JP4376228B2 - 境界のコントラストを改良する方法およびシステム - Google Patents
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Description
その結果の複素振幅は、初期複素振幅に依存する。複素反射率γは、分析を単純にするために、1としてよいこともある。偏向hはミラーの縁部におけるものである。波長λは、1つの照明モードのものである。
ここでφ0は、ミラー表面における角度であり、これは平坦な表面を有するミラーでは一定である。
標準的定義に従い、rは輝度分布の中心から距離rにある画像面の位置であり、E(r)は、rにおける画像面の輝度または露光放射量の尺度である。この値は、以下のわずかに単純化した二重積分を使用して、ソースから明るいピクセル以外の背景露光エネルギを除去した後に計算することが好ましい。
この式で、点rに対して(x,y)座標を設ける。積分の限界は、少なくとも分布(x0,y0)の中心、および明るいピクセルからの露光放射量のほぼ全てを含む範囲をカバーする。あるいは、極座標を使用して積分を実行することができ、この場合も、明るいピクセルからの露光放射量のほぼ全てを含む範囲である。明るい区内ピクセルの間隔は、中心間で測定したk×輝度RMSであり、したがって1対の明るくないピクセルは、画像面におけるその輝度分布の中心が2×輝度RMSの距離だけ離れている場合、2×輝度RMSだけ隔置される。明るくないピクセルは、2×輝度RMS、3×輝度RMSまたは4×輝度RMS以上の間隔を有する。2×輝度RMS、3×輝度RMSまたは4×輝度RMSの測定基準は、明るいミラーを計数する測定基準より、図7Cから図7Eのように周辺干渉構造を有するマイクロミラー構成によく当てはまる。明るくないミラー間の間隔は、4×輝度RMS以上であることが好ましい。間隔が2×輝度RMSまたは3×輝度RMSは、それほど好ましくない。これらの間隔は、輝度分布、または画像面に投影する1つの特定の明るくないミラーの効果を分離する作業を大幅に単純化する。個々のミラーの応答を、疎チェッカ盤パターンの明るい部分からグレーを通してマイナスの黒色まで校正することができる。疎チェッカ盤パターンは、個々のミラー全部が校正されるまで、マイクロミラー・アレイの周囲でシフトさせる。校正には、チェッカ盤パターンより多数の疎チェッカ盤パターンを使用する必要がある。従来のチェッカ盤の2個に1個が暗いのと較べ16個に1個または25個に1個のピクセルが疎チェッカ盤では明るくない。使用するパターンがある。使用するパターンの数が増加することは、相互に4×輝度RMSだけ隔置された明るくないピクセル間の相互作用を隔離するために必要な繰り返し数が減少することによって相殺されるようである。
Claims (26)
- 2次元アレイの傾斜マイクロミラーを使用して加工物上の少なくとも1つの放射線感光性媒体を露光する場合に、該加工物上の少なくとも一つの放射線感光性媒体上の露光しようとする区域と露光しない区域との間に微小形態の境界を画定する方法であって、
高反射出力を生成するために、前記微小形態の境界の一方側にある第1セットのマイクロミラーを傾斜させる段階、ならびに
前記微小形態の境界の他方側にある第2セットのマイクロミラーを、最小反射出力輝度を生成する傾斜を超えて、該微小形態の境界に沿って改良されたコントラストを生成する傾斜まで傾斜させる段階
を含み、
前記実質的に改良されたコントラストを生成する傾斜が、前記第2セットのマイクロミラーからの反射出力の複素振幅の実数成分のマイナスの値に対応する、境界画定方法。 - 前記改良されたコントラストを生成する傾斜が、前記第1セットと第2セットのマイクロミラーからの反射出力間に弱め合う干渉を生成する、請求項1に記載の方法。
- さらに、前記第1セットと第2セットのマイクロミラー間の第3セットのマイクロミラーを中間傾斜まで傾斜させる段階を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第3セットのマイクロミラーを傾斜させる段階が、前記高反射出力を生成する傾斜から、前記改良されたコントラストを生成する傾斜までの範囲を含む単調関数に対応するグレー・スケールを生成する、請求項3に記載の方法。
- 前記マイクロミラーが中心軸線の周囲で傾斜する、請求項1に記載の方法。
