JP4382386B2 - 交互位相反転マスクの製造法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は位相反転マスクの製造法に係り、さらに具体的には石英基板を一定深さほどエッチングすることにより位相反転させる交互位相反転マスクの製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般的な位相反転マスクはフォトレジスト膜を選択的に露光するための高集積半導体素子のレチクルであり、マスクにて光の遮断層と透過層のエッジ部分の位相を「0」とする役割を果たす。
【0003】
ここで従来の位相反転マスクとして、交互位相反転マスクと、減衰位相反転マスクの2種がある。交互位相反転マスクは0゜位相領域と180゜位相反転領域とを含むが、180゜位相反転領域は石英基板を所定深さほどエッチングすることにより形成される。減衰位相反転マスクもやはり0゜位相領域と180゜位相領域とを含むが、180゜位相反転領域は位相反転層を配することにより形成される。
【0004】
ここで、図1Aないし図1Dとを参照し、従来の交互位相反転マスクの製造法を説明する。
【0005】
図1Aを参照し、石英基板10上部に遮断層を形成する。遮断層上部に公知のフォトリソグラフィ工程によりフォトレジストパターン(図示せず)を形成する。前記フォトレジストパターン状に遮断層をパターニングし、0゜位相領域a及び180゜位相反転領域bを限定する遮断パターン15を形成する。その後、フォトレジストパターンを除去する。次に、石英基板10の上部にフォトレジスト膜を塗布し、180゜位相反転領域bが露出されるようにフォトレジスト膜を露光及び現像し、フォトレジストパターン25を形成する。
【0006】
図1Bに示されたように、フォトレジストパターン25により露出された石英基板10を予定された深さ(電場の位相を180゜反転させられる深さ:d)より浅くエッチングする。この時、石英基板10を予定された深さdより浅くエッチングするのは次のような理由からである。フォトレジストパターン20を形成するためのフォトリソグラフィ工程及びエッチングの工程時、石英基板10表面にパーチクルが生じうる。このように生じたパーチクルを除去していない状態で、180゜位相反転領域を形成するために石英基板10をエッチングすれば、パーチクルがマスクとして作用してパーチクル下部の石英基板10がエッチングされない。かかる問題点を解決しようと、等方性エッチングを利用する方法が提案されたが、等方性エッチング法は広く広がる現象を有し、高集積位相反転マスクには適用し難い。それにより、従来には石英基板10をエッチングする時、全体深さの一部だけをエッチングした後、クリーニング工程によりパーチクルを除去し、再び石英基板10をエッチングするマルチステップエッチング法で、石英基板10を異方性エッチングを行う。
【0007】
すなわち、前述の如くフォトレジストパターン20を利用し、石英基板10を一定深さほどエッチングした後、フォトレジストパターン20を公知の方式で除去した後、パーチクルを除去するために石英基板10の結果物表面をクリーニングする。
【0008】
次に、図1Cのように再び石英基板10上部に180゜位相反転領域bが露出されるようにフォトレジストパターン25を公知のフォトリソグラフィ工程により形成する。フォトレジストパターン25を利用し、すでに一定深さほどエッチングされた180゜位相反転領域bを所定深さほどさらにエッチングする。
【0009】
図1Dを参照し、前記フォトレジストパターン25を除去した後、石英基板10の表面に生じうるパーチクルを除去するためにクリーニング工程を実施する。その後、石英基板10の180゜位相領域bに所望の深さdのトレンチ30が形成されるまでフォトリソグラフィ工程、エッチング工程及びクリーニング工程を反復実施する。
【0010】
この時、電場を180゜位相反転させられるトレンチ30の深さdは次の式で定義される。
【0011】
<数1>
d=λ/2(n−1)
ここで、λは露光光の波長を示し、nは石英基板の屈折率を示す。これにより、露光光の波長及び石英基板の屈折率によりトレンチ30の深さを調節できる。
【0012】
しかし、従来の位相反転マスクは0゜位相領域aをまず形成した後、その後180゜位相反転領域bをマルチステップエッチング方式で形成することにより、少なくとも2回以上のフォトリソグラフィ工程、エッチング工程及びクリーニング工程が要求される。
【0013】
