JP4430689B2 - 窒化物半導体レーザ素子の製造方法 - Google Patents
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図3は本発明の一態様に係るレーザ素子の構造を示す模式的な断面図であり、共振面と平行な方向で切断した際の図を示している。以下、この図を元に実施例1について説明する。
図4は本発明の他の態様に係るレーザ素子の構造を示す模式的な断面図であり、この図も共振面と平行な方向で切断した際の図を示しており、図3と同一符号は同一部材を示している。このような構造は絶縁体よりなる基板を用いたレーザ素子に多い。
基板30にサファイア(C面、0001)を用い、基板研磨時に基板が20μmになるまで研磨する他は、実施例2と同様にしてレーザ素子を作製したところ、実施例2とほぼ同等の特性を示すレーザ素子が作製できた。
基板30にSiC(111面)を用い、基板研磨時に基板が80μmになるまで研磨する他は、実施例2と同様にしてレーザ素子を作製したところ、実施例2とほぼ同等の特性を示すレーザ素子が作製できた。
11・・・・n型コンタクト層
20・・・・p型電流阻止層
12・・・・n型光閉じ込め層
13・・・・n型光ガイド層
14・・・・活性層
15・・・・p型光ガイド層
16・・・・p型光閉じ込め層
17・・・・p型コンタクト層
Claims (6)
- 前記溝は、前記ウェーハの端部に形成されることを特徴とする請求項1又は2に記載の窒化物半導体レーザ素子の製造方法。
- 前記基板及び窒化物半導体層の表面には電極が形成され、該電極形成後に、前記溝が形成されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の窒化物半導体レーザ素子の製造方法。
- 前記共振器面に誘電体多層膜が形成されることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の窒化物半導体レーザ素子の製造方法。
- 前記窒化物半導体層は、前記基板側から順に、n型窒化物半導体、活性層及びp型窒化物半導体が形成されることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の窒化物半導体レーザ素子の製造方法。
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