されたと同じレベルであるべき約2、757.92−4、136.88hPa(約40−60ピーエスアイジー)の間にあるのがよい。組立体180のみならずシステム10の弁14及び24への信号は、例えば、空圧的3方弁(pneumatic 3-way valve)(図示せず)の共通の制御下で提供される。
【0034】
圧力制御信号は、例えば、上述の3方弁又は他の制御信号源への配管又は他の接続用に構成された雌の端部、184と調整器ハウジング52のアダプター、190、とのねじ式接続用に構成された雄の端部、186とを有する配管又は他の接続部品、182を経由して調整器50へ受け入れられる。アダプター190は、今度は、キャップ54の雌ねじを切られた上部端部、194、とねじ接続するよう構成された雄の端部、192と、嵌合端部186の寸法により、ブッシング(bushing)又は他のレジューサー(reducer)、198を介してそれに接続される雌の端部、196とを有する。アダプター190の雌の端部196は更に、ハウジング52内で第2室、202を規定する内部端部壁200へ延びる凹部を有するよう構成される。該アダプターの雄の端部192は更に、軸線94に沿って該ノブをガイドするのに役立つノブ132の概ね円筒形の深座ぐり孔(counter bore)206内に嵌合される長いガイド部分、204,を有するよう構成される。
【0035】
第2ばね部材181の圧縮を制御するために、付随Oリング又は他のシール又はパッキングリング、211、を有するピストン、210は、室202の下部端部壁200と上部端部壁、212、の間で変位可能なように室202内で受けられる。上部端部壁212は、アダプター190とレジューサー198との共通の開口部、214,の付近に、レジューサー198の内部肩部部分を半径方向に内方に延ばすことによる様に、規定されるが、該開口部214は信号流体圧力を室202内に受け入れるポートとして機能する。
【0036】
ピストン210は長い力伝達部材、220を介してばね181に動作的に結合される。この様な部材220は、ピストン220と突き合わせ接触して配置された上部端部224から、ばね181と突き合わせ接触して配置された下部端部、226まで、アダプター190,ノブ132,そしてばねリテーナー150の各々を通して形成された中央ボア(central bore)、222を通して同軸状に受けられるよう、軸線94に沿って延びる。ばね181自身は、その肩部部分118と、ばね181及び長い部材220の下部端部226の間に間挿された逆U字型リテーナー(inverted U-shaped retainer)228と間での圧縮用に、ダイアフラム延長部115上に設置されるように、主圧力設定ばね130内に同軸に配置される。
【0037】
室202内では、ピストン210は、開口部213を通して受け入れられそして該ピストンの上部面、230、に印加される該制御圧力信号に応答して駆動可能である。すなわち、ピストン210は普通の偏倚された上部位置から図3に示す下部位置まで軸線94に沿って変位可能である。ピストンをその上部位置に偏倚させるために、圧縮可能なばねコイル、232、はアダプター下部端部壁200に対して圧縮するためにピストンの下面236内に形成された凹部、234内で受けられる。その下部位置では、ピストン210は長い部材220を押し下げ、該部材は、今度は、約206.844−274.592hPa(約3−4ピーエスアイジー)の間にある差動的力をダイアフラム10に印加するばね181の圧縮をもたらす。この方法で、差動的力の制御された印加が該主圧力設定力の印加から独立して達成される。
【0038】
ばね181により印加される力は、それが主圧力設定を変えることなく該調整器出口圧力の比例的変化をもたらす階段関数(step function)として印加されてもよい点で”微分的(differential)”である。例えば、調整器50の該主圧力設定127が約0−2068.44hPa(約0−30ピーエスアイ)の間の範囲に調節されていて、差動的圧力組立体180は有効調整器設定を公称約206.844hPa(3ピーエスアイ)だけ増加するよう制御信号により駆動可能である。もし望むなら、該制御信号の圧力は該差動的力での概ね比例的増加又は減少をもたらすよう調節されてもよい。
【0039】
次ぎに、図1のバッチ式ガス供給回路の様な代表的流体回路内で使われる本発明の調整器50の動作を考えると、図5を追加的に参照するが、そこではこの様な回路内の調整器50の典型的応答が、時間(t)対出口圧力(Po)の対数プロットとして250にグラフ式に描かれている。約2、068.44−34、474hPa(約30−500ピーエスアイ)の間の与えられた入り口流体圧力、そして約1、034.22hPa(約15ピーエスアイ)の指定出口圧力設定点に対して、該システムは流れモードで時刻t0の前に動作させられる。この様なモードでは、ガスは、例えば、200×10-3l/minの定常流量と、約1、020.43hPa(約14.8ピーエスアイ)の調整された出口圧力で調整器50を通して供給される。この様な圧力が、約827.38hPa(12ピーエスアイ)の公称圧力に調節された該調整器50の主圧力設定の制御下で、そして公称約206.844hPa(3ピーエスアイ)の差動的圧力を印加するよう該調整器に信号圧力が供給されて、もたらされた。該主圧力及び差動的圧力の両者は、例えば、50ピーエスアイのより低い流量で設定されてもよい。この点で、該流量が無流れ又は低流れからその定常状態流れに増加した時定常流れの実際の調整器出口圧力が”ドロップ(drop)”(図2参照)の効果のため該設定点より約13.8hPa(約0.2ピーエスアイ)少ないことが注目される。
