JP4419365B2 - 有機薄膜トランジスタの製造方法、電気光学装置の製造方法 - Google Patents

有機薄膜トランジスタの製造方法、電気光学装置の製造方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置の製造方法、有機薄膜トランジスタの製造方法、電気光学装置の製造方法、および電子機器に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、電気泳動表示装置等のフラットパネルディスプレイでは、各画素毎に薄膜トランジスタを備え、アクティブマトリックス方式で駆動するタイプが主流になっている。
従来の薄膜トランジスタはシリコンなどの無機材料で形成されている。このような無機材料を用いた薄膜トランジスタに対して、有機材料で形成された半導体層を用いたいわゆる有機薄膜トランジスタは柔軟性に優れているという利点を有する。有機材料は溶媒に対する溶解性が高い材料が多く、有機材料の溶液を塗布する、いわゆる液相プロセスにより半導体層を形成することができるため、半導体層などの形成に高真空の装置を必要としない場合がある。
【0003】
上記のように有機薄膜トランジスタは、液相プロセスにより製造することができるという利点を有するが、有機薄膜トランジスタの所望の素子特性を得るには、有機材料の配向を制御する必要がある。
この配向工程の従来例としては、ソース電極およびドレイン電極上にラビング等の配向処理を施し、その上に、高分子液晶からなる有機半導体材料をキシレン等の溶媒に溶解させた液体を塗布し、その塗膜を例えば280℃程度で2時間程度加熱した後に急冷する方法が挙げられる。この方法では、高温で液晶状態となった有機半導体材料が下地に合わせて分子を配向させることによって、所定の分子配向を有する有機半導体層が形成される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記従来例の方法では、前記塗膜を高温に長時間保持する工程が必要であるため、合成樹脂からなる基板を用いると基板に変形が生じる場合がある。また、前記工程で有機半導体層自体の性能が低下することを防止する必要もある。
【0005】
本発明の目的は、容易に所定の配向を有する有機半導体層を形成できる方法を提供することにある。
【0006】
上記課題を解決するために、本発明は、有機半導体材料を溶媒に溶解させた液状材料を配向処理された基板に塗布する工程と、前記溶媒を除去する工程と、を含み、前記溶媒として低分子液晶性材料を用い、前記液状材料を基板に塗布する工程により、前記低分子液晶性材料が配向され、さらに、前記低分子液晶性材料の配向に伴い、前記有機半導体材料が配向すること、を特徴とする有機薄膜トランジスタの製造方法を提供する。
【0008】
本発明はまた、ソース電極及びドレイン電極の少なくともいずれかの表面に配向処理をした後、前記少なくともいずれかの表面上に、有機半導体材料を溶媒に溶解させた液状材料を塗布する工程と、前記溶媒を除去する工程と、を含み、前記溶媒として低分子液晶性材料を用い、前記液状材料を基板に塗布する工程により、前記低分子液晶性材料が配向され、さらに、前記低分子液晶性材料の配向に伴い、前記有機半導体材料が配向すること、を特徴とする有機薄膜トランジスタの製造方法を提供する。
本発明の有機薄膜トランジスタの製造方法において、前記有機半導体材料は液晶性を有することが好ましい。
【0009】
前記有機半導体材料としては、半導体として機能する高分子液晶(少なくとも高温にしたときに液晶相となる高分子材料)を使用することが好ましいが、高温にしても液晶相とならない導電性高分子材料(例えば、ポリチオフェン)を使用することもできる。
前記高分子液晶としては、例えば、9,9−ジオクチルフルオレン−co−ビチオフェンが挙げられる。
【0010】
前記低分子液晶としては、例えば、シクロヘキサン系化合物、フェニルシクロヘキサン系化合物、ビフェニール系化合物、およびデカリン系化合物が挙げられる。ビフェニール系低分子液晶としては、4−シアノ−4´−n−ヘキシルビフェニール、4−シアノ−4´−n−ペンチルビフェニールが挙げられる。フェニルシクロヘキサン系低分子液晶としては、4−(4´−n−プロピルシクロヘキシル)−シアノベンゼン、4−(4´−n−ペンチルシクロヘキシル)−シアノベンゼンが挙げられる。デカリン系低分子液晶としては、2,6−ジ−n―プロピルデカリンが挙げられる。
【0011】
本発明は、また、電気光学素子として機能する材料層を形成する工程と、本発明の方法で有機薄膜トランジスタを形成する工程と、を含む電気光学装置の製造方法を提供する。
前記電気光学装置としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、電気泳動表示装置等のフラットパネルディスプレイが挙げられる。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について説明する。
図1を用いて、本発明の一実施形態に相当する有機薄膜トランジスタの製造方法を説明する。
先ず、PET(ポリエチレンテレフタレート)フイルムを基板1として用い、この基板1上にポリイミド膜を形成した。次に、このポリイミド膜上にレジスト膜を形成し、フォトリソグラフィ工程およびエッチング工程を行うことにより、基板1上のソース形成領域とドレイン形成領域のレジスト膜を除去した。この状態で基板面を酸素プラズマ処理することにより、基板1のソース形成領域およびドレイン形成領域の表面を親水性とした。
【0014】
次に、ポリイミド膜上のレジスト膜を除去した。これにより、基板1上のソース形成領域とドレイン形成領域がポリイミドの隔壁2で囲われた。ポリイミドの隔壁2の表面は疎水性である。なお、前記隔壁2を形成する際に、ソース形成領域とドレイン形成領域との間隔をチャネル長に合わせた。
この基板1上の隔壁2で囲われた領域に、インクジェット法により、PEDOT(poly ethylene dioxy thiophene)とPSS(poly styrene sulphonate)を含有する水溶液を滴下して乾燥させることにより、ソース電極3とドレイン電極4を形成した。
【0015】
次に、図1(a)に示すように、この基板1の上面をソース電極3からドレイン電極4に向けて(矢印の方向に)フェルトで擦ることにより、ラビング処理(配向処理)を行った。
次に、有機半導体材料である9,9−ジオクチルフルオレン−co−ビチオフェン(高分子液晶)を4−シアノ−4´−n−ヘキシルビフェニール(低分子液晶)に溶解させた液体を、この基板1の上面にスピンコート法により塗布した。この塗布により、基板1上で、液体中の4−シアノ−4´−n−ヘキシルビフェニールは、分子が常温でラビング処理による下地(基板面)の配向に沿って配向し、これに伴って、液体中の9,9−ジオクチルフルオレン−co−ビチオフェンの分子も、4−シアノ−4´−n−ヘキシルビフェニール分子の配向に従って配向する。
【0016】
次に、この基板1の回りの圧力を大気圧より低くすることで、前記塗膜から4−シアノ−4´−n−ヘキシルビフェニールを除去した。なお、この減圧処理を行うために、本実施形態の方法は、当初の工程から減圧機構を備えたチャンバ内で行うことが好ましい。
これにより、前記塗膜を加熱することなく、ソース電極3からドレイン電極4に向かう分子配向を有する9,9−ジオクチルフルオレン−co−ビチオフェン(有機半導体)層5が、基板1のソース電極3およびドレイン電極4上に形成された。図1(b)はこの状態を示す。
【0017】
次に、この基板1の上に、スピンコート法により絶縁層6としてPVP(poly vinyl phenol)からなる層を形成し、さらにその上に、インクジェット法によりPEDOとPSSを含有する水溶液を滴下して乾燥させることにより、ゲート電極7を形成した。
このようにして、基板1上に、ソース電極3、ドレイン電極4、有機半導体層5、絶縁層6、およびゲート電極7からなる有機薄膜トランジスタ8が形成された。
【0018】
この有機薄膜トランジスタ8を備えた電気光学装置の例としては、アクティブマトリックス型の電気泳動表示装置が挙げられる。アクティブマトリックス型の電気泳動表示装置においては、図2に示すように、基板1上に複数の画素電極21が形成され、各画素電極21毎に有機薄膜トランジスタ8が形成されている。また、駆動回路の信号線が各有機薄膜トランジスタ8のソース電極3に接続され、走査線が各有機薄膜トランジスタ8のゲート電極7に接続され、各画素電極21が各有機薄膜トランジスタ8のドレイン電極4に接続されている。なお、ソース電極3とドレイン電極4の間の隔壁2aは、画素電極21と信号線からの配線22との間の基板1面から立ち上げてある。
