JP4405451B2 - 情報記録装置 - Google Patents
情報記録装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4405451B2 JP4405451B2 JP2005256466A JP2005256466A JP4405451B2 JP 4405451 B2 JP4405451 B2 JP 4405451B2 JP 2005256466 A JP2005256466 A JP 2005256466A JP 2005256466 A JP2005256466 A JP 2005256466A JP 4405451 B2 JP4405451 B2 JP 4405451B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insulating layer
- recording
- information
- recording apparatus
- information recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B9/00—Recording or reproducing using a method not covered by one of the main groups G11B3/00 - G11B7/00; Record carriers therefor
- G11B9/08—Recording or reproducing using a method not covered by one of the main groups G11B3/00 - G11B7/00; Record carriers therefor using electrostatic charge injection; Record carriers therefor
Description
図1−1は、本発明の第1の実施の形態にかかる情報記録装置の主要構成を説明するための図である。本実施の形態にかかる情報記録装置は、大容量および高速での記録・再生・消去が可能であり、記録情報の長時間保持が可能なMNOS(Metal-Nitride-Oxide-Semiconductor)構造を基本とする半導体ベースの記録媒体を利用した情報記録装置である。このようなMNOS構造を有する記録媒体においては、酸化膜(二酸化シリコン膜)と窒化膜(ナイトライド膜)からなる2層の絶縁膜の界面トラップに電荷を蓄積する構造になっている。
該第2の絶縁層13の表面から半導体基板11の所定の深さまで達して形成された第3の絶縁層16と、を備えて構成される。
は半導体基板のフェルミ電位の絶対値、qは電子の電荷、Ndは半導体基板の不純物濃度である。
第2の実施の形態では、上述した第1の実施の形態にかかる情報記録装置の変形例を説明する。図3は、本実施の形態にかかる情報記録装置の主要構成を説明するための図である。本実施の形態にかかる情報記録装置は、第1の実施の形態にかかる情報記録装置と同様に大容量および高速での記録・再生・消去が可能であり、記録情報の長時間保持が可能なMNOS(Metal-Nitride-Oxide-Semiconductor)構造を基本とする半導体ベースの記録媒体を利用した情報記録装置である。
第3の実施の形態では、上述した第1の実施の形態にかかる情報記録装置の他の変形例を説明する。図4は、本実施の形態にかかる情報記録装置の主要構成を説明するための図である。本実施の形態にかかる情報記録装置は、第1の実施の形態にかかる情報記録装置と同様に大容量および高速での記録・再生・消去が可能であり、記録情報の長時間保持が可能なMNOS(Metal-Nitride-Oxide-Semiconductor)構造を基本とする半導体ベースの記録媒体を利用した情報記録装置である。
は半導体基板のフェルミ電位の絶対値、qは電子の電荷、Ndは半導体基板の不純物濃度である。
第4の実施の形態では、本発明にかかる情報記録装置に静電容量方式再生を組み合わせた場合について説明する。図5は、本実施の形態にかかる情報記録装置の主要構成を説明するための図である。
第5の実施の形態では、本発明にかかる情報記録装置にFET(電界効果型トランジスタ)センサによる記録信号の再生を組み合わせた場合について説明する。図6は、本実施の形態にかかる情報記録装置の主要構成を説明するための図である。
第6の実施の形態では、上述した第1の実施の形態にかかる記録媒体10をディスク状に形成した情報記録装置(ディスクメモリ)について説明する。図7−1は、本実施の形態にかかる情報記録装置の主要構成を説明するための斜視図である。本実施の形態にかかる情報記録装置は、図7−1に示すようにディスク状に形成されたディスク状記録媒体70と、記録再生用電極針42を備えた記録再生用プローブ40と、記録消去用制御装置(図示せず)と、を備えて構成される。
第7の実施の形態では、上述した第1の実施の形態にかかる記録媒体10に対して、複数の記録再生用プローブを配列した2次元プローブ・アレーを備えた情報記録装置(マルチプローブメモリ)について説明する。図8−1は、本実施の形態にかかる情報記録装置の主要構成を説明するための斜視図である。本実施の形態にかかる情報記録装置は、図8−1に示すように記録媒体10と、複数の記録再生用プローブ40を備えた2次元プローブ・アレー81と、マルチプレクサ・ドライバ82と、記録消去用制御装置(図示せず)と、を備えて構成される。
11 半導体基板
12 絶縁層
13 絶縁層
14 媒体保護層
15 電極層
16 絶縁層
17 記録ビット領域
18 電荷
19 空乏層
20 記録媒体
21 絶縁層
30 記録媒体
31 溝部
32 記録用電極針
40 記録再生用プローブ
41 電極針支持体
42 記録再生用電極針
43 再生用プローブ
44 電極針支持体
45 再生用電極針
70 ディスク状記録媒体
81 2次元プローブ・アレー
82 マルチプレクサ・ドライバ
111 半導体基板
112 絶縁層
113 絶縁層
119 空乏層
142 記録再生用電極針
Claims (8)
- 前記絶縁領域が、前記半導体基板に設けられた溝部であること
を特徴とする請求項1に記載の情報記録装置。 - 前記絶縁領域が、前記溝部に絶縁材料が埋設されてなる第3の絶縁層であること
を特徴とする請求項2に記載の情報記録装置。 - 前記絶縁領域の誘電率が、前記第1の絶縁層および第2の絶縁層の誘電率よりも低いこと
