JP4412915B2

JP4412915B2 - フラックス転写装置及びフラックス転写方法

Info

Publication number: JP4412915B2
Application number: JP2003131154A
Authority: JP
Inventors: 武義磯貝; 範明岩城; 剛濱根
Original assignee: Fuji Machine Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Fuji Corp
Priority date: 2003-05-09
Filing date: 2003-05-09
Publication date: 2010-02-10
Anticipated expiration: 2023-05-09
Also published as: JP2004330261A; WO2004100629A1

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、転写テーブル上でフラックス、導体ペースト、導電性接着剤等（以下これらを「フラックス」と総称する）をスキージで均一に押し広げてフラックス膜を形成し、このフラックス膜に転写対象物を浸漬（ディップ）させることで、この転写対象物にフラックスを転写するフラックス転写装置及びフラックス転写方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
この種のフラックス転写装置は、特許文献１（特開平８−２３６９１５号公報）、特許文献２（特開２０００−２２８５７５号公報）に示すように、転写テーブルの上面に形成された成膜用凹面部にフラックスを供給し、該成膜用凹面部の底面とスキージとのギャップを一定に保持した状態で、該スキージ又は該転写テーブルを移動させることで、成膜用凹面部内のフラックスをスキージで均一に押し広げるスキージングを行ってフラックス膜を形成するようにしている。転写対象物へのフラックスの転写は、このフラックス膜にバンプ等の転写対象物をディップすることにより行われるため、転写によって減少したフラックスを転写後に補充してスキージングを行った後、次の転写を行うという手順を繰り返すようにしている。
【０００３】
【特許文献１】
特開平８−２３６９１５号公報（第３頁〜第４頁、図４等）
【特許文献２】
特開２０００−２２８５７５号公報（第３頁〜第４頁等）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来のフラックス転写装置では、転写によって減少したフラックスを補充することは可能であるが、転写テーブル上に残ったフラックスは、繰り返しスキージング動作を行っても入れ替わることはない。
【０００５】
一般に、フラックスは、その性質上、大気に触れた状態で放置されると、その時間が長くなるに従って硬化する等の性質変化が生じる。上記従来のフラックス転写装置では、転写テーブル上に残ったフラックスは、繰り返しスキージング動作を行っても入れ替わることはないため、転写テーブル上に残ったフラックスが次第に硬化してしまい、その結果、スキージング動作を行ってもフラックス膜の表面が平坦にならず凹凸が出来てしまい、バンプ等の転写対象物へのフラックスの転写状態に過不足を生じるという欠点がある。しかも、スキージング動作時にフラックス膜の上層のみを掻くことになるため、フラックスの硬化の問題の他に、フラックスの酸化、劣化、マイクロエアの混入によるフラックスの品質低下の問題もある。
【０００６】
本発明はこのような事情を考慮してなされたものであり、従ってその目的は、転写テーブルの成膜用凹面部内のフラックスを入れ替えることができて、スキージング動作によって凹凸のない平坦な高品質のフラックス膜を形成することができ、バンプ等の転写対象物へのフラックスの転写品質を向上できるフラックス転写装置及びフラックス転写方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１に係る発明は、転写テーブルの上面に形成された成膜用凹面部に、フラックス、導体ペースト、導電性接着剤のうちのいずれか１つ（以下これらを「フラックス」と総称する）を供給し、前記転写テーブル上に配置されたスキージ又は該転写テーブルを移動させることで、前記成膜用凹面部内のフラックスを前記スキージで均一に押し広げてフラックス膜を形成し、このフラックス膜にバンプ等の