【0019】
この電気泳動表示装置を製造する際には、先ず、基板1上に、前述の方法で有機薄膜トランジスタ8を形成するとともに、各画素電極21を形成し、画素電極21の上部にポリイミド樹脂からなる隔壁61で囲われた空間を形成する。そして、この空間内に、電気泳動粒子91aと液相分散媒91bとからなる電気泳動分散液91を充填する。次に、ポリイミドフィルム15の一方の面にITO薄膜16を所定厚さで形成し、これをITO薄膜16側を下側にして前記基板1の上に固定する。このようにして、図2に示すような電気泳動表示装置の電気泳動表示パネルが得られる。
【0020】
本発明の方法により製造される電気光学装置の一例である電気泳動表示装置は、例えば、電子ペーパー、電子ノート、電子ブック、モバイル型のパーソナルコンピュータ、携帯電話、ディジタルスチルカメラ等の各種電子機器の表示部に適用することができる。
図3は、電子ペーパー(リライタブルシート)の外観構成を示す斜視図である。この電子ペーパー200は、本体201と電子泳動表示パネル202とからなる。本体201および電子泳動表示パネル202は、紙と同様の質感及び柔軟性を有するシート状に形成されている。電子泳動表示パネル202の駆動回路は本体201に内蔵するか、電子ペーパーとは別体の書き換え装置として設ける。
【0021】
図4は、上述の電子ペーパー200の書き換え/表示装置を示す断面図(a)と平面図(b)である。この装置は、ハウジング401と、二組の搬送ローラ対402a,402bと、ハウジング401の観察面(表示面)に形成された矩形孔403と、矩形孔403に嵌め込まれた透明ガラス板404と、電子ペーパー200のハウジング401内への挿入口405と、ソケット407と、コントローラー408と、操作部409とを備えている。
【0022】
二組の搬送ローラ対402a,402bは、ハウジング401の内部に間隔を開けて配置されている。一方の搬送ローラ対402bは、電子ペーパー200の挿入口405の近くに、他方の搬送ローラ対402aは挿入口405から離れた位置に配置されている。ソケット407は、挿入口405から離れた位置の搬送ローラ対402aより更に奥側(挿入口405とは反対側)に配置されている。
【0023】
電子ペーパー200の先端には端子部205が設けてある。挿入口405からハウジング401内に挿入された電子ペーパー200の両端は、二組の搬送ローラ対402a,402bで挟持される。この状態で、電子ペーパー200の端子部205はソケット407に差し込まれ、反対側の端部は挿入口405より外側に出る。この端部を持って引くことにより、電子ペーパー200をハウジング401内から取り出すことができる。ソケット407には、駆動回路を備えたコントローラー408が接続されている。操作部409は、ハウジング401の表示面の透明ガラス板404の脇に設けてある。
【0024】
この装置を使用する際には、先ず、電子ペーパー200の表示面が透明ガラス板404側となるように電子ペーパー200を挿入口405からハウジング401内に入れる。次に、操作部409を操作することで、コントローラ408を作動させて、電子ペーパー200に画像を書き入れたり、表示された画像を消去したり、書き換えたりする。画像が書き込まれた電子ペーパー200は、ハウジング401内に入った状態で透明ガラス板404からその画像を見ることもできるし、ハウジング401から外して携帯することもできる。
【0025】
図5は電子ノートの外観構成を示す斜視図である。この電子ノートは、図3に示す前述の電子ペーパー200が複数枚束ねられ、その外側にノートブック状にカバー301を設けたものである。カバー301に表示データ入力手段を備えれば、束ねられた状態で電子ペーパー200の表示内容を変更することができる。
図6は電子ブックの外観構成を示す斜視図である。この電子ブック500は、電気泳動表示装置からなる本体501とカバー502とからなり、本体501に表示部503と操作部504が設けてある。カバー502は本体501に対して開閉自在に取り付けてあり、カバー502を開けると表示部503の表示面および操作部504が露出するように構成されている。本体501には、コントローラ、カウンタ、メモリ、およびCDROM等の記憶媒体のデータを読み取るデータ読み取り装置等が内蔵されている。