【0040】
約時刻t0では、該流れモードの終了に対応して、該質量流れ制御器22(図1)は”オフ”と命じられる。その直ぐ後、すなわち、0.5秒以下の後、空圧式オン/オフ弁24は流体流れが定常状態流量からゼロに減少するように閉じるべく駆動される。弁24の駆動と概ね同時に、該差動的圧力を除去するために調整器50への信号圧力が遮断される。この点で、弁24と調整器50の動作は共通の信号圧力の制御下で同期化されてもよい。
【0041】
該差動的圧力が除去されて、調整器50の設定は有効に約827.376hPa(約12ピーエスアイ)に減少させられる。該出口圧力が約1、020.43hPa(約14.8ピーエスアイ)の動作圧力に留まるから、該調整器は該出口圧力が実質的に約1、020.43hPa(14.8ピーエスアイ)に保持されるように閉じる。無流れ期間の長さ及び/又は、該無流れモードが始動される時と該調整器の閉じ動作をもたらすよう該制御圧信号が除去される時の間の、典型的には0.5秒の、期間(interval)に依って、該出口圧力は該期間Δt0に亘り、僅かに、恐らくは約1、034.22hPa(15ピーエスアイ)に増加する。しかしながら、制御された差動的圧力のために、例え該システムが非常の長い期間、すなわち1時間以上、該流れモード間で動作させられても、感知される程のクリープ効果は現れないことは評価される。
【0042】
次いでトレース250に沿って続け、次の流れモードの始動に対応して、時刻t1で、該圧力信号が、弁24を開き、該調整器に差動的力を再印加するよう再開される。その後直ぐ、該質量流れ制御器22は再び流れを制御するよう命じられる。この様な動作で、流れは、約827.376hPa(12ピーエスアイ)から約1、034.22hPa(15ピーエスアイ)への該調整器設定の有効な変化から誘起されるクリープの結果として該出口圧力での何等かの感知される増加の前にゼロから定常状態値に増加される。かくして、該流量が増加すると、該出口圧力は、約0.5秒以下の非常に短い期間Δt1内に該動作圧力に速く安定するために約13.80hPa(約0.2ピーエスアイ)減少するだけである。重要なことは、オーバーシュート(overshoot)又は他の振動的効果が観察されないので、ゼロから定常状態流れへの移行が1秒以下で確立出来ることである。
【0043】
比較の目的で、約1、034.22hPa(15ピーエスアイ)の一定圧力設定で従来式に動作する調整器の圧力トレースが250’で示される。時刻t0でそして100秒以上の期間Δt0’に亘り続けると、該出口圧力のトレース250’は該動作圧から約137.896hPa(約2ピーエスアイ)だけ増加することが気付かれる。本発明の弁50についての約13.80hPa(0.2ピーエスアイ)の増加に比して、この様な増加は可成りであり、それは幾らかのオーバーシュート又は他の振動的結果が明らかである1.5秒以上の期間Δt1’がそうであるのと同様である。
【0044】
かくして、ユニークで効率的な流体圧力調整器構造と動作方法を説明したが、それは圧力クリープの影響を和らげそして、それは、交互の流れと無流れのモードで動作する流体システムで使用時、改良されたプロセスガス使用や他のシステム経済性のためのより速い圧力応答及び定常状態動作を可能にする。
【0045】
他の仕方の指定がなければ、構造材料は関与する使用法で従来考えられたものとすべきである。この様な材料は概ね耐食性でありそして輸送される流体との両立性又は望ましい機械的特性用に他の仕方で選択される。
【0046】
或る種の変更がここに含まれる指針から離れることなく本発明内で行われることが予想されるが、前記説明に含まれる全ての内容は限定する意味よりも図解的なものとして解釈されるよう意図されている。ここで行われた引用は全て引用により組み入れられるよう表明するものである。
【0047】
本発明の性質と目的とのより充分な理解用には、付属する図面と連携して行われる上記詳細な説明を参照されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 源から半導体製造用工具(semiconductor manufacturing tool)への加圧プロセスガスの調整された、バッチ式流れを供給するために本発明と連携して使用される代表的流体回路の略図的線図である。
【図2】 ダイアフラム型圧力調整器用の与えられた入り口又は源の圧力で典型的流れカーブであり、該カーブは流量に対する該調整器出口圧力又は供給圧力の対数プロットとして示されている。
【図3】 本発明のダイアフラム型圧力調整器の代表的実施例の断面図であり、それは手動調節可能な主圧力設定組立体と該主圧力設定力から独立に該調整器ダイアフラム上に差動的力を印加するために駆動可能な空圧的に制御可能な差動的圧力組立体を含んでいる。
【図4】 図3の調整器の拡大図であり、その手動主圧力設定調節部を更に詳細に示す。
【図5】 制御された差動的圧力設定を有する本発明で動作する調整器の代表的圧力応答であり、該応答は、時間の周期的関数としてトレースされた調整器出口圧力として、そして一定圧力設定で従来式に動作する調整器の応答と比較して示される。
該図面は上記本発明の詳細な説明と連携して更に説明される。
Claims (5)
- 加圧流体源を有する流体システム(10)内で使用する流体圧力調整器(50)であって、前記加圧流体源と流体的に連通して接続可能な入り口(74)と出口(75)とを有し、そして前記流体システム(10)が、指定された出口圧力で前記流体圧力調整器(50)の出口(75)から前記加圧流体の流れが供給されるべき流れモードと、交互に、無流れモードと、で動作可能であり、
前記流体の通過流れ用に該入り口(74)と前記調整器(50)の出口(75)との間に規定された流体通路(70)と、
前記無流れモードでの前記流体システム(10)の動作用に前記流体の流れに対して前記流体通路(70)を閉じる第1位置と、前記流れモードでの前記流体システム(10)の動作用に前記流体通路(70)を通る前記流体の流れをスロットルする可変的な第2位置との間で前記調整器(50)の縦軸線(94)に沿い移動可能な弁要素(82)を有する弁組立体と、
前記弁要素(82)と力伝達式に連携して結合され、前記流体の流体圧力の力がそれに印加されるように前記流体通路(70)に流体的に連通して配置されたダイアフラム(110)とを具備しており、前記流体圧力は前記弁要素(82)を前記第1位置の方へ動かす第1方向で前記ダイアフラム(110)に印加されており、
前記弁要素(82)を前記第2位置の方へ動かすよう前記第1方向と反対の第2方向に選択出口圧力設定力を前記ダイアフラム(110)に印加するための調節可能な主圧力設定組立体(127)とを更に具備している流体圧力調整器(50)において、
主圧力設定組立体(127)は、縦軸線(94)に沿って回転可能式に変位可能な手動調節ノブと、該手動調節ノブと前記ダイアフラム(110)組立体との間に間挿された第1ばね部材(130)として形成された圧縮可能な部材とを備えており、前記圧縮可能な部材(130)は、前記ダイアフラム(110)組立体に前記選択出口圧力設定力を印加するために前記手動調節ノブの縦軸線(94)に沿った変位により圧縮され、
前記流体通路(70)が中に形成される下部ボデイ(56)、及び頂部端部と前記ボデイ(56)に結合された底部端部と与えられた入力圧力の空圧的制御信号を受けるための信号ポートと
前記頂部及び底部端部間に形成された開口部(140)とを有する上部キャップ(54)を備え、前記ノブが前記開口部(140)を通して手動的にアクセス可能なように前記キャップ(54)内にねじ式に受けられるハウジング(52)、及び
制御信号に応じて前記弁要素(82)を前記第2位置の方へ更に動かすように前記第2方向に差動的力を前記ダイアフラム(110)に印加するため駆動可能であり、前記差動的力が前記出口圧力設定力から独立して前記ダイアフラム(110)に印加される差動的圧力組立体(180)、を具備しており、
前記差動的圧力組立体(180)は、
前記第1ばね部材(130)内に同軸状に配置され、前記ダイアフラム(110)組立体と力伝達式に連携して結合された第2ばね部材(181)と、
前記信号ポートと前記ノブとの間で前記キャップ(54)内に受けられて前記圧縮可能な部材(130)に動作的に結合され、前記制御信号の入力圧力に比例した前記差動的力を前記ダイアフラム(110)組立体に印加するために、前記制御信号に応答して、普通に偏倚された位置から前記圧縮可能な部材(130)の圧縮をもたらす変位位置まで前記縦軸線(94)に沿い変位可能であるピストン部材(210)と、
前記ピストン部材(210)の変位に応答してそれと圧縮性接触をするために、前記ピストン部材(210)と係合する第1端部から前記第2ばね部材(181)と係合する第2端部まで、前記ノブ及び前記第1ばね部材(130)を同軸に通って前記縦軸線(94)に沿って延びる長い力伝達部材(220)と、を備えており、
前記ダイアフラム(110)は、前記第1又は第2位置で前記弁要素(82)をバランスさせるために該流体圧力の力と出口圧力設定力と差動的力との正味の和に応答することを特徴とする流体圧力調整器(50)。 - 前記差動的圧力組立体(180)は与えられた入力圧力の空圧的前記制御信号により駆動可能であり、そして前記差動的圧力組立体(180)は、