を特徴とする請求項1に記載の情報記録装置。 - 前記電極が、情報の記録・消去用の電極、および情報の再生用の電極として兼用可能であり、該電極を用いて情報の再生が可能であること
を特徴とする請求項1に記載の情報記録装置。 - 電界効果型トランジスタ電極を用いて前記第2の絶縁層に蓄積された記録電荷による電界を検出することにより情報を再生すること
を特徴とする請求項1に記載の情報記録装置。 - 前記記録媒体が、ディスク状に形成されていること
を特徴とする請求項1に記載の情報記録装置。 - 前記電極を複数備え、前記複数の記録領域に対して同時に情報の多チャンネル記録または消去または再生を行うこと
を特徴とする請求項1に記載の情報記録装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005256466A JP4405451B2 (ja) | 2005-09-05 | 2005-09-05 | 情報記録装置 |
US11/515,397 US7602693B2 (en) | 2005-09-05 | 2006-09-05 | Data recording apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005256466A JP4405451B2 (ja) | 2005-09-05 | 2005-09-05 | 情報記録装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007073095A JP2007073095A (ja) | 2007-03-22 |
JP4405451B2 true JP4405451B2 (ja) | 2010-01-27 |
Family
ID=37829830
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005256466A Expired - Fee Related JP4405451B2 (ja) | 2005-09-05 | 2005-09-05 | 情報記録装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7602693B2 (ja) |
JP (1) | JP4405451B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4309438B2 (ja) * | 2007-03-20 | 2009-08-05 | 株式会社東芝 | 情報記録再生装置 |
KR20090119462A (ko) * | 2008-05-16 | 2009-11-19 | 삼성전자주식회사 | 전계 재생/기록 헤드, 전계 재생/기록 헤드의 제조방법 및전계 재생/기록 헤드를 포함하는 정보저장장치 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5938655B2 (ja) | 1979-05-14 | 1984-09-18 | 日本放送協会 | 半導体デイスクメモリ装置 |
US5385865A (en) * | 1990-04-26 | 1995-01-31 | Max-Planck-Gesellschaft Zur Forderung Der Wissenschaften | Method of generating active semiconductor structures by means of starting structures which have a 2D charge carrier layer parallel to the surface |
US5751683A (en) * | 1995-07-24 | 1998-05-12 | General Nanotechnology, L.L.C. | Nanometer scale data storage device and associated positioning system |
JP3716467B2 (ja) * | 1995-07-19 | 2005-11-16 | ソニー株式会社 | 記録媒体並びに情報再生装置、情報記録装置及び情報記録再生装置 |
JP3477024B2 (ja) * | 1997-02-25 | 2003-12-10 | 株式会社東芝 | 記録媒体、記録方法、消去方法、再生方法、記録・再生方法、再生装置および記録・再生装置 |
JP3688530B2 (ja) * | 1999-09-29 | 2005-08-31 | 株式会社東芝 | 記録媒体、記録装置および記録方法 |
US6614960B2 (en) * | 1999-12-23 | 2003-09-02 | Speotalis Corp. | Optical waveguide structures |
JP2001281796A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-10 | Toshiba Corp | 有機光記録媒体および光記録再生装置 |
AU2002251690A1 (en) * | 2000-12-13 | 2002-08-12 | Rochester Institute Of Technology | A method and system for electrostatic bonding |
TW544670B (en) * | 2000-12-22 | 2003-08-01 | Energy Conversion Devices Inc | Method of recording memory |
US6975575B2 (en) * | 2001-10-31 | 2005-12-13 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Data storage media and methods utilizing a layer adjacent the storage layer |
WO2003023423A2 (en) * | 2001-09-10 | 2003-03-20 | Pioneer Corporation | Dielectric constant measuring apparatus and dielectric constant measuring method |