特に、前記フォトリソグラフィ工程は塗布、露光、硬化及び現像の一連の工程よりなるので、一回のフォトリソグラフィ工程を進めるのに少なくとも1日以上かかる。それにより、従来の方法で位相反転マスクを製造すれば、多数回のフォトリソグラフィ工程が要求され、少なくとも3日ないし5日かかるので、製造工程時間が非常に長い短所がある。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明がなそうとする技術的課題は、製造工程時間を縮められる交互位相反転マスクの製造法を提供することである。
【0015】
また、本発明がなそうとする他の技術的課題は、フォトリソグラフィ工程を少なくとも1回以上減らし、製造工程時間を短縮できる交互位相反転マスクの製造法を提供することである。
【0016】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的を達成するために本発明は、0゜位相領域及び180゜位相領域を有する交互位相反転マスクの製造法であり、まず石英基板上に遮断層を形成し、前記遮断層及び前記石英基板を所定深さほどエッチングし、180゜位相反転領域を形成する。その次に、前記遮断層を所定部分エッチングし、0゜位相領域を形成する。
【0017】
また、本発明の他の実施例によれば、まず石英基板上に180゜位相領域予定部分が露出されるように遮断パターンを形成する。その後、前記遮断パターンをマスクとし、露出された石英基板を所定深さほどエッチングし、前記石英基板結果物をクリーニングする。その後、石英基板をエッチングする段階と前記クリーニング段階とを反復実行し、トレンチ形状を有する180゜位相領域を形成する。その次に、遮断パターン上部に前記180゜位相反転領域を遮蔽しつつ、0゜位相領域が露出されるようにフォトレジストパターンを形成する。次いで、前記フォトレジストパターン状に前記遮断パターンをエッチングして0゜位相領域を形成した後、前記フォトレジストパターンを除去する。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面に基づいて本発明の望ましい実施例を説明する。しかし、本発明の実施例はさまざまな他の形態に変形でき、本発明の範囲が後述の実施例により限定されるものと解釈されてはならない。本発明の実施例は当業者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。従って、図面での要素の形状などはより明確な説明を強調するために誇張されたものであり、図面上にて同じ符号で表示された要素は同じ要素を意味する。また、ある層が他の層または半導体基板の「上」にあると記載される場合に、ある層は前記他の層または半導体基板に直接接触して存在することもあり、その間に第3の層が介在することもある。
【0019】
図2Aないし図2Dは本発明による交互位相反転マスクの製造法を説明するための各工程別の断面図である。
【0020】
まず図2Aを参照し、石英基板100上に遮断層を形成する。この時、遮断層としては入射光を100%遮断する物質として、例えばクロム層が利用されうる。180゜位相反転領域を露出させるために、前記遮断層上部に公知のフォトリソグラフィ工程により、フォトレジストパターン(図示せず)を形成する。フォトレジストパターン状に遮断層をエッチングし、180゜位相反転領域を限定するための遮断パターン110を形成する。その後、フォトレジストパターンを除去する。この時、遮断パターン110は180゜位相反転領域bだけを限定する。
【0021】
次に、図2Bに示されたように、遮断パターン110をマスクとし、露出された石英基板100を所定深さの一部分だけをエッチングする。その後、石英基板100結果物表面に生じうるパーチクルを除去するために石英基板100をクリーニングする。図面の矢印はクリーニング処理を意味する。
【0022】
図2Cでのように、180゜位相反転領域Bが形成されるように、すなわち石英基板100に所望の深さ(電場を180゜位相反転させられる深さ:D)のトレンチ120が形成されるように、石英基板100をエッチングする工程及び石英基板100をクリーニングする工程を少なくとも1回以上反復実施する。この時、トレンチ120の深さDは前記数式1を満足すべく設定される。ここで、石英基板100のエッチング工程及びクリーニング工程時、0゜位相領域が限定されていないので、0゜位相領域を遮蔽するためのフォトレジストパターンをそれぞれのエッチング工程別に形成する必要がない。従って、前記多数回のフォトリソグラフィ工程が要求されない。
【0023】
その後、0゜位相領域を形成するためにトレンチ120が形成された石英基板100の上部にフォトレジストパターン130を形成する。
【0024】
次に、図2Dに示されたようにフォトレジストパターン130により露出された遮断パターン110だけをエッチングし、0゜位相領域Aを形成する。
【0025】
【発明の効果】
以上にて詳細に説明した如く、本発明によれば180゜位相反転領域をまず形成した後、0゜位相領域を形成する。それにより、180゜位相反転領域を形成するためのマルチステップエッチング工程時、0゜位相領域を遮蔽するための多数回のフォトリソグラフィ工程が排除される。従って、1日以上かかったフォトリソグラフィ工程が少なくとも1回以上排除されるので、製造工程時間が大きく短縮されるメリットがある。
【0026】
以上、本発明を望ましい実施例を上げて詳細に説明したが、本発明は前記実施例に限定されず、本発明の技術的思想の範囲内で当業者によりさまざまな変形が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1A】 従来の交互位相反転マスクの製造法の最初の工程を説明するための断面図である。
【図1B】 図1Aの工程の後の工程を説明するための断面図である。
【図1C】 図1Bの工程の後の工程を説明するための断面図である。
【図1D】 図1Cの工程の後の工程を説明するための断面図である。
【図2A】 本発明の実施例による交互位相反転マスクの製造法の最初の工程を説明するための断面図である。
【図2B】 図2Aの工程の後の工程を説明するための断面図である。
【図2C】 図2Bの工程の後の工程を説明するための断面図である。
【図2D】 図2Cの工程の後の工程を説明するための断面図である。
【符号の説明】
100 石英基板
110 遮断パターン
120 トレンチ
130 フォトレジストパターン
A 0°位相領域
B 180°位相反転領域
Claims (4)
- 0゜位相領域及び180゜位相領域を有する交互位相反転マスクの製造法であり、
(a)石英基板上に遮断層を形成する段階と、
(b)前記遮断層及び前記石英基板を所定深さエッチングし、180゜位相反転領域を形成する段階であって、
前記遮断層を所定部分パターニングする段階と、
前記パターニングされた遮断層をマスクとして利用し、前記石英基板を所定深さエッチングする段階と、
前記露出された石英基板上に生じうるパーチクルを除去する段階を含み
前記パーチクルを除去する段階以後に、
前記石英基板を所定深さほどエッチングする段階及びパーチクルを除去する段階を少なくとも一回反復実施する段階をさらに含む段階と、
(c)前記遮断層を所定部分エッチングし、0゜位相領域を形成する段階とを含むことを特徴とする交互位相反転マスクの製造法。 - 前記0゜位相領域を形成する段階は、
前記0゜位相領域予定部分が露出されるように、前記180゜位相反転領域を遮蔽する段階と、
露出された遮断層を所定部分エッチングして0゜位相領域とを形成することを特徴とする請求項1に記載の交互位相反転マスクの製造法。 - (a)石英基板上に180゜位相領域予定部分が露出されるように遮断パターンを形成する段階と、
(b)前記遮断パターンをマスクとし、露出された石英基板を所定深さエッチングする段階と、
(c)前記石英基板結果物をクリーニングする段階と、
(d)前記(b)段階と前記(c)段階とを少なくとも一回反復実行し、トレンチ形状を有する180゜位相領域を限定する段階と、
(e)前記遮断パターン上部に前記180゜位相反転領域を遮蔽しつつ、0゜位相領域が露出されるようにフォトレジストパターンを形成する段階と、
(f)前記フォトレジストパターン状に前記遮断パターンをエッチングし、0゜位相領域を形成する段階とを含むことを特徴とする交互位相反転マスクの製造法。 - 前記(f)段階以後に、前記フォトレジストパターンを除去する段階をさらに含むことを特徴とする請求項3に記載の交互位相反転マスクの製造法。
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US6759171B1 (en) * | 2001-01-11 | 2004-07-06 | Dupont Photomasks, Inc. | Alternating aperture phase shifting photomask with improved intensity balancing |
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