転写対象物を浸漬させることで、この転写対象物にフラックスを転写するフラックス転写装置において、前記成膜用凹面部の底面に当接した状態で該成膜用凹面部のいずれか一方側から他方側に相対的に移動されて該成膜用凹面部内の使用済みのフラックスを該成膜用凹面部から掻き出す掻出用スキージと、前記成膜用凹面部内に供給されたフラックスを該成膜用凹面部のいずれか一方側から他方側に均一に押し広げてフラックス膜を形成する成膜用スキージと、フラックス膜形成時には前記掻出用スキージを上方に退避させ、フラックス掻出時には前記成膜用スキージを上方に退避させるスキージ切換手段とを備えた構成とし、更に、前記掻出用スキージの幅寸法を前記成膜用凹面部の幅寸法よりも小さく設定し、前記成膜用スキージの幅寸法を前記成膜用凹面部の幅寸法よりも大きく設定すると共に、前記成膜用凹面部の深さ寸法を前記フラックス膜の厚さ寸法と同一に設定し、前記成膜用スキージの両端部を前記成膜用凹面部の両側に突出させて前記転写テーブルの上面に当接させた状態で該成膜用スキージ又は該転写テーブルを移動させることで、該成膜用凹面部内のフラックスを均一に押し広げてフラックス膜を形成し、フラックス膜の形成後に前記掻出用スキージを前記成膜用凹面部の底面に当接させた状態で該掻出用スキージ又は前記転写テーブルを移動させることで、該成膜用凹面部内の使用済みのフラックスを該成膜用凹面部から掻き出すように構成したものである。
【０００８】
このフラックス転写装置を使用する場合は、請求項５のように、成膜用凹面部内にフラックスを供給して成膜用スキージによって該フラックスを均一に押し広げてフラックス膜を形成する工程と、バンプ等の転写対象物を前記フラックス膜に浸漬させることで、この転写対象物にフラックスを転写する工程と、前記掻出用スキージを前記成膜用凹面部の底面に当接させた状態で該掻出用スキージによって該成膜用凹面部内の使用済みのフラックスを該成膜用凹面部から掻き出す工程とを繰り返すようにすると良い。このようにすれば、転写工程を何回繰り返しても、転写工程終了毎に転写テーブルの成膜用凹面部内に残った使用済みのフラックスを掻出用スキージによって成膜用凹面部から掻き出して、新たなフラックスと入れ替えてから、成膜用スキージのスキージング動作を行うことで、常に、新たなフラックスを使用して凹凸のない平坦な高品質のフラックス膜を形成することができ、バンプ等の転写対象物に均一にフラックスを転写できる。これにより、従来のフラックスの硬化の問題は勿論、フラックスの酸化、劣化、マイクロエアの混入によるフラックスの品質低下の問題も一挙に解消することができ、バンプ等の転写対象物へのフラックスの転写品質を向上できる。
【０００９】
この場合、請求項１のように、成膜用スキージの幅寸法を成膜用凹面部の幅寸法よりも大きく設定すると共に、成膜用凹面部の深さ寸法をフラックス膜の厚さ寸法と同一に設定し、成膜用スキージの両端部を成膜用凹面部の両側に突出させて転写テーブルの上面に当接させた状態で該成膜用スキージ又は該転写テーブルを移動させることで、該成膜用凹面部内のフラックスを均一に押し広げてフラックス膜を形成するようにすれば、フラックス膜を形成するスキージング時に、成膜用スキージと成膜用凹面部の底面とのギャップ（フラックス膜の厚さ寸法）を成膜用凹面部の深さ寸法によって一定寸法に正確に規制することができ、厚みが均一でかつ平坦性に優れたフラックス膜を簡単な構成で能率良く形成することができる。更に、フラックス膜の形成後に掻出用スキージを成膜用凹面部の底面に当接させた状態で該掻出用スキージ又は転写テーブルを移動させることで、該成膜用凹面部内の使用済みのフラックスを該成膜用凹面部から掻き出すようにすれば、フラックス膜の形成後に成膜用凹面部内の使用済みのフラックスを該成膜用凹面部から能率良く掻き出すことができる。
また、請求項２のように、掻出用スキージにより使用済みのフラックスが掻き出された成膜用凹面部内にフラックスを吐出するフラックス吐出ノズルを配置した構成としても良い。
また、請求項３のように、転写テーブルには、深さ寸法の異なる複数個の成膜用凹面部を形成して、使用する成膜用凹面部を切り換えることで、フラックス膜の厚み寸法を切り換えるようにしても良い。
【００１０】
