JP4435969B2 - 作動波形の選択により微小機械格子装置におけるリボン素子を減衰させる方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、機械格子装置で入射光ビームを変調させることに係り、特に光ビームを回折させる機械格子装置の作動方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電気機械式空間光変調は、画像処理、ディスプレイ、光学式計算及び印刷などの多様な用途に用いられている。空間光変調用の電気機械式格子は、特許資料においてよく知られている。米国特許第５，３１１，３６０号、発効日：１９９４年５月１０日、Ｂｌｏｏｍら、「Ｍｅｔｈｏｄ ａｎｄ Ａｐｐａｒａｔｕｓ ｆｏｒ Ｍｏｄｕｌａｔｉｎｇ ａ Ｌｉｇｈｔ Ｂｅａｍ」、参照。格子光弁（ＧＬＶ）としてもよく知られるこの装置は、後にＢｌｏｏｍらによって構造の変更が説明された。この変更は、１）リボンと基板との間のスティクション（摩擦）を未然に防ぐために接触域を最小化するためのリボンの下の模様がつけられ隆起されたエリア、２）リボン間の間隔が減らされ、代わりのリボンが良好なコントラストを生成するように作動される代替装置設計、３）代わりのリボンを固定するための固体支持、及び４）浮遊された表面の回転によるろう付け格子を生成する代替装置設計、を含む。米国特許第５，４５９，６１０号、発効日：１９９５年１０月１７日、Ｂｌｏｏｍら、「Ｄｅｆｏｒｍａｂｌｅ ＧｒａｔｉｎｇＡｐｐａｒａｔｕｓ ｆｏｒ Ｍｏｄｕｌａｔｉｎｇ ａ Ｌｉｇｈｔ Ｂｅａｍ ａｎｄ Ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ Ｍｅａｎｓ ｆｏｒ ＯｂｖｉａｔｉｎｇＳｔｉｃｔｉｏｎ Ｂｅｔｗｅｅｎ Ｅｌｅｍｅｎｔｓ ａｎｄ Ｕｎｄｅｒｌｙｉｎｇ Ｓｕｂｓｔｒａｔｅ」、参照。
【０００３】
従来技術によれば、ＧＬＶ装置の作動中、接地平面とリボン層の上の導電層との間の単極性電圧差によって静電引力が生成される。この引力は、基盤に対するリボンの高さを変える。回折された光ビームの変調は、電圧波形を適切に選択することによって得られる。リボンを一定の距離動かすのに必要とされる電圧は、リボン材における応力、リボンと基盤との距離、及びリボンの長さなどの要因に因る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ＧＬＶ装置のリボン素子は、主にリボンの長さ、及びリボン材の密度及び張力に因る共鳴周波数を有することがよく知られている。例えば、ＰＨ．Ｄ Ｔｈｅｓｉｓ（Ｓｔａｎｆｏｒｄ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ）、「Ｓｉｌｉｃｏｎ Ｍｉｃｒｏｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ ｏｆ Ｇｒａｔｉｎｇ Ｌｉｇｈｔ Ｖａｌｖｅｓ」、Ｃｈａｐｔｅｒ ３、Ｆ．Ｓ．Ａ．Ｓａｎｄｅｊａｓ、 １９９５、参照。リボンが稼動される時、若しくは解放された時、リボンは共鳴周波数（通常は、１〜１５ＭＨｚの間）で共鳴する。リボン素子の機械的応答は、下記文献で説明されているように、雰囲気によって減衰される。文献：Ｐｒｏｃ． ｏｆ Ｓｏｌｉｄ−Ｓｔａｔｅ Ｓｅｎｓｏｒ ａｎｄ Ａｃｔｕａｔｏｒ ｗｏｒｋｓｈｏｐ Ｈｉｌｔｏｎ Ｈｅａｄ ＳＣ、「Ｓｑｕｅｅｚｅ Ｆｉｌｍ Ｄａｍｐｉｎｇ ｏｆ Ｄｏｕｂｌｅ Ｓｕｐｐｏｒｔｅｄ Ｒｉｂｂｏｎｓ ｉｎＮＯｂｌｅ Ｇａｓ Ａｔｍｏｓｐｈｅｒｅｓ」、ｐｐ．２８８〜２９１、１９８年６月８〜１１日、参照。この減衰は、提示された気体の種類及び圧力に因り、リボンの共鳴周波数に関連する共鳴ピークの幅を決定する。この共鳴の結果として、ＧＬＶ装置を作動させることができる最大周波数が制限され、回折光量に望まれない一時的な変動が含まれる。よって、向上された作動速度、及び低減された一時的な光量変動を有するＧＬＶ装置が必要である。
【０００５】
本発明の目的は、回折光量がリボン素子の共鳴によって生じる望まれない一時的な変動を一切含まないように電気機械格子装置のリボン素子を作動させ、よって装置がより高い周波数で作動できるようにより理想的な出力を生成する方法を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、底表面を定め、この底表面の下に形成された底導電層を有するチャネル上の電気機械リボン素子を減衰する方法であって、少なくとも一つのリボン素子に少なくとも一つの定振幅電圧パルスを提供する工程と、前記定振幅電圧パルスから狭い一時的なギャップによって分けられた制動パルスを少なくとも一つ前記リボン素子に提供する工程とを有する方法によって実現される。
【０００７】
本発明の別の態様によれば、上記目的は、底表面を定め、この底表面の下に形成された底導電層を有するチャネル上に浮遊される電気機械リボン素子を減衰させる方法であって、チャネルの底上空の浮遊され稼動された状態である前記リボン素子をチャネル内へ引き寄せる定振幅電圧パルスを少なくとも一つリボン素子の少なくとも一つに提供する工程と、初期制動パルスは前記定振幅電圧パルスにすぐ前に位置し、最終制動パルスは前記定振幅電圧パルスのすぐ後ろに位置するように２つの制動パルスを前記リボン素子に提供する工程とを有する方法によっても実現される。
【０００８】
本発明に掛かる方法の利点は、リボン素子の共鳴によって生じるあらゆる一時的な変動がほぼ削減される電気機械格子装置によって回折された光量である。この方法によって、ディスプレイ、写真仕上げプリンタ、及び光通信などの用途において特に重要な装置の高周波作動が可能になる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明の主題は図面に示された実施形態を参照して説明される。
【００１０】