前記ダイアフラム(110)と力伝達式に連携して結合された圧縮可能な部材(181)と、
前記調整器(50)内に受けられ前記圧縮可能な部材(181)と動作可能に結合されたピストン部材(210)とを備えており、前記ピストン部材(210)は、前記制御信号の入力圧力に比例した前記差動的力を前記ダイアフラム(110)に印加するために、前記制御信号に応答して、普通に偏倚された位置から前記圧縮可能な部材(181)の圧縮をもたらす変位位置まで前記縦軸線(94)に沿って変位可能であることを特徴とする請求項1に記載の流体圧力調整器。 - 前記弁要素(82)を前記第1位置の方へ更に動かすよう前記第1方向に偏倚力を前記ダイアフラム(110)に印加するために偏倚部材を具備しており、前記ダイアフラム(110)が更に、前記第1位置又は前記第2位置でバランスされるよう前記偏倚力に応答することを特徴とする請求項1に記載の流体圧力調整器。
- 前記弁組立体は前記通路(70)内に規定された弁シート(84)を備えており、前記弁シート(84)は前記ダイアフラム(110)組立体への前記流体圧を受け入れるためのアパーチャ(90)を有し、前記流体の流れの方向に対し上流側(86)と下流側(88)とを有するよう配向されており、
前記弁要素(82)は前記アパーチャ(90)の上流側(86)に相対して配置され、前記アパーチャ(90)の方へ及びそれから離れる方へ前記縦軸線(94)に沿って動く時前記アパーチャ(90)の相対的寸法を変えるよう構成された下部ヘッド部分(96)を有するよう、そして前記アパーチャ(90)を通して前記ダイアフラム(110)組立体と力伝達式接触に入るよう延びる上部ステム部分(98)を有するよう形成されていることを特徴とする請求項1に記載の流体圧力調整器。 - 前記ダイアフラム(110)は前記弁要素(82)ステム部分が中へ受けられる内部中央通路(116)と前記ピストン力伝達部材(220)によりそれを圧縮するために第2ばね部材(181)を支持する外部肩部部分(118)とを有するよう形成されることを特徴とする請求項4に記載の流体圧力調整器。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13329599P | 1999-05-10 | 1999-05-10 | |
US60/133,295 | 1999-05-10 | ||
PCT/US2000/010292 WO2000068753A1 (en) | 1999-05-10 | 2000-04-17 | Fluid pressure regulator with differential pressure setting control |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002544579A JP2002544579A (ja) | 2002-12-24 |
JP4443057B2 true JP4443057B2 (ja) | 2010-03-31 |
Family
ID=22457901
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000616473A Expired - Lifetime JP4443057B2 (ja) | 1999-05-10 | 2000-04-17 | 差動的圧力設定制御を有する流体圧力調整器 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6363959B1 (ja) |
JP (1) | JP4443057B2 (ja) |
TW (1) | TW436590B (ja) |
WO (1) | WO2000068753A1 (ja) |
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- 2000-04-17 JP JP2000616473A patent/JP4443057B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2000-04-19 US US09/553,161 patent/US6363959B1/en not_active Expired - Lifetime
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US6363959B1 (en) | 2002-04-02 |
JP2002544579A (ja) | 2002-12-24 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20080313 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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