更に、請求項４のように、スキージ切換手段は、掻出用スキージと成膜用スキージとを回動部材にハ字状に取り付け、該回動部材を回動させることで、その回動方向側に位置するスキージを下降させてその反対側のスキージを上昇させるように構成すると良い。このようにすれば、回動部材の回動方向を切り換えるだけで、掻出用スキージと成膜用スキージの下降／上昇を簡単に切り換えることができ、スキージ切換手段の構成を簡単化することができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
［実施形態（１）］
以下、本発明の実施形態（１）を図１乃至図４に基づいて説明する。
まず、図１乃至図３に基づいてフラックス転写装置の構成を説明する。転写テーブル１１の上面には、四角形状の成膜用凹面部１２が形成されている。この成膜用凹面部１２は、底面が平坦面に形成され、かつ、該成膜用凹面部１２の深さ寸法が該成膜用凹面部１２内で形成するフラックス膜１３の厚さ寸法と同一に設定されている。
【００１４】
この転写テーブル１１の上方には、成膜用スキージ１４と掻出用スキージ１５とが配置されている。この成膜用スキージ１４と掻出用スキージ１５とは、スキージ切換手段である回動部材１６にハ字状に取り付けられ、該回動部材１６を正逆回転可能なモータ等のアクチュエータ（図示せず）によって回動させることで、その回動方向側に位置するスキージを下降させてその反対側のスキージを上昇させるように構成されている。回動部材１６は、スキージング方向に対して直角に支持され、両スキージ１４，１５の下縁がスキージング方向に対して直角となっている。
【００１５】
成膜用スキージ１４の幅寸法は、成膜用凹面部１２の幅寸法よりも大きく設定されている。これにより、図１（ｃ）に示すように、フラックス膜１３を形成する工程で、成膜用スキージ１４の両端部を成膜用凹面部１２の両側に突出させて転写テーブル１１の上面に当接させた状態で転写テーブル１１（又は成膜用スキージ１４）を移動させることで、該成膜用凹面部１２内のフラックスを均一に押し広げるスキージングを行ってフラックス膜１３を形成するようにしている。
【００１６】
一方、掻出用スキージ１５の幅寸法は、成膜用凹面部１２の幅寸法よりも所定のクリアランス分だけ小さく設定されている。これにより、図３に示すように、成膜用凹面部１２内の使用済みのフラックスを掻き出す工程で、掻出用スキージ１５を成膜用凹面部１２の底面に当接させた状態で該成膜用凹面部１２のいずれか一方側から他方側に相対的に移動させることで、該成膜用凹面部１２内の使用済みのフラックスを掻き出すように構成されている。
【００１７】
また、回動部材１６の中央部付近には、成膜用凹面部１２内にフラックスを吐出するフラックス吐出ノズル１７が成膜用スキージ１４のスキージング方向側に取り付けられている。本実施形態（１）では、転写テーブル１１を前進・後退させる駆動機構（図示せず）が設けられ、転写テーブル１１を前進・後退させることで、成膜用スキージ１４や掻出用スキージ１５を動かさずにスキージングする構成となっている。但し、転写テーブル１１を固定して、成膜用スキージ１４や掻出用スキージ１５を転写テーブル１１の上面に沿って平行移動させてスキージングする構成としても良いことはいうまでもない。
【００１８】
次に、上記構成のフラックス転写装置を用いて、バンプ２０等の転写対象物にフラックスを転写する手順を説明する。本実施形態（１）では、図４に示す４つの動作を繰り返すことで、転写対象物へのフラックス転写を次のようにして繰り返す。
【００１９】
今、後述する掻出用スキージ１５によって転写テーブル１１の成膜用凹面部１２内の使用済みのフラックスが掻き出されて、成膜用凹面部１２内がほぼ空の状態になっているものとする。
【００２０】
この後、図１（ａ）に示すように、回動部材１６を反時計回り方向に回動させて掻出用スキージ１５を転写テーブル１１の上方へ退避させると共に、成膜用スキージ１４を下降させて成膜用スキージ１４の下縁を転写テーブル１１上面のうちの成膜用凹面部１２よりも反スキージング方向側の位置に当接させた状態にする。この状態で、フラックス吐出ノズル１７から成膜用凹面部１２内にフラックスを吐出する。
【００２１】
この後、転写テーブル１１を前進方向に移動させることで、図１（ｂ）、（ｃ）に示すように、成膜用スキージ１４の両端部を成膜用凹面部１２の両側に突出させて転写テーブル１１の上面に当接させた状態で、該成膜用凹面部１２内のフラックスを均一に押し広げるスキージングを行ってフラックス膜１３を形成する。このスキージング動作は、成膜用スキージ１４の下縁が成膜用凹面部１２よりもスキージング方向側の位置に到達するまで行われる。このようにして形成されるフラックス膜１３の厚み寸法は成膜用凹面部１２の深さ寸法と同一になる。
