JP4418315B2 - 膜特性検査装置、製膜装置、膜特性検査方法及び膜の製造方法 - Google Patents
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Description
生産効率の向上に繋がる。
フレームA3は、一端を部材2aに、他端を部材2bに移動可能に接続されている。フレームA3は、後述のLMガイドA6(6a、6b)により、基板15の移動する平面に対して略平行を保ちながら、上下方向(Z方向)に移動可能である。
LMガイド(linear motion guide:直線運動案内)A6aは部材2aに、LMガイド6bは部材2bにそれぞれ固定されている。フレーム3Aの両端部による部材2a、2bに沿った直線運動を案内する。
フレームB4は、一端をガイド付きシリンダ7aのシリンダの先に、他端をガイド付きシリンダ7bのシリンダの先にそれぞれ固定されている。ガイド付きシリンダ7aとガイド付きシリンダ7bとが、それらのシリンダを連動して上下させることで、フレームB4は、基板15の移動する平面に対して略平行を保ちながら、上下方向(Z方向)に移動可能である。
前後シリンダ9は、シリンダの移動方向がLMガイドB8の案内方向(X方向)と平行になるように、フレームB4に固定されている。結合部9a及び支持部17を介して、フレームC5を、LMガイドB8による直線運動における所定の位置に戻す。
支持部17は、LMガイドB8に移動可能に接続されている。また、前後シリンダ9のシリンダの先に固定的に接続されている。フレームC5が基板5上に降下しプローブヘッド10が基板5上に置かれて基板5と共に移動するとき、LMガイドB8がフレームC5を案内するのを媒介する。フレームC5が基板5上から上昇したとき、前後シリンダ9がフレームC5を所定の位置へ戻すのを媒介する。
フレームC5は、略基板の幅の長さを有し、支持部17に揺動可能に支持されている。やじろべいのように揺動可能なので、基板15の表面と対向するフレームC5の面とが平行でない場合でも、プローブヘッド10が基板15の表面に接触したときに、基板15の表面と対向するフレームC5の面とが平行になることができる。
なお、ここでは、プローブヘッド10の数が4個であるが、本発明はこの例に限定されるものではなく、1個から可能な所望の数まで設けることができる。それにより、さらに多くの測定点で計測が可能となる。また、プローブヘッド10が固定的にフレームC5に固定されているが、揺動可能に保持されていても良い。それにより、基板15上に凹凸がある場合でも、プローブヘッド10のプローブ13の先端を適切に基板15に接触することができる。
電磁弁19は、門型フレーム2に固定されている。外部からの信号に基づいて、フレームA3の駆動部3a、ガイド付きシリンダ7、前後シリンダ9へ、それらを駆動する空気を供給する。
PLC31は、N=1(測定回数)、M=1(プローブヘッド10a)を設定する。
(2)ステップS02
製膜装置本体21は、透明導電膜を製膜した基板15(例示:1.4m×1.1m)を製膜装置本体出口22から搬出する。基板15は、概ね一体の速度で移動している(例示:500mm/min.)。光電スイッチ16は、搬出された基板15を検知する。
(3)ステップS03
光電スイッチ16は、基板15の検知を示す検出信号をPLC31へ出力する。
(4)ステップS04
PLC31は、検出信号に応答して、カウント開始を指示する第1カウント開始信号を計測スタートタイマ33へ出力する。
(5)ステップS05
計測スタートタイマ33は、第1カウント開始信号に応答して、1回目の計測タイミングを計る。
(6)ステップS06
計測スタートタイマ33は、タイムアップした時点で、タイムアップを示す第1タイムアップ信号をPLC31へ出力する。
(7)ステップS07
PLC31は、第1タイムアップ信号に応答して、ガイド付きシリンダ7を下降させる下降信号を電磁弁19へ出力する。これにより、ガイド付きシリンダ7が下降して、プローブヘッド10が基板15上に降りる。
ただし、下降信号の出力は、時間的にタイミングを計って行うのではなく、機械的にタイミングを計って行っても良いし、基板15の移動位置を計測してそれに基づいて行っても良い。
(8)ステップS08
ガイド付きシリンダ7は、所定の長さ以上に伸びたとき、シリンダスイッチ(図示されず)から下降完了を示す下降確認信号をPLC1へ出力する。所定の長さ以上に伸びることは、プローブヘッド10が基板15上に降りたことに対応する。
(9)ステップS09
PLC1は、下降確認信号に応答して、PC32へ計測開始を指示する計測開始信号を出力する。計測開始信号には、N及びMの値が含まれる。
(10)ステップS10
PC32は、4端子抵抗測定器での測定を開始する。対応する四端子抵抗計測装置35(35a〜35d)を用いて、測定点mNMに対応するプローブヘッド10(10a〜10d)の電流用端子間に電流を流す。
(11)ステップS11
PC32は、四端子抵抗計測装置35の電圧用端子間の電圧及び電流端子間の電流を取り込むことを、所定の時間だけ遅延する。それにより、電流及び電圧が安定することを待つ。
(12)ステップS12
PC32は、四端子抵抗計測装置35の電圧用端子間の電圧及び電流端子間の電流を取り込む。ステップS10〜S12まで約1秒である。
(13)ステップS13
PC32は、所定の計算式に基づいて、測定点mNMの抵抗値を算出する。算出されたデータを記憶装置(図示されず)に格納する。
(14)ステップS14
PC32は、M=M+1とする。
(15)ステップS15
PC32は、M>4でない場合(ステップS15:NO)、ステップS10に戻り、M>4となるまでプロセスを繰り返す。M>4である場合(ステップS15:YES)、ステップS16に進む。
なお、ここでは、1箇所ずつ測定を行っているが、一度に測定するように設定することも可能である。
(16)ステップS16
PC32は、N=N+1とする。
(17)ステップS17
PC32は、計測終了を示す計測終了信号をPLC31へ出力する。計測終了信号には、N及びMの値が含まれる。
(18)ステップS18
PLC31は、計測終了信号に応答して、カウント開始を指示する第2カウント開始信号を計測インターバルタイマ34へ出力する。
(19)ステップS19
計測インターバルタイマ34は、第2カウント開始信号に応答して、2回目の計測タイミングを計る。
(20)ステップS20
PLC31は、計測終了信号に応答して、ガイド付きシリンダ7を上昇させる上昇信号を電磁弁19へ出力する。これにより、ガイド付きシリンダ7が上昇して、プローブヘッド10が基板15から離れる。
(21)ステップS21
ガイド付きシリンダ7は、初期状態(伸びがゼロ)に戻ったとき、シリンダスイッチ(図示されず)から上昇完了を示す上昇確認信号をPLC1へ出力する。
(22)ステップS22
PLC31は、上昇確認信号に応答して、前後シリンダ9を初期位置へ戻させる復帰信号を電磁弁19へ出力する。これにより、前後シリンダ9が移動して、プローブヘッド10が測定前の位置へ移動する。
(23)ステップS23
前後シリンダ9は、初期状態に戻ったとき、シリンダスイッチ(図示されず)からの復帰完了を示す復帰確認信号をPLC31へ出力する。
(24)ステップS24
計測インターバルタイマ34は、タイムアップした時点で、タイムアップを示す第2タイムアップ信号をPLC31へ出力する。
(25)ステップS25
PLC31は、N>4である場合(ステップS24:YES)、ステップS26へ進む。
PLC31は、N>4でない場合(ステップS25:NO)、第2タイムアップ信号に応答して、ステップS07へ戻る。そして、ステップS07〜ステップS23を実行し、2回目から4回目の測定を行う。ただし、2回目以降の測定を行うタイミングとして、タイムアップの計測ではなく、機械的な方法や、基板15の移動位置を計測して移るようにしても良い。
(26)ステップS26
PLC31は、測定終了を示す測定終了信号をPC32へ出力する。
(27)ステップS27
PC32は、測定終了信号に応答して、記憶装置に格納された一枚の基板15の測定結果に基づいて、その基板15の透明導電膜の特性が所定の条件を満足するか否かを判定する。所定の条件としては、例えば、16個の測定点mNM(N=1〜4、M=1〜4)の測定結果(抵抗値)の最大値と最小値との差が所定の第1基準値以下であり、且つ、全測定結果の絶対値が所定の第2基準値以下である場合である。所定の条件が満足された場合、その基板15(透明導電膜)を合格と判定する。