図１ａ、１ｂ、及び２は、通常の格子抗弁（ｇｒａｔｉｎｇ ｌｉｇｈｔ ｖａｌｖｅ；ＧＬＶ）装置の構造を示す横断面図である。図１ａは、非稼動状態での装置のリボン構造を描写し、図１ｂは稼動された状態での構造を描写する。図２は、（図１ａに示されたのと）同じ装置の非稼動状態での図であるが、ＧＬＶのレイヤー積層に関する識見を提供するために９０度回転されている。図２を参照すると、例えば単結晶シリコン・ウェハ若しくはガラスである基盤２０が、通常設けられている。単結晶シリコン・ウェハの場合、最下層の導電層２２は、基盤２０の表面２３近くにシリコンを重く添加することによって生成される。基盤にガラスが用いられる場合、ガラス基盤２０の表面上の最下層導電層２２を堆積させることによって向上された導電性が実現される。導電層２２は、保護層２４によって覆われている。この保護層は、例えば熱酸化したシリコン基盤である。誘電スペーサ層２６は、保護層２４の上に形成され、ＧＬＶ装置の活性領域が配置されるチャネル２８を含む。チャネル２８は、スペーサ層２６の堆積厚さによって支配される深さを定める。スペーサ層２６は、上面レベル２７を定める。複数のリボン素子３１は、スペーサ層２６の上に形成されたリボン層３０から模様付けられている。例えば窒化珪素であるリボン層３０は、誘電物質を含み、導電・反射層３２によって覆われている。他のすべてのリボン素子３１の導電・反射層３２は、導電物質から成る厚い層３６で満たされた開口部３４を通じて最下層導電層２２と接続されている。リボン層３０の厚さ及び引張応力は、ＧＬＶのリボン素子３１の速度、共振周波数、及び電圧についての要求に影響し、作動及び戻り力に対して要求される静電力に影響を与えることによって性能を最適化するように選択される。
【００１１】
装置の作動に対して、最下層導電層２２とリボン層３０の上の導電・反射層３２との間の電圧差によって静電引力が生成される。非稼動状態（図１ａ参照）においては、電圧差がないため、ＧＬＶ装置におけるリボン素子３１はすべて基盤２０上に同じ高さで浮遊している。この状態において、入射光ビーム１４は、主に反射光ビーム１５として鏡方向に反射される。稼動された状態（図１ｂ参照）を得ることで、断続的な格子を作っている他のリボン素子のすべてに電圧が掛けられる。完全に稼動された状態において、他のリボン素子３１のすべてが保護層２４と接触する。隣接するリボン間の高さの差異が入射光ビーム１６の波長の１／４である場合、光ビームは主に１次オーダー１７及び−１次オーダー１８に回折される。設計により、１／４波長の高さの差異を得ることで、リボン素子３１を保護層２４と接触させすることができ、又保護層２４上に浮遊させることもできる。回折オーダーの一若しくは両方は、集められ、用途に応じて光学システム（図示せず）によって用いられることが可能である。別の方法として、０次反射オーダーを特定の光学システムで用いることも可能である。供与電圧が除去されると、引張応力及び曲げモーメントによる力が、リボン素子３１をそれらの元々の非稼動状態へ復元する。
【００１２】
図３ａ〜３ｃは、定振幅電圧パルス４０によって理想化されたリボン素子の作動のプロットを示す。定振幅電圧パルス４０は、図３ａに示されるように、１０Ｖ（ボルト）において２μｓｅｃ（マイクロ秒）の持続時間を有する時間の関数である。ここで、横座標は時間をμｓｅｃ単位で示し、縦座標は供与電圧をボルト単位で示す。リボン素子３１の電圧パルス４０に対する機械的位置応答は、図３ｂに示される。図３の横座標は時間をμｓｅｃ単位で示し、縦座標はリボン素子３１の機械的位置をナノメータ（ｎｍ）単位で示す。電圧パルス４０に電源が入れられると、リボン素子３１はＧＬＶ装置のチャネル２８内へ引き寄せられ、チャネル２８の底と接触するようになる。リボン素子３１は、定振幅電圧パルス４０が持続する間、（チャネル２８に引き寄せられ、チャネル２８の底と接触する）稼動位置に留まる。定振幅電圧パルス４０が止められる（２μｓｅｃ）やいなや、リボン素子３１はチャネル２８の底から解放され、初期の非稼動位置について共鳴運動４２で振動する。共鳴運動は、共鳴期間ｔＲ４３を有し、雰囲気によって減衰される。リボン素子３１は、通常の減衰関数によって支配される一定時間経過後に初期非稼動位置に安定する。リボン素子３１の作動から生じる±１次オーダーへ回折される光量の時間依存性が図３ｃに示される。ここで、横座標は時間をμｓｅｃ単位で示し、縦座標は±１次オーダーへ回折された入射光の量％を示す。回折量４４は、電圧パルス４０が持続する間は一定である。定振幅電圧パルス４０が止められた後、リボン素子３１の共鳴運動４２に関連する量変動４６が生じる。
【００１３】
リボン素子３１の共鳴運動及び関連する光量変動４６は、特定のシステム、特に光量の高周波変調を要求するシステム、において望まれない影響である。例えば、光量が高周波データ・ストリームによって変調されるデータ通信若しくはデータ記録用途において、一電圧パルスによって生じる残留共鳴が続く電圧パルスに対する応答に影響を与える。シンボル間干渉として時々知られるこの影響は、データの完全性についてマイナスの影響を有する。
【００１４】
これらの量変動の種類は、０次オーダーである反射光を利用するシステムにおいても生じる。図４ａ及び４ｂは、０次オーダーである反射光を集めるシステムにおいて、図１及び２に示された種類のＧＬＶ装置に電圧パルス４７が掛けられた場合の経験的結果を示す。図４ａにおける電圧パルス４７は、約０．５μｓｅｃの持続時間、及び約１６Ｖの振幅を有する。０次オーダーである反射光を測定する光検出器からの信号は図４ｂに示される（任意なユニット）。リボン素子３１へ電圧が掛けられていない場合、光のほとんどは０次オーダーへ反射され、０次オーダーの信号４８ａは高いレベルである。電圧パルス４７の間、０次オーダーの信号４８ｂは、一定で且つ低いレベルである。最適化された装置において、この低いレベルが０に近くなることが理想的である。電圧パルス４７が止められた後、リボン素子３１の共鳴運動のために量変動４８ｃが生じる。制動パルスを使用することでリボン素子３１の共鳴及び関連する量変動を大幅に低減させることができる。図５ａ〜５ｃは、定振幅電圧パルス５０に続いて制動パルス５２によってリボン素子３１の作動につき理想化されたプロットを示す。定振幅電圧パルス５０は、図５ａに示すように時間の関数であり、２μｓｅｃの持続時間と１０Ｖの電圧値を有する。