KR100537498B1 (ko) * | 2001-09-20 | 2005-12-19 | 삼성전자주식회사 | 전자 방출을 이용한 고밀도 정보 저장 장치 및 이를이용한 정보의 쓰기, 읽기 및 소거 방법 |
KR100499127B1 (ko) * | 2002-07-05 | 2005-07-04 | 삼성전자주식회사 | 고밀도 정보저장매체 및 그 제조방법 및 정보저장장치 및이를 이용한 정보 기록 및 재생 및 소거방법 |
TWI266305B (en) * | 2003-06-26 | 2006-11-11 | Ind Tech Res Inst | An optical head which can provide a sub-wavelength-scale light beam |
JP4360544B2 (ja) * | 2004-06-16 | 2009-11-11 | パイオニア株式会社 | プローブ、並びに記録装置、再生装置及び記録再生装置 |
-
2005
- 2005-09-05 JP JP2005256466A patent/JP4405451B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-09-05 US US11/515,397 patent/US7602693B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007073095A (ja) | 2007-03-22 |
US7602693B2 (en) | 2009-10-13 |
US20070053101A1 (en) | 2007-03-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4192146B2 (ja) | 抵抗性チップを具備する半導体プローブ及びその製造方法、それを具備する情報記録装置、情報再生装置及び情報測定装置。 | |
JP4564038B2 (ja) | ウェッジ形状の抵抗性チップを備えた半導体探針及びその製造方法 | |
JP2994505B2 (ja) | 情報再生装置 | |
JP4405451B2 (ja) | 情報記録装置 | |
WO1996011472A2 (en) | A memory device | |
US20090285082A1 (en) | Electric field read/write head, method of manufacturing the electric field read/write head, and information storage device including the electric field read/write head | |
CN100583245C (zh) | 电场读/写头及其制造方法、数据读/写装置 | |
JP2009032389A (ja) | 電場センサーのセンシング感度向上方法、電場センサーを採用した記憶装置、及びその情報再生方法 | |
US7911928B2 (en) | High density data storage device and data recording or reproduction method using the same | |
US7885169B2 (en) | Electric field sensor having vertical structure, fabrication method thereof, and storage unit using the same | |
US8432001B2 (en) | Electric field information reading head, electric field information writing/reading head and fabrication methods thereof and information storage device using the same | |
KR101260903B1 (ko) | 전계기록재생헤드, 이를 채용한 전계기록재생장치 및전계기록재생헤드의 제조방법 | |
US8064324B2 (en) | Electric field effect read/write head, method of manufacturing the same, and electric field effect storage apparatus having the same | |
US8304808B2 (en) | Electric field read/write head | |
KR19990069113A (ko) | 다이아몬드 팁을 이용한 고밀도 데이터 저장 장치 및 그 작동방법 | |
EP2026347B1 (en) | Electric field read/write head, method of manufacturing the same, and information storage device comprising electric field read/write head | |
KR100707204B1 (ko) | 저단면비의 저항성 팁을 구비한 반도체 탐침 및 그제조방법 | |
KR20090035873A (ko) | 전계 재생/기록 헤드 및 그를 포함한 정보 저장 장치 | |
JP2000228039A (ja) | 記録装置及び記録媒体 | |
KR20100000688A (ko) | 기록재생헤드, 이를 채용한 기록재생장치 및기록재생헤드의 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061215 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091006 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091104 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121113 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121113 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |