JP4411314B2 - 磁気記録媒体用シリコン基板およびその製造方法 - Google Patents
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Description
2 Cr系下地層
3、13 磁気記録層
4、14 保護層
5、15 潤滑層
12 軟磁性裏打ち層
Claims (6)
- 99.999%以上の純度の多結晶シリコンからなり、結晶粒の平均グレインサイズが1mm以上15mm以下であり、その表面には中性もしくは酸性のスラリを用いたCMP表面平滑化加工が施されており、該表面は多結晶の粒界を反映した表面段差を有しない表面平滑性を有することを特徴とする磁気記録媒体用シリコン基板。
- 前記シリコン基板の直径は65mm以下である請求項1記載の磁気記録媒体用シリコン基板。
- 99.999%以上の純度で結晶粒の平均グレインサイズが1mm以上15mm以下の多結晶シリコン基板の表面を、中性もしくは酸性のスラリを用いたCMP処理で平滑化して多結晶の粒界を反映した表面段差を有しない表面平滑性のものとする工程を備えていることを特徴とする磁気記録媒体用シリコン基板の製造方法。
- 前記スラリとして、平均粒径20乃至80nmのコロイダルシリカを用い、前記スラリのpH値を2乃至7として前記CMP処理を実行することを特徴とする請求項3に記載の磁気記録媒体用シリコン基板の製造方法。
- 前記CMP処理されるシリコン基板を、150mm角以上の多結晶シリコン基板から直径65mm以下でコア抜きする工程を備えていることを特徴とする請求項3または4に記載の磁気記録媒体基板の製造方法。
- 請求項1または2記載のシリコン基板上に磁気記録層を備えた磁気記録媒体。
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