定振幅電圧パルス５０の後直ちに、狭いギャップ５４によって定振幅電圧パルス５０から分かれた狭い制動パルス５２が掛けられる。ここで、ギャップ５４の幅は、制動パルス５２の幅をほぼ同じである。両幅ともに、リボン素子３１の振動期間の１／２より小さい。機械的位置の供与電圧パルス（定振幅電圧パルス５０及び制動パルス５２）に対するリボン素子３１の応答は、図５ｂに示される。横座標は時間をμｓｅｃ単位で示し、縦座標はリボン素子３１の機械的位置をナノメータ単位で示す。電圧パルス５０が掛けられると、リボン素子３１はＧＬＶ装置のチャネル２８内へ引き寄せられ、チャネル２８の底と接触するようになる。リボン素子３１は、定振幅電圧パルス５０が持続している間、稼動位置に留まる。電圧パルス５０が止められるやいなや、リボン素子３１は初期非稼動位置へ戻る。リボン素子３１の初期位置についての非常に小さな振動５５は起こるが、図５ｃに示されたように、±１次オーダーに回折された光の量に大幅な影響は与えない。ここで、横座標は、時間をμｓｅｃ単位で示し、縦座標は±１次オーダーへ回折される入射光の量％を示す。量は時間の関数であり、回折量は定振幅電圧パルス５０の持続時間中は一定である。定振幅電圧パルス５０が止められると、量は０に戻る。±１次オーダーの回折光量の持続時間は、ここではほぼ定振幅電圧パルス５０の持続時間に制限される。
【００１５】
図６ａ及び６ｂは、０次オーダーである反射光を集めるシステムにおいて、図１及び２に示された種類のＧＬＶ装置に電圧パルス６７ａ及びそれに続く制動パルス６７ｂが掛けられた場合の経験的結果を示す。図６ａにおける電圧パルス４７は、約０．５μｓｅｃの持続時間、及び約１６Ｖの振幅を有する。制動パルス６７ｂは、電圧６７ｂと逆の極性を有し、約−１４Ｖである。制動パルス６７ｂに対して極性が反転されるのは、駆動電子機器が正極性の制動パルスを有する適格なギャップを生成できるほど充分に速く出力を変化させることができないからである。図５ａにおける理想化された結果と異なり、この場合、駆動電子機器の立ち上がり時間のために、明確なギャップが無い。０次オーダーである反射光を測定する光検出器からの信号は図６ｂに示される（任意なユニット）。リボン素子３１へ電圧が掛けられていない場合、光のほとんどは０次オーダーへ反射され、０次オーダーの信号６８ａは高いレベルである。定振幅電圧パルス６７ａの間、０次オーダーの信号６８ｂは、一定で且つ低いレベルである。電圧パルス６７ａが止められた後、制動パルス６７ｂが掛けられ、リボン素子はそれらが初期非稼動状態に実質的に共鳴無しで戻り、共鳴振動６８ｃはごくわずかのみ生じる。
【００１６】
図７ａに示された第二の実施形態によると、定振幅電圧パルス７０によるリボン素子の作動の後に、第一及び第二の制動パルス７２及び７４が続く。この制動パルスの対は、単一の制動パルスがリボン素子３１の共鳴を完全に止められない場合に用いられ得る。定振幅電圧パルス７０は、図７ａに示すように時間の関数であり、２μｓｅｃの持続時間と１０Ｖの電圧値を有する。定振幅電圧パルス７０の後直ちに、狭いギャップ７６によって電圧パルス７０から分かれた狭い制動パルス７２が掛けられる。第一の制動パルス７２の後、第二の制動パルス７４が掛けられる。ここで、２つの制動パルス７２及び７４は、振幅及び持続時間が同じである。それらは、リボン素子の共鳴期間とほぼ等しい幅を有する制動ギャップ７８によって分けられる。機械的位置の供与電圧パルス（定振幅電圧パルス７０、及び第一の及び第二の制動パルス７２及び７４）に対するリボン素子３１の応答は、図７ｂに示される。電圧パルス７０が掛けられると、リボン素子３１はチャネル２８内へ引き寄せられ、チャネル２８の底と接触するようになる。リボン素子３１は、電圧パルス７０が持続している間、底に留まる。供与一定電圧パルス７０が一旦止められると、リボン素子３１は初期非稼動位置へ戻る。第一の制動パルス７２の適用は、速度を低減させるが、リボン素子３１を停止させることは充分にできない。第二の制動パルス７４の前に初期位置についての第二の信号７１及び７３がある。第二の制動パルス７４はリボンを停止させる。±１次オーダーへ回折される光の量に対するこれらの追加的な振動７１及び７３の影響は、第一及び第二のより小さい量ピーク７１ａ及び７３ａを生じ得る（図７ｃ参照）。
【００１７】
図８及び９は、パルス幅変調された入力データ・ストリームに対する制動パルスの使用を図示する。データ、多様な幅（持続時間）の定振幅電圧パルスである作動パルス・シーケンスとして機械的リボン素子３１に適用される。図８に示されるように、各定振幅電圧パルス８０の後に同じ極性の制動パルス８２が続く。図９は、機械的リボン素子３１の作動の別の実施形態を示し、隣接する定振幅電圧パルスが逆の極性を有する。この実施形態において、制動パルスの極性は、関連する電圧パルスの逆である。即ち、制動パルスの前に来る電圧パルスの極性と逆となる。この作動モードは、駆動電子機器が定振幅電圧パルスと制動パルスとの間に適格なギャップを生成できない場合に有益である。極性の切替は、ＧＬＶ層において誘発される電荷を最小化するという利点も有する。
【００１８】
本発明の更に別の実施形態によれば、機械的リボン素子３１は、チャネル２８の底に接触しないように作動される。定振幅電圧パルスが張力に完全に打ち勝つのに充分な静電力を生成しないため、リボン素子３１は、チャネル２８の底の上空に浮遊されたままである。この作動モードは、通常、深いチャネル２８（約一波長分の深さ）を有する装置と共に用いられる。電圧パルスの振幅は、リボン素子３１の１／４波長ゆがみを実現するように選択される。
【００１９】
図１０ａ〜１０ｃは、稼動された機械的リボンがチャネル２８の底と接触しない非接触作動について、定振幅電圧パルス１００により理想化されたリボン素子３１の作動のプロットを示す。図１０ａに示される定振幅電圧パルス１００は、２μｓｅｃの持続時間と１０Ｖの電圧値を有する。供与定振幅電圧パルス１００に対するリボン素子３１の応答は、図１０ｂに示される。定振幅電圧パルスが掛けられると、リボン素子３１はＧＬＶ装置のチャネル２８内へ引き寄せられる。リボン素子３１はチャネル２９の底と接触しないため、応答において、パルス開始共鳴１０２及びパルス停止共鳴１０４を生じる。開始共鳴１０２は、定振幅電圧パルス１００のほぼ全持続時間中生じる。停止共鳴１０４はほぼ同じ期間中生じる。この共鳴は、図１０ｃに示すように±１次オーダーへ回折される光の量に影響し、開始１０６及び停止１０８における光量変動を生成する。
【００２０】
制動パルスは、この非接触作動モードにおいて共鳴を除去するためにも同様に用いられ得る。図１１ａ〜１１ｃは、初期制動パルス１１２に先行され、最終制動パルス１１４に後続される（図１１ａ参照）定振幅電圧パルス１１０によって理想化されたリボン素子３１の作動のプロットを示す。制動パルス１１２及び１１４は、初期ギャップ１１６及び最終ギャップ１１７によって定振幅電圧パルス１１０から分けられている。この例において、２つの制動パルス１１２及び１１４、及び２つのギャップ１１６及び１１７、はすべてほぼ等しい幅である。機械的位置の供与電圧パルス（初期制動パルス１１２、定振幅電圧パルス１１０、及び最終制動パルス１１４）に対するリボン素子３１の応答は、図１１ｂに示される。図１０ｂと比較し、パルス開始共鳴１０２及びパルス停止共鳴１０４が観測されない。定振幅電圧パルス１１０の持続時間中、要素はチャネル２８の底上空の浮遊された位置に留まり、入射光ビームの回折が起こる。供与定振幅電圧パルス１１０が止められるやいなや、リボン素子３１は初期位置へ戻る。定振幅電圧パルス１１０の冒頭にも終わりにも重大なリボン振動は見られない。±１次オーダーへ回折される光量１１８は図１１ｃに示される。回折量は、定振幅電圧パルス１１０の間、一定であり、開始時にも停止時にも量変動は観測されない。±１次オーダーへ回折された光における量の持続時間は、ここでは、ほぼ定振幅電圧パルス１１０の持続時間に制限されている。
【図面の簡単な説明】
【図１ａ】非稼動状態の従来の２レベル電気機械格子装置による光回折を示す図である。
【図１ｂ】稼動状態の従来の２レベル電気機械格子装置による光回折を示す図である。
【図２】従来技術によって支持層を有するチャネル上に浮遊され稼動されたリボン素子を示す図１の描写に対して垂直な図である。
【図３ａ】リボン素子をチャネルの底と接触させる定振幅電圧パルスを示す理想化されたグラフを示す図である。
【図３ｂ】リボン素子の機械的応答を示す理想化されたグラフを示す図である。
【図３ｃ】従来装置において観測された±１次オーダーへ回折された光量を示す理想化されたグラフを示す図である。
【図４ａ】作動電圧パルスを示す経験的結果を示す図である。
【図４ｂ】従来装置において観測された０次オーダーへ反射された光の対応する量を示す経験的結果を示す図である。
【図５ａ】制動パルスに後続され、リボン素子をチャネルの底と接触させる定振幅電圧パルスを示す理想化されたグラフを示す図である。
【図５ｂ】リボン素子の機械的応答を示す理想化されたグラフを示す図である。
【図５ｃ】本発明によって±１次オーダーへ回折された光量を示す理想化されたグラフを示す図である。
【図６ａ】逆極性の制動パルスに後続される作動パルスを示す経験的結果を示す図である。
【図６ｂ】本発明によって０次オーダーに反射された光の対応する量を示す図である。
【図７ａ】２つの制動パルスに後続され、リボン素子をチャネルの底と接触させる定振幅電圧パルスを示す理想化されたグラフを示す図である。
【図７ｂ】リボン素子の機械的応答を示す理想化されたグラフを示す図である。
【図７ｃ】本発明によって±１次オーダーに反射された光量を示す理想化されたグラフを示す図である。
【図８】本発明によって同じ極性の制動パルスにそれぞれ後続される作動電圧パルス・シーケンスの理想化されたグラフを示す図である。
【図９】本発明によって逆極性の制動パルスにそれぞれ後続される作動電圧パルス・シーケンスの理想化されたグラフを示す図である。
【図１０ａ】リボン素子をチャネルの底上空に浮遊されたままにする定振幅電圧パルスを示す理想化されたグラフを示す図である。
【図１０ｂ】リボン素子の機械的応答を示す理想化されたグラフを示す図である。
【図１０ｃ】従来技術によって±１次オーダーに反射された光量を示す理想化されたグラフを示す図である。
【図１１ａ】制動パルスに先行及び後続された、リボン素子をチャネルの底上空に浮遊されたままにする定振幅電圧パルスを示す理想化されたグラフを示す図である。
【図１１ｂ】リボン素子の機械的応答を示す理想化されたグラフを示す図である。
【図１１ｃ】本発明によって±１次オーダーに反射された光量を示す理想化されたグラフを示す図である。
【符号の説明】
１４、１６ 入射光ビーム
１５ 反射光ビーム
１７ １次オーダー
１８ −１次オーダー
２０ 基盤
２２ 最下層導電層
２３ 基盤表面
２４ 保護層
２６ スペーサ層
２７ 上面レベル
２８ チャネル
３０ リボン層
３１ リボン素子
３２ 反射層
３４ 開口部
３６ 導電物質
４０ 定振幅電圧パルス
４２ 共鳴運動
４３ 共鳴期間
４４ １次オーダーへ回折された光
４６ 量変動
４７ 作動パルス
４８ａ 作動前の光量
４８ｂ 作動中の光量
４８ｃ 作動後の光量
５０ 定振幅電圧パルス
５２ 制動パルス
５４ ギャップ
５５ 小さな振動
６７ａ 作動パルス
６７ｂ 逆極性の制動パルス
６８ａ 作動前の光量
６８ｂ 作動中の光量
６８ｃ 作動後の光量
７０ 定振幅電圧パルス
７１ 第一振動
７１ａ 第一量ピーク
７２ 第一制動パルス
７３ 第二振動
７３ａ 第二量ピーク
７４ 第一制動パルス
７６ ギャップ
７８ 制動ギャップ
８０ 定振幅電圧パルス
８２ 制動パルス
９０ 定振幅電圧パルス
９２ 制動パルス
１００ 定振幅電圧パルス
１０２ パルス開始共鳴
１０４ パルス停止共鳴
１０６ 開始量変動
１０８ 停止量変動
１１０ 定振幅電圧パルス
１１２ 初期制動パルス
１１４ 最終制動パルス
１１６ 初期ギャップ
１１７ 最終ギャップ
１１８ １次オーダーへ回折される光量
【発明の属する技術分野】