(28)ステップS28
PC32は、その基板15(透明導電膜)が上記の所定の条件を満たさない場合、異常と判定する。PC32は、その異常が発生した旨をPC32の表示装置(図示されず)に表示し、作業者の注意を更に促すように音声装置(図示されず)から警報音を発報する。
(29)ステップS29
PC32は、基板15のIDと測定結果と判定結果とを関連付けて、PC32の表示装置に表示すると共に、記憶装置に格納する。
膜特性検査装置1は、製膜装置本体21で表面に透明導電膜を製膜された基板に対して、電気特性の検査を行う。詳細は上述の通りである。
製膜制御部62は、製膜装置本体21の製膜条件を制御して、製膜装置本体21に透明導電膜を基板15上に形成させる。加えて、膜特性検査装置1の測定結果のフィードバックに基づいて、その後の製膜における製膜条件を変更し、より良い電気特性を有するように透明導電膜を形成させる。
記憶部64は、基板15上の透明導電膜のある領域の電気特性が所定の条件を満足しない場合の対処方法に関するデータが格納されている。例えば、所定の条件を満足しない度合い(例示:抵抗値の基準値と実測値との差)と、その基板15内の領域の位置と、対処方法としての製膜条件(製膜ガスの種類(濃度、分圧)や流量)の変更量とが関連付けて格納されている。
製膜制御部62は、作業者又は他の装置からの入力に基づいて、製膜条件を設定される。
(2)ステップS32
製膜装置本体21は、基板搬送装置から基板15を受け取る。製膜制御部62の制御により、製膜装置本体21は、設定された製膜条件に基づいて、基板15上に透明導電膜を形成する。透明導電膜を製膜された基板15は、製膜装置本体出口22から搬出される。
(3)ステップS33
膜特性検査装置1は、既述のステップS01〜S29により、膜特性を測定し、判定を行う。基板ID、測定結果及び判定結果は、製膜制御部62へ送信される。
(4)ステップS34
製膜制御部62は、判定結果が所定の条件を満たすと判定されているか否かを判断する。
(5)ステップS35
製膜制御部62は、判定結果が所定の条件を満たさないと判定されていた場合(ステップS34:NO)、測定結果に基づいて、記憶部64のデータを参照して、製膜条件を調整(変更)する。
(6)ステップS36
判定結果が所定の条件を満たさないと判定されていた基板15については、それ以降の工程を行わないように、基板搬送装置(図示されず)から除去する指令及び基板IDを出力する。
(7)ステップS37
製膜制御部62は、製膜を終了するか否かを判断する。例えば、所定の枚数の基板15について製膜を行ったか否か、製膜の作業時間が終了したか否かなどの基準で判断する。製膜を継続する場合(ステップS37:NO)、ステップS32へ戻る。
渦電流計測回路45は、四端子抵抗測定装置に対応する。PC32に制御される。保持容器51は、プローブ先端部12に対応する。弾性部11(図示されず)に結合され、プローブ保持部14(図示されず)に摺動可能に保持される。コア52と励磁巻線53と検出巻線54とはプローブ13に対応する。保持容器51の脚部51aはスプリングが無く、コア52と基板15とのギャップdを一定に保つ。衝撃の吸収及び一定の押し圧の発生は、弾性部11で行う。
2 門型フレーム
3 フレームA
4 フレームB
5 フレームC
6、6a、6b LMガイドA
7、7a、7b ガイド付きシリンダ
8 LMガイドB
9 前後シリンダ
10、10a、10b、10c、10d プローブヘッド
11 弾性部
12 プローブ先端部
13 プローブ
14 保持部
15 基板
16 光電スイッチ
17 支持部
18 振れ止め
19 電磁弁
21 製膜装置本体
21a、24 台
22 製膜装置本体出口
23、25 コンベア
30 検査制御部
31 PLC
32 PC
33 計測スタートタイマ
34 計測インターバルタイマ
35、35a、35b、35c、35d 四端子抵抗計測装置
40 渦電流センサ
45 渦電流計測回路
51 保持容器
51a 脚部
52 コア
53 励磁巻線
54 検出巻線
60 製膜装置
62 製膜制御部
64 記憶部
Claims (10)
- 基板上に製膜された膜の電気特性の計測に用いる測定子と、
前記測定子を前記基板の移動する経路上に前記経路から離れて保持する保持部と、
前記測定子と前記保持部とを制御する制御部と
を具備し、
前記制御部は、移動中の前記基板が所定の位置に到達したことを示す検知信号に基づいて、前記保持部へ測定開始信号を出力し、
前記保持部は、前記測定開始信号に基づいて、前記測定子を、初期位置から移動中の前記基板の一の測定点に接触させて生じる接触抵抗により、前記基板に引っ張られて一時的に前記基板と共に移動するように保持し、
前記制御部は、移動中の前記一の測定点における前記膜の電気特性を、前記測定子を用いて測定し、
前記保持部は、前記一の測定点の測定終了時に前記測定子を初期位置に戻し、同じ前記基板の他の測定点に接触させて生じる接触抵抗により、前記基板に引っ張られて一時的に前記基板と共に移動するように保持し、
前記制御部は、移動中の前記他の測定点の前記膜の電気特性を、前記測定子を用いて測定する膜特性検査装置。 - 請求項1に記載の膜特性検査装置において、
前記保持部は、
前記測定子を保持する第1保持部と、
前記第1保持部を、前記基板の移動方向、及び、上下方向を含む方向へ移動可能に保持する第2保持部と
を備える膜特性検査装置。 - 請求項2に記載の膜特性検査装置において、
前記第2保持部は、第1保持部を揺動可能に保持する支持部を更に備える膜特性検査装置。 - 請求項2又は3に記載の膜特性検査装置において、
前記測定子は、
プローブと、
前記プローブを上下方向を含む方向へ弾性的に保持する弾性部と
を備える膜特性検査装置。 - 請求項4に記載の膜特性検査装置において、
前記プローブは、四端子測定子、及び、渦電流法に用いるコイル測定子のうちの一方を含む膜特性検査装置。 - 請求項2乃至5のいずれか一項に記載の膜特性検査装置において、
前記測定子は、複数あり、
前記第1保持部は、前記複数の測定子を、前記基板の移動方向に対して概ね垂直な方向に並ぶように保持する膜特性検査装置。 - 基板に膜を形成する製膜装置本体と、
前記膜の電気特性を測定する請求項1乃至6のいずれか一項に記載の膜特性検査装置と、
膜全面における電気特性の分布と製膜条件との関係を格納する記憶部と、
前記測定結果に基づいて、前記記憶部を参照して、膜の各部分の電気特性が所定の範囲に収まるように前記製膜装置本体の製膜条件を制御する制御部と
を具備する製膜装置。 - (a)表面に膜を有し移動中の基板が所定の位置に来たことを検知するステップと、
(b)前記検知に基づいて、初期位置に保持されていた電気特性の測定に用いる複数の測定子を、移動中の前記基板の一の測定点に降下させて前記基板上に接触させるステップと、
(c)前記基板の一の測定点との接触から生じる接触抵抗により、前記基板に引っ張られて一時的に前記基板と共に移動する前記複数の測定子により、前記一の測定点における前記膜の電気特性を測定するステップと、
(d)前記複数の測定子を前記基板上から除き、前記初期位置へ戻すステップと、
(e)前記複数の測定子が前記初期位置へ戻った後、再び、前記複数の測定子を移動中の同じ前記基板の他の測定点に降下させて前記基板上に接触させるステップと、
(f)前記基板の他の測定点との接触から生じる接触抵抗により、前記基板に引っ張られて一時的に前記基板と共に移動する前記複数の測定子により、前記他の測定点における前記膜の電気特性を測定するステップと、
(g)前記複数の測定子を前記基板上から除き、前記初期位置へ戻すステップと
を具備し、
前記(e)乃至前記(g)ステップを所定の回数だけ繰り返す膜特性検査方法。 - 請求項8に記載の膜特性検査方法において、
(h)一つの基板における測定結果を所定の条件と比較して、所定の条件を満足するか否かを判定するステップと、
(i)前記所定の条件が満たされない場合、その旨の表示又は警報を出力するステップと
を更に具備する膜特性検査方法。 - (j)製膜装置本体により基板に膜を製膜するステップと、
(k)前記膜について、請求項8または9に記載の膜特性検査方法を実行するステップと、
(l)前記検査結果に基づいて、前記膜特性が所定の条件を満たさないとき、各部分の膜特性が前記所定の条件に収まるように前記膜の製膜条件を変更するステップと
を具備する膜の製造方法。
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