【００２２】
フラックス膜１３の形成後、図２に示すように、吸着ノズル１８に電子部品１９を吸着して、該電子部品１９を転写テーブル１１の上方から下降させて、該電子部品１９下面のバンプ２０（転写対象物）をフラックス膜１３に浸漬（ディップ）させることで、バンプ２０にフラックスを転写した後、該電子部品１９を転写テーブル１１の上方へ移動させる。
【００２３】
この後、図３（ａ）に示すように、回動部材１６を時計回り方向に回動させて成膜用スキージ１４を転写テーブル１１の上方へ退避させると共に、掻出用スキージ１５を下降させて掻出用スキージ１５の下縁を転写テーブル１１の成膜用凹面部１２の底面の端部に当接させた状態にする。この後、転写テーブル１１を後退方向に移動させることで、図３（ｂ）、（ｃ）に示すように、掻出用スキージ１５を成膜用凹面部１２の底面に沿って摺動させて、成膜用凹面部１２内の使用済みのフラックスを掻き出す。これにより、成膜用凹面部１２内がほぼ空の状態になる。
【００２４】
この後、図１（ａ）の状態に戻り、前述したように、成膜用凹面部１２内へのフラックスの吐出、成膜用スキージ１４によるフラックス膜１３の成膜、バンプ２０へのフラックスの転写（図２参照）、掻出用スキージ１５によるフラックスの掻き出し（図３参照）をこの順番で何回も繰り返す。
【００２５】
以上説明した本実施形態（１）によれば、転写テーブル１１の成膜用凹面部１２の底面に当接した状態で該成膜用凹面部１２のいずれか一方側から他方側に相対的に移動されて該成膜用凹面部１２内の使用済みのフラックスを掻き出す掻出用スキージ１５と、成膜用凹面部１２内に供給されたフラックスを該成膜用凹面部１２のいずれか一方側から他方側に均一に押し広げてフラックス膜１３を形成する成膜用スキージ１４とを設け、フラックス膜１３の形成時には、掻出用スキージ１５を上方に退避させた状態で成膜用スキージ１４によるスキージング動作を行い、フラックス掻出時には成膜用スキージ１４を上方に退避させた状態で掻出用スキージ１５によるスキージング動作を行うようにしたので、転写工程を何回繰り返しても、転写工程終了毎に成膜用凹面部１２内に残った使用済みのフラックスを掻出用スキージ１５によって成膜用凹面部１２から掻き出して、新たなフラックスと入れ替えてから、成膜用スキージ１４のスキージング動作を行うことで、常に、新たなフラックスを使用して凹凸のない平坦な高品質のフラックス膜１３を形成することができ、バンプ２０等の転写対象物に均一にフラックスを転写できる。これにより、従来のフラックスの硬化の問題は勿論、フラックスの酸化、劣化、マイクロエアの混入によるフラックスの品質低下の問題も一挙に解決することができ、バンプ２０等の転写対象物へのフラックスの転写品質を向上させることができる。
【００２６】
しかも、本実施形態（１）では、成膜用スキージ１４の幅寸法を成膜用凹面部１２の幅寸法よりも大きく設定すると共に、成膜用凹面部１２の深さ寸法をフラックス膜１３の厚さ寸法と同一に設定し、成膜用スキージ１４の両端部を成膜用凹面部１２の両側に突出させて転写テーブル１１の上面に当接させた状態でスキージング動作を行ってフラックス膜１３を形成するようにしたので、スキージング動作時に、成膜用スキージ１４と成膜用凹面部１２の底面とのギャップ（フラックス膜１３の厚さ寸法）を成膜用凹面部１２の深さ寸法によって一定寸法に正確に規制することができ、厚みが均一でかつ平坦性に優れたフラックス膜１３を簡単な構成で能率良く形成することができるという利点もある。
【００２７】
尚、成膜用スキージ１４の幅寸法が成膜用凹面部１２の幅寸法よりも小さい場合は、成膜用スキージ１４と成膜用凹面部１２の底面とのギャップを一定に保持するギャップ保持機構を設け、このギャップ保持機構でギャップを一定に保持した状態でスキージング動作を行うようにすれば良い。
【００２８】
また、本実施形態（１）では、掻出用スキージ１５と成膜用スキージ１４とを回動部材１６にハ字状に取り付け、該回動部材１６を回動させることで、その回動方向側に位置するスキージを下降させてその反対側のスキージを上昇させるように構成したので、回動部材１６の回動方向を切り換えるだけで、掻出用スキージ１５と成膜用スキージ１４の下降／上昇を簡単に切り換えることができ、スキージ切換手段の構成を簡単化することができる利点がある。
【００２９】
しかしながら、本発明は、成膜用スキージ１４と掻出用スキージ１５とを別々にシリンダ等の昇降用アクチュエータで昇降させる構成としても良い。