本発明は、機械格子装置で入射光ビームを変調させることに係り、特に光ビームを回折させる機械格子装置の作動方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電気機械式空間光変調は、画像処理、ディスプレイ、光学式計算及び印刷などの多様な用途に用いられている。空間光変調用の電気機械式格子は、特許資料においてよく知られている。米国特許第５，３１１，３６０号、発効日：１９９４年５月１０日、Ｂｌｏｏｍら、「Ｍｅｔｈｏｄ ａｎｄ Ａｐｐａｒａｔｕｓ ｆｏｒ Ｍｏｄｕｌａｔｉｎｇ ａ Ｌｉｇｈｔ Ｂｅａｍ」、参照。格子光弁（ＧＬＶ）としてもよく知られるこの装置は、後にＢｌｏｏｍらによって構造の変更が説明された。この変更は、１）リボンと基板との間のスティクション（摩擦）を未然に防ぐために接触域を最小化するためのリボンの下の模様がつけられ隆起されたエリア、２）リボン間の間隔が減らされ、代わりのリボンが良好なコントラストを生成するように作動される代替装置設計、３）代わりのリボンを固定するための固体支持、及び４）浮遊された表面の回転によるろう付け格子を生成する代替装置設計、を含む。米国特許第５，４５９，６１０号、発効日：１９９５年１０月１７日、Ｂｌｏｏｍら、「Ｄｅｆｏｒｍａｂｌｅ ＧｒａｔｉｎｇＡｐｐａｒａｔｕｓ ｆｏｒ Ｍｏｄｕｌａｔｉｎｇ ａ Ｌｉｇｈｔ Ｂｅａｍ ａｎｄ Ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ Ｍｅａｎｓ ｆｏｒ ＯｂｖｉａｔｉｎｇＳｔｉｃｔｉｏｎ Ｂｅｔｗｅｅｎ Ｅｌｅｍｅｎｔｓ ａｎｄ Ｕｎｄｅｒｌｙｉｎｇ Ｓｕｂｓｔｒａｔｅ」、参照。
【０００３】
従来技術によれば、ＧＬＶ装置の作動中、接地平面とリボン層の上の導電層との間の単極性電圧差によって静電引力が生成される。この引力は、基盤に対するリボンの高さを変える。回折された光ビームの変調は、電圧波形を適切に選択することによって得られる。リボンを一定の距離動かすのに必要とされる電圧は、リボン材における応力、リボンと基盤との距離、及びリボンの長さなどの要因に因る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ＧＬＶ装置のリボン素子は、主にリボンの長さ、及びリボン材の密度及び張力に因る共鳴周波数を有することがよく知られている。例えば、ＰＨ．Ｄ Ｔｈｅｓｉｓ（Ｓｔａｎｆｏｒｄ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ）、「Ｓｉｌｉｃｏｎ Ｍｉｃｒｏｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ ｏｆ Ｇｒａｔｉｎｇ Ｌｉｇｈｔ Ｖａｌｖｅｓ」、Ｃｈａｐｔｅｒ ３、Ｆ．Ｓ．Ａ．Ｓａｎｄｅｊａｓ、 １９９５、参照。リボンが稼動される時、若しくは解放された時、リボンは共鳴周波数（通常は、１〜１５ＭＨｚの間）で共鳴する。リボン素子の機械的応答は、下記文献で説明されているように、雰囲気によって減衰される。文献：Ｐｒｏｃ． ｏｆ Ｓｏｌｉｄ−Ｓｔａｔｅ Ｓｅｎｓｏｒ ａｎｄ Ａｃｔｕａｔｏｒ ｗｏｒｋｓｈｏｐ Ｈｉｌｔｏｎ Ｈｅａｄ ＳＣ、「Ｓｑｕｅｅｚｅ Ｆｉｌｍ Ｄａｍｐｉｎｇ ｏｆ Ｄｏｕｂｌｅ Ｓｕｐｐｏｒｔｅｄ Ｒｉｂｂｏｎｓ ｉｎＮＯｂｌｅ Ｇａｓ Ａｔｍｏｓｐｈｅｒｅｓ」、ｐｐ．２８８〜２９１、１９８年６月８〜１１日、参照。この減衰は、提示された気体の種類及び圧力に因り、リボンの共鳴周波数に関連する共鳴ピークの幅を決定する。この共鳴の結果として、ＧＬＶ装置を作動させることができる最大周波数が制限され、回折光量に望まれない一時的な変動が含まれる。よって、向上された作動速度、及び低減された一時的な光量変動を有するＧＬＶ装置が必要である。
【０００５】
本発明の目的は、回折光量がリボン素子の共鳴によって生じる望まれない一時的な変動を一切含まないように電気機械格子装置のリボン素子を作動させ、よって装置がより高い周波数で作動できるようにより理想的な出力を生成する方法を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、底表面を定め、この底表面の下に形成された底導電層を有するチャネル上の電気機械リボン素子を減衰する方法であって、少なくとも一つのリボン素子に少なくとも一つの定振幅電圧パルスを提供する工程と、前記定振幅電圧パルスから狭い一時的なギャップによって分けられた制動パルスを少なくとも一つ前記リボン素子に提供する工程とを有する方法によって実現される。
【０００７】
本発明の別の態様によれば、上記目的は、底表面を定め、この底表面の下に形成された底導電層を有するチャネル上に浮遊される電気機械リボン素子を減衰させる方法であって、チャネルの底上空の浮遊され稼動された状態である前記リボン素子をチャネル内へ引き寄せる定振幅電圧パルスを少なくとも一つリボン素子の少なくとも一つに提供する工程と、初期制動パルスは前記定振幅電圧パルスにすぐ前に位置し、最終制動パルスは前記定振幅電圧パルスのすぐ後ろに位置するように２つの制動パルスを前記リボン素子に提供する工程とを有する方法によっても実現される。
【０００８】
本発明に掛かる方法の利点は、リボン素子の共鳴によって生じるあらゆる一時的な変動がほぼ削減される電気機械格子装置によって回折された光量である。この方法によって、ディスプレイ、写真仕上げプリンタ、及び光通信などの用途において特に重要な装置の高周波作動が可能になる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明の主題は図面に示された実施形態を参照して説明される。
【００１０】
図１ａ、１ｂ、及び２は、通常の格子抗弁（ｇｒａｔｉｎｇ ｌｉｇｈｔ ｖａｌｖｅ；ＧＬＶ）装置の構造を示す横断面図である。図１ａは、非稼動状態での装置のリボン構造を描写し、図１ｂは稼動された状態での構造を描写する。図２は、（図１ａに示されたのと）同じ装置の非稼動状態での図であるが、ＧＬＶのレイヤー積層に関する識見を提供するために９０度回転されている。図２を参照すると、例えば単結晶シリコン・ウェハ若しくはガラスである基盤２０が、通常設けられている。単結晶シリコン・ウェハの場合、最下層の導電層２２は、基盤２０の表面２３近くにシリコンを重く添加することによって生成される。基盤にガラスが用いられる場合、ガラス基盤２０の表面上の最下層導電層２２を堆積させることによって向上された導電性が実現される。導電層２２は、保護層２４によって覆われている。この保護層は、例えば熱酸化したシリコン基盤である。誘電スペーサ層２６は、保護層２４の上に形成され、ＧＬＶ装置の活性領域が配置されるチャネル２８を含む。チャネル２８は、スペーサ層２６の堆積厚さによって支配される深さを定める。スペーサ層２６は、上面レベル２７を定める。複数のリボン素子３１は、スペーサ層２６の上に形成されたリボン層３０から模様付けられている。例えば窒化珪素であるリボン層３０は、誘電物質を含み、導電・反射層３２によって覆われている。他のすべてのリボン素子３１の導電・反射層３２は、導電物質から成る厚い層３６で満たされた開口部３４を通じて最下層導電層２２と接続されている。リボン層３０の厚さ及び引張応力は、ＧＬＶのリボン素子３１の速度、共振周波数、及び電圧についての要求に影響し、作動及び戻り力に対して要求される静電力に影響を与えることによって性能を最適化するように選択される。
【００１１】
装置の作動に対して、最下層導電層２２とリボン層３０の上の導電・反射層３２との間の電圧差によって静電引力が生成される。非稼動状態（図１ａ参照）においては、電圧差がないため、ＧＬＶ装置におけるリボン素子３１はすべて基盤２０上に同じ高さで浮遊している。この状態において、入射光ビーム１４は、主に反射光ビーム１５として鏡方向に反射される。稼動された状態（図１ｂ参照）を得ることで、断続的な格子を作っている他のリボン素子のすべてに電圧が掛けられる。完全に稼動された状態において、他のリボン素子３１のすべてが保護層２４と接触する。隣接するリボン間の高さの差異が入射光ビーム１６の波長の１／４である場合、光ビームは主に１次オーダー１７及び−１次オーダー１８に回折される。設計により、１／４波長の高さの差異を得ることで、リボン素子３１を保護層２４と接触させすることができ、又保護層２４上に浮遊させることもできる。回折オーダーの一若しくは両方は、集められ、用途に応じて光学システム（図示せず）によって用いられることが可能である。別の方法として、０次反射オーダーを特定の光学システムで用いることも可能である。供与電圧が除去されると、引張応力及び曲げモーメントによる力が、リボン素子３１をそれらの元々の非稼動状態へ復元する。
【００１２】
図３ａ〜３ｃは、定振幅電圧パルス４０によって理想化されたリボン素子の作動のプロットを示す。定振幅電圧パルス４０は、図３ａに示されるように、１０Ｖ（ボルト）において２μｓｅｃ（マイクロ秒）の持続時間を有する時間の関数である。ここで、横座標は時間をμｓｅｃ単位で示し、縦座標は供与電圧をボルト単位で示す。リボン素子３１の電圧パルス４０に対する機械的位置応答は、図３ｂに示される。図３の横座標は時間をμｓｅｃ単位で示し、縦座標はリボン素子３１の機械的位置をナノメータ（ｎｍ）単位で示す。電圧パルス４０に電源が入れられると、リボン素子３１はＧＬＶ装置のチャネル２８内へ引き寄せられ、チャネル２８の底と接触するようになる。リボン素子３１は、定振幅電圧パルス４０が持続する間、（チャネル２８に引き寄せられ、チャネル２８の底と接触する）稼動位置に留まる。定振幅電圧パルス４０が止められる（２μｓｅｃ）やいなや、リボン素子３１はチャネル２８の底から解放され、初期の非稼動位置について共鳴運動４２で振動する。共鳴運動は、共鳴期間ｔＲ４３を有し、雰囲気によって減衰される。リボン素子３１は、通常の減衰関数によって支配される一定時間経過後に初期非稼動位置に安定する。リボン素子３１の作動から生じる±１次オーダーへ回折される光量の時間依存性が図３ｃに示される。ここで、横座標は時間をμｓｅｃ単位で示し、縦座標は±１次オーダーへ回折された入射光の量％を示す。回折量４４は、電圧パルス４０が持続する間は一定である。定振幅電圧パルス４０が止められた後、リボン素子３１の共鳴運動４２に関連する量変動４６が生じる。
【００１３】
リボン素子３１の共鳴運動及び関連する光量変動４６は、特定のシステム、特に光量の高周波変調を要求するシステム、において望まれない影響である。例えば、光量が高周波データ・ストリームによって変調されるデータ通信若しくはデータ記録用途において、一電圧パルスによって生じる残留共鳴が続く電圧パルスに対する応答に影響を与える。シンボル間干渉として時々知られるこの影響は、データの完全性についてマイナスの影響を有する。
【００１４】
これらの量変動の種類は、０次オーダーである反射光を利用するシステムにおいても生じる。図４ａ及び４ｂは、０次オーダーである反射光を集めるシステムにおいて、図１及び２に示された種類のＧＬＶ装置に電圧パルス４７が掛けられた場合の経験的結果を示す。図４ａにおける電圧パルス４７は、約０．５μｓｅｃの持続時間、及び約１６Ｖの振幅を有する。０次オーダーである反射光を測定する光検出器からの信号は図４ｂに示される（任意なユニット）。リボン素子３１へ電圧が掛けられていない場合、光のほとんどは０次オーダーへ反射され、０次オーダーの信号４８ａは高いレベルである。電圧パルス４７の間、０次オーダーの信号４８ｂは、一定で且つ低いレベルである。最適化された装置において、この低いレベルが０に近くなることが理想的である。電圧パルス４７が止められた後、リボン素子３１の共鳴運動のために量変動４８ｃが生じる。制動パルスを使用することでリボン素子３１の共鳴及び関連する量変動を大幅に低減させることができる。図５ａ〜５ｃは、定振幅電圧パルス５０に続いて制動パルス５２によってリボン素子３１の作動につき理想化されたプロットを示す。定振幅電圧パルス５０は、図５ａに示すように時間の関数であり、２μｓｅｃの持続時間と１０Ｖの電圧値を有する。定振幅電圧パルス５０の後直ちに、狭いギャップ５４によって定振幅電圧パルス５０から分かれた狭い制動パルス５２が掛けられる。ここで、ギャップ５４の幅は、制動パルス５２の幅をほぼ同じである。両幅ともに、リボン素子３１の振動期間の１／２より小さい。機械的位置の供与電圧パルス（定振幅電圧パルス５０及び制動パルス５２）に対するリボン素子３１の応答は、図５ｂに示される。