- 前記マイクロミラーが、一方側から傾斜する、請求項1に記載の方法。
- 前記傾斜させる段階が、前記マイクロミラーの支持部材を変形することを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記傾斜させる段階が、マイクロミラーを変形することを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記加工物が半導体基板であり、さらに、
前記放射線感光性媒体に少なくとも1つのパターンを形成するために、前記マイクロミラーを反復的に傾斜し、部分干渉性放射線でアレイを照明し、反射出力を指向させる段階、および
前記加工物上に該パターンに対応する1つまたは複数の半導体構造を形成するために、加工物を処理する段階を含む、請求項1に記載の方法。 - 前記加工物が少なくとも1つのレチクルであり、さらに、
前記マイクロミラーを反復的に傾斜し、部分干渉性放射線で前記アレイを照明して、反射出力を放射線感光性媒体へと指向させる段階、
前記レチクル上のパターンを現像する段階、ならびに
半導体基板上に該パターンに対応する1つまたは複数の半導体構造を形成する段階
を含む、請求項1に記載の方法。 - 2次元アレイの傾斜マイクロミラーを使用して、加工物上の放射線感光性媒体を露光する場合に、該加工物上の該放射線感光性媒体の露光しようとする区域と露光しない区域との間で微小形態の境界を画定する方法であって、
高反射出力を生成するために、前記微小形態の境界の一方側にある第1セットのマイクロミラーを傾斜させる段階、
前記微小形態の境界の他方側にある第2セットのマイクロミラーを、該第2セットのマイクロミラーの反射出力内で最大の弱め合う干渉を生成する傾斜を超えて、前記第1セットと第2セットのマイクロミラーの反射出力間でほぼ弱め合う干渉を生成する傾斜まで傾斜させる段階
を含む、方法。 - 2次元アレイの傾斜マイクロミラーを使用して、加工物上の放射線感光性媒体を露光する場合に、該加工物上の放射線感光性媒体の露光しようとする区域と露光しない区域との間で微小形態の境界を画定する方法であって、
高反射出力を生成するために、前記微小形態の境界の一方側にある第1セットのマイクロミラーを傾斜させる段階、および
前記微小形態の境界の他方側にある第2セットのマイクロミラーを、最小反射出力輝度を生成する傾斜を超えて、該第1セットと第2セットのマイクロミラーの反射出力間でほぼ弱め合う干渉を生成する傾斜まで傾斜させる段階
を含む、微小形態の境界を画定する方法。 - 加工物上の放射線感光性媒体を露光する場合に、該加工物上の放射線感光性媒体の露光しようとする区域と露光しない区域との間で微小形態の境界を画定するための、2次元アレイの傾斜マイクロミラーの制御装置であって、
アレイに結合した論理およびリソースを含み、該論理およびリソースにより、
前記微小形態の境界の一方側にある第1セットのマイクロミラーを駆動して、該第1セットのマイクロミラーを傾斜し、高反射出力を生成し、
前記微小形態の境界の他方側にある第2セットのマイクロミラーを駆動して、最小反射出力輝度を生成する点を超えて、該微小形態の境界に沿って改良されたコントラストを生成する点まで該第2セットのマイクロミラーを傾斜させる、制御装置。 - 請求項13に記載の制御装置に結合されて該制御装置により制御される傾斜マイクロミラーにして、反射表面のフットプリントを含み、該フットプリントが、
該傾斜マイクロミラーのほぼ中心に位置する傾斜軸線
該傾斜軸線の両側で該傾斜マイクロミラーの表面区域にある同様な副反射区域、および
傾斜軸線、またはその付近より、傾斜軸線から離れた箇所で同様な副低反射区域
を有する、傾斜マイクロミラー。 - 請求項13に記載の制御装置に結合されて、該制御装置によって制御される傾斜マイクロミラーにして、反射表面のフットプリントを含み、該フットプリントが、
該傾斜マイクロミラーのほぼ中心に位置する傾斜軸線、
該傾斜軸線の両側にある同様の副反射区域、ならびに
該傾斜軸線、またはその付近より、該傾斜軸線から離れた箇所で同様な副高反射区域とを有する、傾斜マイクロミラー。 - 請求項13に記載の制御装置を含むパターン発生器にして、
アレイに放射線を投影する照明ソース、
該アレイから反射した放射線を、加工物上の放射線感光性媒体に転送する光学系、ならびに
該加工物を支持し、微小形態の境界が画定されるにつれて移動するように制御されたステージ
を含む、パターン発生器。 - 前記論理およびリソースがさらに、前記第1セットと第2セットのマイクロミラー間で、単調関数に対応する中間傾斜まで、高反射出力を生成する傾斜と、実質的に改良されたコントラストを生成する反射とを含む範囲で第3セットのマイクロミラーを駆動するようになった、請求項13に記載の制御装置。
- 請求項17に記載の制御装置を含むパターン発生器にして、
アレイに放射線を投影する照明ソース、
該アレイから反射した放射線を、加工物上の放射線感光性媒体に転送する光学系、ならびに
該加工物を支持し、微小形態の境界が画定されるにつれて移動するように制御されたステージ
を含む、パターン発生器。 - 製造品目であって、
加工物上の放射線感光性露光しようとする区域と露光しない区域との間で微小形態の境界を画定することを制御するために命令を記録した機械読み取り可能媒体を含み、該命令が、
高反射出力を生成するために、該微小形態の境界の一方側にある第1セットのマイクロミラーを傾斜させるための命令、および
該微小形態の境界の他方側にある第2セットのマイクロミラーを、最小反射出力輝度を生成する傾斜を超えて、該微小形態の境界に沿って改良されたコントラストを生成する傾斜まで傾斜させるための命令
を含む、製造品目。 - マイクロミラー・アレイで使用するようにされる傾斜マイクロミラーにして、反射表面のフットプリントを含み、該フットプリントが、
前記傾斜マイクロミラー上のほぼ中心に位置する傾斜軸線、
該傾斜軸線の両側にある該傾斜マイクロミラーの表面の同様の副反射区域、ならびに、
該傾斜軸線、またはその付近より、該傾斜軸線から離れた箇所で該傾斜マイクロミラーの表面区域上にある同様な副低反射区域
を有する傾斜マイクロミラー。 - マイクロミラー・アレイで使用するようにされる傾斜マイクロミラーにして、反射表面のフットプリントを含み、該フットプリントが、
前記傾斜マイクロミラー上のほぼ中心に位置する傾斜軸線、
該傾斜軸線の両側にある同様の反射区域、ならびに
傾斜軸線、またはその付近より、傾斜軸線から離れた箇所で該傾斜マイクロミラーの表面区域上にある副高反射区域
を有する傾斜マイクロミラー。 - マイクロミラー・アレイで使用するようにされる傾斜マイクロミラーの反射表面にして、反射表面のフットプリントを有し、該フットプリントが、
前記傾斜マイクロミラー上のほぼ中心に位置する傾斜軸線、
該傾斜軸線の両側にある同様の副反射区域、ならびに
該傾斜軸線、またはその付近より、該傾斜軸線から離れた箇所で該傾斜マイクロミラーの表面区域上の副低反射区域
を有し、
前記反射表面が所定傾斜範囲で傾斜し、該傾斜範囲が、
高反射出力を生成する第1傾斜角度、および
最小反射出力輝度を生成する傾斜を超える第2の傾斜角度であって、該第1と第2の傾斜角度を有するマイクロミラー間に非常に改良されたコントラストを生成する傾斜までの第2傾斜角度
を含む、反射表面。 - マイクロミラー・アレイで使用するようにされる傾斜マイクロミラーの反射表面にして、反射表面のフットプリントを有し、該フットプリントが、
前記傾斜マイクロミラーのほぼ中心に位置する傾斜軸線、
前記傾斜軸線の両側にある同様の副反射区域、ならびに
前記マイクロミラーの表面上の前記傾斜軸線の両側に設けられた位相干渉構造であって、該マイクロミラー表面上の位相構造は、前記反射表面からの反射光に位相干渉を生起し、かつ該位相構造は、傾斜軸線またはその付近より、傾斜軸線から離れた位置で、前記反射表面が生成する反射出力輝度が減少するように配置された、位相干渉構造
を含む、反射表面。 - 前記反射表面のフットプリントがさらに、前記中心傾斜軸線の両側にある対向する縁部を含み、前記傾斜マイクロミラーの表面上の前記位相干渉構造が、該中心傾斜軸線より該対向する縁部に近い方に配置される、請求項23に記載の反射表面。
- 前記反射表面のフットプリントは、該反射表面の中心が列および行で位置合わせされるように配置される、請求項23に記載の反射表面。
- 前記位相干渉構造が、1/4波長の奇数倍だけ、前記反射表面自体と高さが異なる、請求項23に記載の反射表面。
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