また、図１乃至図３の例では、転写テーブル１１に成膜用凹面部１２を１個のみ形成したが、転写テーブルを直線的に長く形成して、深さ寸法の異なる複数個の成膜用凹面部を形成し、使用する成膜用凹面部を切り換えることで、フラックス膜の厚み寸法を切り換えることができるようにしても良い。
【００３０】
また、転写テーブルは直線的に往復動させる直動型のものに限定されず、正逆回転可能な円筒型の転写テーブルに１個又は複数個の成膜用凹面部を形成するようにしても良い。
【００３１】
尚、本実施形態（１）では、転写工程終了後に、毎回、成膜用凹面部１２内に残った使用済みのフラックスを掻出用スキージ１５によって掻き出して新たなフラックスと入れ替えるようにしたが、転写工程を複数回実行する毎に、掻出用スキージ１５によるフラックスの掻き出しを１回実行するようにしても良い。この場合でも、成膜用凹面部１２内の使用済みのフラックスが硬化、酸化、劣化等を生じる前に新たなフラックスと入れ替えることができ、本発明の所期の目的を達成することができる。
【００３２】
［実施形態（２）］
次に、本発明に関連する参考例としての実施形態（２）を図５乃至図７に基づいて説明する。本実施形態（２）では、掻出用スキージを設けず、成膜用の１個のスキージ２１のみを設けた構成としている。そして、このスキージ２１の幅寸法を転写テーブル２２の成膜用凹面部２３の幅寸法よりも大きく設定すると共に、成膜用凹面部２３の深さ寸法をフラックス膜２４の厚さ寸法と同一に設定している。スキージング動作時には、スキージ２１の両端部を成膜用凹面部２３の両側に突出させて転写テーブル２２の上面に当接させた状態でスキージングするようにしている。更に、スキージ２１の中央部付近には、成膜用凹面部２３の中央部付近にフラックスを吐出するフラックス吐出ノズル２５を取り付けている。
【００３３】
また、転写テーブル２２の両側部には、スキージ２１の両端に近接してスキージング方向に沿って平行に延びる壁部２６を設け、この壁部２６とスキージ２１の端部との隙間を摺動クリアランス分の必要最小限の隙間に設定することで、スキージング時にスキージ２１の両端から流れ出ようとするフラックスを壁部２６で堰き止めるようにしている。スキージング時には、転写テーブル２２又はスキージ２１のいずれか一方を移動させれば良い。
【００３４】
上記壁部２６のうちの成膜用凹面部２３よりもスキージング方向側に位置する部分には、スキージ２１で掃き出されたフラックスを排出する切欠部２７を設け、転写テーブル２２の下方には、切欠部２７から排出されるフラックスを回収するフラックス回収部２８を樋状に設けた構成としている。
【００３５】
以上のように構成した本実施形態（２）では、スキージング動作時に、フラックス吐出ノズル２５から成膜用凹面部２３の中央部付近に新しいフラックスを吐出すると、成膜用凹面部２３内の使用済みのフラックスが新しいフラックスによって外側に押しやられるようになる。これにより、転写工程後に成膜用凹面部２３内に残った使用済みのフラックスを新たなフラックスと入れ替えることができ、スキージング動作によって凹凸のない平坦な高品質のフラックス膜２４を形成することができて、バンプ等の転写対象物に均一にフラックスを転写できる。
【００３６】
しかも、スキージング時にスキージ２１の両端から流れ出ようとするフラックスを壁部２６で堰き止めることができるため、新たに供給したフラックスがスキージング時にスキージ２１の両端から流れ出ることを防止することができ、必要最小限のフラックスの供給量で成膜用凹面部２３内のフラックスを新たなフラックスと入れ替えることができる。しかも、スキージ２１によって掃き出された使用済みのフラックスをスキージング終了時に切欠部２７から排出してフラックス回収部２８で回収することができるため、使用済みのフラックスをリサイクルして再使用できる利点もある。
【００３７】
尚、図５乃至図７の例では、転写テーブル１１に成膜用凹面部１２を１個のみ形成したが、転写テーブル２２を直線的に長く形成して、深さ寸法の異なる複数個の成膜用凹面部を形成し、使用する成膜用凹面部を切り換えることで、フラックス膜の厚み寸法を切り換えることができるようにしても良い。
【００３８】
また、転写テーブルは直線的に往復動させる直動型のものに限定されず、正逆回転可能な円筒型の転写テーブルに１個又は複数個の成膜用凹面部を形成するようにしても良い。