【0026】
図7は、モバイル型のパーソナルコンピュータの外観構成を示す斜視図である。このパーソナルコンピュータ600は、キーボード601を備えた本体部602と、電気泳動表示装置からなる表示ユニット603とで構成されている。
図8は携帯電話の外観構成を示す斜視図である。この携帯電話700は、複数の操作ボタン701の他、受話口702、送話口703と共に、電気泳動表示装置からなる表示パネル704を備えている。
【0027】
図9は、ディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図であり、外部機器との接続についても簡易的に示している。
このディジタルスチルカメラ800は、ケース801と、ケース801の背面に形成され、CCD(Charge Coupled Device)による撮像信号に基づいて表示を行うようになっている電気泳動表示装置からなる表示パネル802と、ケース801の観察側(図においては裏面側)に形成される光学レンズやCCD等を含んだ受光ユニット803と、シャッタボタン804と、このシャッタボタン804を押した時点におけるCCDの撮像信号が、転送・格納される回路基板805と、を備えている。
【0028】
また、ディジタルスチルカメラ800におけるケース801の側面には、ビデオ信号出力端子806と、データ通信用の入出力端子807とが設けられており、前者にはテレビモニタ806Aが、後者にはパーソナルコンピュータ807Aが、それぞれ必要に応じて接続されている。そして、所定の操作によって、回路基板805のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ806Aや、パーソナルコンピュータ807Aに出力される構成となっている。
【0029】
なお、電気泳動表示装置を表示部等として適用できる電子機器としては、これらの他にも、テレビ、ビューファインダ型またはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、およびタッチパネルを備えた機器等を挙げることができる。
【0030】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、有機半導体材料を溶媒に溶解させた液体を、配向処理された面に塗布して溶媒を除去することにより、所定の分子配向を有する有機半導体層を形成する工程を備えた半導体装置(例えば、有機薄膜トランジスタ)の製造方法において、前記液体の塗膜を加熱しなくても、所定の分子配向を有する有機半導体層を形成できる方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に相当する有機薄膜トランジスタの製造方法を説明する図である。
【図2】本発明の方法により製造される電気光学装置の一例である電気泳動表示装置を示す断面図である。
【図3】電気泳動表示装置が適用される表示部を有する電子機器の例である電子ペーパーの外観構成を示す斜視図である。
【図4】電気泳動表示装置が適用される表示部を有する電子機器の例である電子ペーパーの書き換え/表示装置を示す断面図(a)と平面図(b)である。
【図5】電気泳動表示装置が適用される表示部を有する電子機器の例である電子ノートの外観構成を示す斜視図である。
【図6】電気泳動表示装置が適用される表示部を有する電子機器の例である電子ブックの外観構成を示す斜視図である。
【図7】電気泳動表示装置が適用される表示部を有する電子機器の例であるモバイル型パーソナルコンピュータの外観構成を示す斜視図である。
【図8】電気泳動表示装置が適用される表示部を有する電子機器の例である携帯電話の外観構成を示す斜視図である。
【図9】電気泳動表示装置が適用される表示部を有する電子機器の例であるディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
1 基板(PETフイルム)
2 ポリイミドからなる隔壁
3 ソース電極
4 ドレイン電極
5 有機半導体層
6 絶縁層
61 ポリイミド樹脂からなる隔壁
7 ゲート電極
8 有機薄膜トランジスタ
15 ポリイミドフィルム
16 ITO薄膜
21 画素電極
91a 電気泳動粒子
91b 液相分散媒
91 電気泳動分散液