横座標は時間をμｓｅｃ単位で示し、縦座標はリボン素子３１の機械的位置をナノメータ単位で示す。電圧パルス５０が掛けられると、リボン素子３１はＧＬＶ装置のチャネル２８内へ引き寄せられ、チャネル２８の底と接触するようになる。リボン素子３１は、定振幅電圧パルス５０が持続している間、稼動位置に留まる。電圧パルス５０が止められるやいなや、リボン素子３１は初期非稼動位置へ戻る。リボン素子３１の初期位置についての非常に小さな振動５５は起こるが、図５ｃに示されたように、±１次オーダーに回折された光の量に大幅な影響は与えない。ここで、横座標は、時間をμｓｅｃ単位で示し、縦座標は±１次オーダーへ回折される入射光の量％を示す。量は時間の関数であり、回折量は定振幅電圧パルス５０の持続時間中は一定である。定振幅電圧パルス５０が止められると、量は０に戻る。±１次オーダーの回折光量の持続時間は、ここではほぼ定振幅電圧パルス５０の持続時間に制限される。
【００１５】
図６ａ及び６ｂは、０次オーダーである反射光を集めるシステムにおいて、図１及び２に示された種類のＧＬＶ装置に電圧パルス６７ａ及びそれに続く制動パルス６７ｂが掛けられた場合の経験的結果を示す。図６ａにおける電圧パルス４７は、約０．５μｓｅｃの持続時間、及び約１６Ｖの振幅を有する。制動パルス６７ｂは、電圧６７ｂと逆の極性を有し、約−１４Ｖである。制動パルス６７ｂに対して極性が反転されるのは、駆動電子機器が正極性の制動パルスを有する適格なギャップを生成できるほど充分に速く出力を変化させることができないからである。図５ａにおける理想化された結果と異なり、この場合、駆動電子機器の立ち上がり時間のために、明確なギャップが無い。０次オーダーである反射光を測定する光検出器からの信号は図６ｂに示される（任意なユニット）。リボン素子３１へ電圧が掛けられていない場合、光のほとんどは０次オーダーへ反射され、０次オーダーの信号６８ａは高いレベルである。定振幅電圧パルス６７ａの間、０次オーダーの信号６８ｂは、一定で且つ低いレベルである。電圧パルス６７ａが止められた後、制動パルス６７ｂが掛けられ、リボン素子はそれらが初期非稼動状態に実質的に共鳴無しで戻り、共鳴振動６８ｃはごくわずかのみ生じる。
【００１６】
図７ａに示された第二の実施形態によると、定振幅電圧パルス７０によるリボン素子の作動の後に、第一及び第二の制動パルス７２及び７４が続く。この制動パルスの対は、単一の制動パルスがリボン素子３１の共鳴を完全に止められない場合に用いられ得る。定振幅電圧パルス７０は、図７ａに示すように時間の関数であり、２μｓｅｃの持続時間と１０Ｖの電圧値を有する。定振幅電圧パルス７０の後直ちに、狭いギャップ７６によって電圧パルス７０から分かれた狭い制動パルス７２が掛けられる。第一の制動パルス７２の後、第二の制動パルス７４が掛けられる。ここで、２つの制動パルス７２及び７４は、振幅及び持続時間が同じである。それらは、リボン素子の共鳴期間とほぼ等しい幅を有する制動ギャップ７８によって分けられる。機械的位置の供与電圧パルス（定振幅電圧パルス７０、及び第一の及び第二の制動パルス７２及び７４）に対するリボン素子３１の応答は、図７ｂに示される。電圧パルス７０が掛けられると、リボン素子３１はチャネル２８内へ引き寄せられ、チャネル２８の底と接触するようになる。リボン素子３１は、電圧パルス７０が持続している間、底に留まる。供与一定電圧パルス７０が一旦止められると、リボン素子３１は初期非稼動位置へ戻る。第一の制動パルス７２の適用は、速度を低減させるが、リボン素子３１を停止させることは充分にできない。第二の制動パルス７４の前に初期位置についての第二の信号７１及び７３がある。第二の制動パルス７４はリボンを停止させる。±１次オーダーへ回折される光の量に対するこれらの追加的な振動７１及び７３の影響は、第一及び第二のより小さい量ピーク７１ａ及び７３ａを生じ得る（図７ｃ参照）。
【００１７】
図８及び９は、パルス幅変調された入力データ・ストリームに対する制動パルスの使用を図示する。データ、多様な幅（持続時間）の定振幅電圧パルスである作動パルス・シーケンスとして機械的リボン素子３１に適用される。図８に示されるように、各定振幅電圧パルス８０の後に同じ極性の制動パルス８２が続く。図９は、機械的リボン素子３１の作動の別の実施形態を示し、隣接する定振幅電圧パルスが逆の極性を有する。この実施形態において、制動パルスの極性は、関連する電圧パルスの逆である。即ち、制動パルスの前に来る電圧パルスの極性と逆となる。この作動モードは、駆動電子機器が定振幅電圧パルスと制動パルスとの間に適格なギャップを生成できない場合に有益である。極性の切替は、ＧＬＶ層において誘発される電荷を最小化するという利点も有する。
【００１８】
本発明の更に別の実施形態によれば、機械的リボン素子３１は、チャネル２８の底に接触しないように作動される。定振幅電圧パルスが張力に完全に打ち勝つのに充分な静電力を生成しないため、リボン素子３１は、チャネル２８の底の上空に浮遊されたままである。この作動モードは、通常、深いチャネル２８（約一波長分の深さ）を有する装置と共に用いられる。電圧パルスの振幅は、リボン素子３１の１／４波長ゆがみを実現するように選択される。
【００１９】
図１０ａ〜１０ｃは、稼動された機械的リボンがチャネル２８の底と接触しない非接触作動について、定振幅電圧パルス１００により理想化されたリボン素子３１の作動のプロットを示す。図１０ａに示される定振幅電圧パルス１００は、２μｓｅｃの持続時間と１０Ｖの電圧値を有する。供与定振幅電圧パルス１００に対するリボン素子３１の応答は、図１０ｂに示される。定振幅電圧パルスが掛けられると、リボン素子３１はＧＬＶ装置のチャネル２８内へ引き寄せられる。リボン素子３１はチャネル２９の底と接触しないため、応答において、パルス開始共鳴１０２及びパルス停止共鳴１０４を生じる。開始共鳴１０２は、定振幅電圧パルス１００のほぼ全持続時間中生じる。停止共鳴１０４はほぼ同じ期間中生じる。この共鳴は、図１０ｃに示すように±１次オーダーへ回折される光の量に影響し、開始１０６及び停止１０８における光量変動を生成する。
【００２０】
制動パルスは、この非接触作動モードにおいて共鳴を除去するためにも同様に用いられ得る。図１１ａ〜１１ｃは、初期制動パルス１１２に先行され、最終制動パルス１１４に後続される（図１１ａ参照）定振幅電圧パルス１１０によって理想化されたリボン素子３１の作動のプロットを示す。制動パルス１１２及び１１４は、初期ギャップ１１６及び最終ギャップ１１７によって定振幅電圧パルス１１０から分けられている。この例において、２つの制動パルス１１２及び１１４、及び２つのギャップ１１６及び１１７、はすべてほぼ等しい幅である。機械的位置の供与電圧パルス（初期制動パルス１１２、定振幅電圧パルス１１０、及び最終制動パルス１１４）に対するリボン素子３１の応答は、図１１ｂに示される。図１０ｂと比較し、パルス開始共鳴１０２及びパルス停止共鳴１０４が観測されない。定振幅電圧パルス１１０の持続時間中、要素はチャネル２８の底上空の浮遊された位置に留まり、入射光ビームの回折が起こる。供与定振幅電圧パルス１１０が止められるやいなや、リボン素子３１は初期位置へ戻る。定振幅電圧パルス１１０の冒頭にも終わりにも重大なリボン振動は見られない。±１次オーダーへ回折される光量１１８は図１１ｃに示される。回折量は、定振幅電圧パルス１１０の間、一定であり、開始時にも停止時にも量変動は観測されない。±１次オーダーへ回折された光における量の持続時間は、ここでは、ほぼ定振幅電圧パルス１１０の持続時間に制限されている。
【図面の簡単な説明】
【図１ａ】非稼動状態の従来の２レベル電気機械格子装置による光回折を示す図である。
【図１ｂ】稼動状態の従来の２レベル電気機械格子装置による光回折を示す図である。
【図２】従来技術によって支持層を有するチャネル上に浮遊され稼動されたリボン素子を示す図１の描写に対して垂直な図である。
【図３ａ】リボン素子をチャネルの底と接触させる定振幅電圧パルスを示す理想化されたグラフを示す図である。
【図３ｂ】リボン素子の機械的応答を示す理想化されたグラフを示す図である。
【図３ｃ】従来装置において観測された±１次オーダーへ回折された光量を示す理想化されたグラフを示す図である。
【図４ａ】作動電圧パルスを示す経験的結果を示す図である。
【図４ｂ】従来装置において観測された０次オーダーへ反射された光の対応する量を示す経験的結果を示す図である。
【図５ａ】制動パルスに後続され、リボン素子をチャネルの底と接触させる定振幅電圧パルスを示す理想化されたグラフを示す図である。
【図５ｂ】リボン素子の機械的応答を示す理想化されたグラフを示す図である。
【図５ｃ】本発明によって±１次オーダーへ回折された光量を示す理想化されたグラフを示す図である。
【図６ａ】逆極性の制動パルスに後続される作動パルスを示す経験的結果を示す図である。
【図６ｂ】本発明によって０次オーダーに反射された光の対応する量を示す図である。
【図７ａ】２つの制動パルスに後続され、リボン素子をチャネルの底と接触させる定振幅電圧パルスを示す理想化されたグラフを示す図である。
【図７ｂ】リボン素子の機械的応答を示す理想化されたグラフを示す図である。
【図７ｃ】本発明によって±１次オーダーに反射された光量を示す理想化されたグラフを示す図である。
【図８】本発明によって同じ極性の制動パルスにそれぞれ後続される作動電圧パルス・シーケンスの理想化されたグラフを示す図である。
【図９】本発明によって逆極性の制動パルスにそれぞれ後続される作動電圧パルス・シーケンスの理想化されたグラフを示す図である。
【図１０ａ】リボン素子をチャネルの底上空に浮遊されたままにする定振幅電圧パルスを示す理想化されたグラフを示す図である。
【図１０ｂ】リボン素子の機械的応答を示す理想化されたグラフを示す図である。
【図１０ｃ】従来技術によって±１次オーダーに反射された光量を示す理想化されたグラフを示す図である。
【図１１ａ】制動パルスに先行及び後続された、リボン素子をチャネルの底上空に浮遊されたままにする定振幅電圧パルスを示す理想化されたグラフを示す図である。
【図１１ｂ】リボン素子の機械的応答を示す理想化されたグラフを示す図である。
【図１１ｃ】本発明によって±１次オーダーに反射された光量を示す理想化されたグラフを示す図である。
【符号の説明】
１４、１６ 入射光ビーム
１５ 反射光ビーム
１７ １次オーダー
１８ −１次オーダー
２０ 基盤
２２ 最下層導電層
２３ 基盤表面
２４ 保護層
２６ スペーサ層
２７ 上面レベル
２８ チャネル
３０ リボン層
３１ リボン素子
３２ 反射層
３４ 開口部
３６ 導電物質
４０ 定振幅電圧パルス
４２ 共鳴運動
４３ 共鳴期間
４４ １次オーダーへ回折された光
４６ 量変動
４７ 作動パルス
４８ａ 作動前の光量
４８ｂ 作動中の光量
４８ｃ 作動後の光量
５０ 定振幅電圧パルス
５２ 制動パルス
５４ ギャップ
５５ 小さな振動
６７ａ 作動パルス
６７ｂ 逆極性の制動パルス
６８ａ 作動前の光量
６８ｂ 作動中の光量
６８ｃ 作動後の光量
７０ 定振幅電圧パルス
７１ 第一振動
７１ａ 第一量ピーク
７２ 第一制動パルス
７３ 第二振動
７３ａ 第二量ピーク
７４ 第一制動パルス
７６ ギャップ
７８ 制動ギャップ
８０ 定振幅電圧パルス
８２ 制動パルス
９０ 定振幅電圧パルス
９２ 制動パルス
１００ 定振幅電圧パルス
１０２ パルス開始共鳴
１０４ パルス停止共鳴
１０６ 開始量変動
１０８ 停止量変動
１１０ 定振幅電圧パルス
１１２ 初期制動パルス
１１４ 最終制動パルス
１１６ 初期ギャップ
１１７ 最終ギャップ
１１８ １次オーダーへ回折される光量
Claims (1)
- 共鳴期間を有し、
底表面を画成し、この底表面の下に形成された底導電層を有するチャネル上に浮遊される電気機械リボン素子を減衰する方法であって、
少なくとも一つのリボン素子に少なくとも一つの定振幅電圧パルスを与える工程と、
前記定振幅電圧パルスから狭い時間的なギャップによって分けられた少なくとも一つの制動パルスを前記リボン素子に与える工程とを有することを特徴とする方法。
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