その他、本発明は、フラックスの転写装置に限定されず、導体ペースト、抵抗体ペースト、導電性接着剤等の転写装置としても使用可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施形態（１）におけるフラックス膜の形成工程を説明する工程図
【図２】実施形態（１）におけるフラックス転写工程を説明する工程図
【図３】実施形態（１）におけるフラックス掻き出し工程を説明する工程図
【図４】各工程の流れを示す工程フローチャート
【図５】実施形態（２）の転写テーブルの平面図
【図６】実施形態（２）のフラックス転写装置の縦断面図
【図７】実施形態（２）の転写テーブルの斜視図
【符号の説明】
１１…転写テーブル、１２…成膜用凹面部、１３…フラックス膜、１４…成膜用スキージ、１５…掻出用スキージ、１６…回動部材（スキージ切換手段）、１７…フラックス吐出ノズル、１８…吸着ノズル、１９…電子部品、２０…バンプ（転写対象物）、２１…スキージ、２２…転写テーブル、２３…成膜用凹面部、２４…フラックス膜、２５…フラックス吐出ノズル、２６…壁部、２７…切欠部、２８…フラックス回収部。

Claims

転写テーブルの上面に形成された成膜用凹面部に、フラックス、導体ペースト、導電性接着剤のうちのいずれか１つ（以下これらを「フラックス」と総称する）を供給し、前記転写テーブル上に配置されたスキージ又は該転写テーブルを移動させることで、前記成膜用凹面部内のフラックスを前記スキージで均一に押し広げてフラックス膜を形成し、このフラックス膜に転写対象物を浸漬させることで、この転写対象物にフラックスを転写するフラックス転写装置において、
前記成膜用凹面部の底面に当接した状態で該成膜用凹面部のいずれか一方側から他方側に相対的に移動されて該成膜用凹面部内の使用済みのフラックスを該成膜用凹面部から掻き出す掻出用スキージと、
前記成膜用凹面部内に供給されたフラックスを該成膜用凹面部のいずれか一方側から他方側に均一に押し広げてフラックス膜を形成する成膜用スキージと、
フラックス膜形成時には前記掻出用スキージを上方に退避させ、フラックス掻出時には前記成膜用スキージを上方に退避させるスキージ切換手段と
を備え、
前記掻出用スキージの幅寸法を前記成膜用凹面部の幅寸法よりも小さく設定し、
前記成膜用スキージの幅寸法を前記成膜用凹面部の幅寸法よりも大きく設定すると共に、前記成膜用凹面部の深さ寸法を前記フラックス膜の厚さ寸法と同一に設定し、
前記成膜用スキージの両端部を前記成膜用凹面部の両側に突出させて前記転写テーブルの上面に当接させた状態で該成膜用スキージ又は該転写テーブルを移動させることで、該成膜用凹面部内のフラックスを均一に押し広げてフラックス膜を形成し、
フラックス膜の形成後に前記掻出用スキージを前記成膜用凹面部の底面に当接させた状態で該掻出用スキージ又は前記転写テーブルを移動させることで、該成膜用凹面部内の使用済みのフラックスを該成膜用凹面部から掻き出すように構成されていることを特徴とするフラックス転写装置。
前記掻出用スキージにより使用済みのフラックスが掻き出された前記成膜用凹面部内にフラックスを吐出するフラックス吐出ノズルが配置されていることを特徴とする請求項１に記載のフラックス転写装置。
前記転写テーブルには、深さ寸法の異なる複数個の成膜用凹面部が形成され、使用する成膜用凹面部を切り換えることで、フラックス膜の厚み寸法を切り換えることを特徴とする請求項１又は２に記載のフラックス転写装置。
前記スキージ切換手段は、前記掻出用スキージと前記成膜用スキージとを回動部材にハ字状に取り付け、該回動部材を回動させることで、その回動方向側に位置するスキージを下降させてその反対側のスキージを上昇させるように構成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のフラックス転写装置。
請求項１乃至４のいずれかに記載のフラックス転写装置を用いて転写対象物にフラックスを転写するフラックス転写方法であって、
前記成膜用凹面部内にフラックスを供給して前記成膜用スキージによって該フラックスを均一に押し広げてフラックス膜を形成する工程と、
転写対象物を前記フラックス膜に浸漬させることで、この転写対象物にフラックスを転写する工程と、
前記掻出用スキージを前記成膜用凹面部の底面に当接させた状態で該掻出用スキージによって該成膜用凹面部内の使用済みのフラックスを該成膜用凹面部から掻き出す工程と
を繰り返すことを特徴とするフラックス転写方法。