200 電子ペーパー(電子機器)
201 本体
202 電子泳動表示パネル
205 端子部
300 電子ノート(電子機器)
301 カバー
400 電子ペーパーの書き換え/表示装置
401 ハウジング
402a 搬送ローラ対
402b 搬送ローラ対
403 矩形孔
404 透明ガラス板
405 挿入口
407 ソケット
408 コントローラー
409 操作部
500 電子ブック(電子機器)
501 本体
502 カバー
503 表示部
504 操作部
600 モバイル型パーソナルコンピュータ(電子機器)
601 キーボード
602 本体部
603 表示ユニット
700 携帯電話(電子機器)
701 操作ボタン
702 受話口
703 送話口
704 表示パネル
800 ディジタルスチルカメラ(電子機器)
801 ケース
802 表示パネル
803 受光ユニット
804 シャッタボタン
805 回路基板
806 ビデオ信号出力端子
806A テレビモニタ
807 入出力端子
807A パーソナルコンピュータ

Claims (7)

  1. 有機半導体材料を溶媒に溶解させた液状材料を配向処理された基板に塗布する工程と、
    前記溶媒を除去する工程と、を含み、
    前記溶媒として低分子液晶性材料を用い、前記液状材料を基板に塗布する工程により、前記低分子液晶性材料が配向され、さらに、前記低分子液晶性材料の配向に伴い、前記有機半導体材料が配向すること、を特徴とする有機薄膜トランジスタの製造方法。
  2. ソース電極及びドレイン電極の少なくともいずれかの表面に配向処理をした後、前記少なくともいずれかの表面上に、有機半導体材料を溶媒に溶解させた液状材料を塗布する工程と、
    前記溶媒を除去する工程と、を含み、
    前記溶媒として低分子液晶性材料を用い、前記液状材料を基板に塗布する工程により、前記低分子液晶性材料が配向され、さらに、前記低分子液晶性材料の配向に伴い、前記有機半導体材料が配向すること、を特徴とする有機薄膜トランジスタの製造方法。
  3. 前記有機半導体材料は液晶性を有すること、を特徴とする請求項2記載の有機薄膜トランジスタの製造方法。
  4. 前記有機半導体材料は9,9−ジオクチルフルオレン−co−ビチオフェンであること、を特徴とする請求項3記載の有機薄膜トランジスタの製造方法。
  5. 前記低分子液晶性材料として、シクロヘキサン系化合物、フェニルシクロヘキサン系化合物、ビフェニール系化合物、及びデカリン系化合物うち少なくとも1つの化合物を使用すること、を特徴とする請求項2乃至4のいずれか1項に記載の有機薄膜トランジスタの製造方法。
  6. 前記低分子液晶性材料として、4−シアノ−4´−n−ヘキシルビフェニール、4−シアノ−4´−n−ペンチルビフェニール、4−(4´−n−プロピルシクロヘキシル)−シアノベンゼン、4−(4´−n−ペンチルシクロヘキシル)−シアノベンゼン、または2,6−ジ−n―プロピルデカリンを使用する請求項2乃至4のいずれか1項に記載の有機薄膜トランジスタの製造方法。
  7. 電気光学素子として機能する材料層を形成する工程と、
    請求項1乃至6のいずれか1項に記載の方法で有機薄膜トランジスタを形成する工程と、を含む電気光学装置の製造方法。
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WO2006054686A1 (ja) * 2004-11-18 2006-05-26 Konica Minolta Holdings, Inc. 有機薄膜トランジスタの製造方法及び有機薄膜トランジスタ
KR101133759B1 (ko) * 2004-12-28 2012-04-09 삼성전자주식회사 전기 영동 표시 장치 및 그 제조 방법
JP2009032897A (ja) * 2007-07-27 2009-02-12 Sony Corp 機能性分子素子の製造方法及び機能性分子装置の製造方法、並びに集積素子の製造方法
GB2469507B (en) * 2009-04-16 2011-05-04 Cambridge Display Tech Ltd Organic thin film transistors
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