JP4374502B2 - 多層ホトレジストプロセスのための熱硬化性ポリエステル抗反射コーティング - Google Patents
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Description
1.発明の分野
本発明は、多層ホトレジスト系に使用される下層熱硬化性ポリマー抗反射コーティング、特にプラズマエッチ速度、光学密度、好ましいコーティング溶媒における溶解性、像被覆および貯蔵安定性における改良点を有するものに関する。
ミクロリソグラフ加工で良好な限界寸法(CD)制御を達成するための下層ポリマー抗反射コーティングの効果については十分に確立されている(米国特許第4,910,122号)。デバイス像寸法は今やサブ−0.5ミクロンレジーム(sub−0.5 mic
ron regime)まで減少され、ホトレジスト層内部で定在波形成を防止するために、マイクロ電子基材からの後方散乱光を除外するために、そしてスイング曲線振幅を減少するために、そのような抗反射コーティングを使用することは緊要となっている。
ng Anti−Reflective Coatings and Method)"
という名称の本発明者等の係属中の米国特許第08/517,089号は、主にオリゴマー状ヒドロキシ官能性樹脂;アミノプラスト架橋剤;プロトン酸触媒;およびある種の溶媒ビヒクルからなり、該ヒドロキシ官能性樹脂がフェノール系もしくはカルボン酸系染料とエポキシ官能価3ないし10のエポキシ樹脂との反応生成物である熱硬化性抗反射コーティングが記載されている。該コーティングは、30ないし120秒間、150℃の温度での焼成により硬化される。
コポリマーおよびアミノプラスト架橋剤を含む抗反射コーティング組成物が記載されている。しかしながら、そのような系の光学密度または吸光力は高水準の染料結合におけるポリマー溶解性により限定されている。この波長範囲に対して公知染料構造が適度な吸光力を有し、そして有効なフィルム光学密度を達成するために、それが高い濃度で存在しなければならないので、これは中紫外線抗反射コーティングに関する限界である。
以上を有する化合物(代表的にはポリマーまたはオリゴマー)の少なくとも一種、フェノール系アントラセン染料の少なくとも一種、およびこれらの化合物を溶解できる溶媒からなる熱硬化性抗反射コーティングについてが記載されている。しかしながら、上記のアミノプラスト含有抗反射コーティング組成物とは異なり、表題の組成物を数分間、高温で加熱してコーティングを不溶性にしなければならない。この長い硬化サイクルはウエハ押出量を減少させ、そして該方法を一般に工業的に許容され得ないものにする。加えて、表題の抗反射コーティングの製造は、特にフェノール系アントラセン染料成分の製造は多くの段階を含み、該コーティングを実用段階で製造および使用するには高価なものとしている。
したがって、新規熱硬化性抗反射コーティング組成物、およびそれを使用して従来技術の欠点を無効にする方法を提供することが本発明の主な目的である。
低分子量エポキシ樹脂から誘導された染料結合熱硬化性抗反射コーティングに関して、以下の望ましい性質を残したままでプラズマエッチ速度を改良することが本発明の特別な目的である。
・速い硬化速度;
・高水準の染料結合でさえも好ましいコーティング溶媒における適当な溶解性;
・室温における長い貯蔵寿命;
・ホトレジストとの混合に対する高い抵抗;
・簡単な化学変性による、重要な所望の主な露光波長のいずれかにおける高い光学密度;および
・手ごろなコスト。
改良された熱硬化性抗反射コーティング組成物は主に、1)染料結合、脂肪族ポリエステル樹脂であって、アミノプラスト架橋剤との反応に対して適当な官能価を有するもの;2)多官能性アミノプラスト(または反応等量の)架橋剤;および3)プロトン酸触媒;であって、それぞれの全てが適当な溶媒ビヒクルに溶解されているものからなる。上記組成物を半導体基材上に塗布し、次いで代表的には60秒間加熱し、中−および/または深紫外線露光波長における高い光学密度、室温における長い貯蔵寿命、優秀な像被覆、および速いプラズマエッチング特徴を示す架橋されたコーティングを形成する。改良されたエッチ速度および像被覆特性は、抗反射コーティングの大部分を構成する染料結合ポリエステル樹脂成分の高い脂肪族含有量および高い酸素含有量から誘引される。
図1:抗反射コーティング組成物の染料結合ポリエステル樹脂成分の一般式。
図2A,2Bおよび2C:抗反射コーティング組成物の染料結合ポリエステル樹脂成分の適当なR1基の構造式。
図3A,3Bおよび3C:抗反射コーティング組成物の染料結合ポリエステル樹脂成分の適当なR2基の構造式。
図4Aおよび4B:抗反射コーティング組成物の染料結合ポリエステル樹脂成分の適当なR3置換基の構造式。
、もしくはそれ以上について、その波長またはその付近において吸光力を有する芳香族有機基を表す。)を有するヒドロキシル官能性高級脂肪族ポリエステル樹脂であって;得られる生成物が下部層(bottom layer)抗反射コーティング用途に有効な光吸収特性を有するもの;
b.メラミン、尿素、ベンゾグアナミン、またはグリコールウリルから誘導されたアルキル化アミノプラスト架橋剤;
c.プロトン酸硬化触媒;
d.低ないし中温で沸騰するアルコール含有溶媒系であって、該アルコールが全溶媒含有量の少なくとも20重量%含まれるもの;および
e.ソリッド含有量で約50ないし90重量%のヒドロキシル官能性ポリエステル樹脂、約10ないし50重量%のアミノプラスト架橋剤、および約0.1ないし10重量%のプロトン酸触媒からなる熱硬化性組成物;
からなる改良された抗反射コーティング組成物であって;
改良された抗反射コーティングが、ヒドロキシル官能性樹脂の連結構造が高級芳香族である抗反射コーティングよりも、ノボラックおよびポリ(ヒドロキシスチレン)をベースとするホトレジストに対して高いプラズマエッチ選択性を有する組成物。
[2]R1が二価のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アリー
ルアルキル基、またはポリ芳香族二価の、ヘテロ原子−または非ヘテロ原子−含有基、あるいはそれらの混合物を表す[1]記載の組成物。
[3]R1が以下の構造:
NO2、−Cl、−F、−Br、−N(CH3)2または−N(CH2CH3)2を表す[2]記載の組成物。
[4]R2が二価もしくは三価の、ヘテロ原子−または非ヘテロ原子含有の、アルキル基
、シクロアルキル基、またはアリールアルキル基、あるいはそれらの混合物を表す[1]
記載の組成物。
[5]R2が以下の構造:
[6]Aが−CO−R3を表し、Bが−O−CO−R3を表し、そしてR3が置換された、
もしくは未置換のフェニル基、シンナミル基、(ビニル)ナフチル基、(ビニル)アントラセニル基、アクリジニル基、ビフェニル基、ベンゾフェノン基、または5−フェニルペンタジエニル基を表す[1]記載の組成物。
[7]R3が:
NO2、−Cl、−F、−Br、−N(CH3)2、または−N(CH2CH3)2を表し;R9が−H、−CO−OR10、−CO−N(R10)2、−CO−R10、−CNを表し;そしてR10が−H、−CH3、または−CH2CH3を表す[6]記載の組成物。
[8]抗反射コーティングが365nmの露光波長において1ミクロンの厚さ当たり少なくとも5.0の光学密度を有する[1]記載の組成物。
[9]R1およびR2ならびにBが以下の構造:
の構造:
[10]抗反射コーティングが248nmの露光波長において1ミクロンの厚さ当たり少なくとも7.0の光学密度を有する[1]記載の組成物。
[11]R1およびR2、BおよびR3が以下の構造:
の構造:
[12]R1およびR2ならびにBが以下の構造:
[13]抗反射コーティングが365nmの露光波長において1ミクロンの厚さ当たり少なくとも5.0、そして248nmの露光波長において1ミクロンの厚さ当たり少なくとも7.0の光学密度を有する[1]記載の組成物。
[14]R1が以下の構造、R1aおよびR1b:
そしてR2ならびにBおよびAが以下の構造:
に定義される構造、R3aおよびR3b:
って、得られる生成物が193、248および365nmの露光波長において抗反射コーティング用途に特に有効な光吸収特性を有する[13]記載の組成物。
[15]硬化酸触媒がp−トルエンスルホン酸である[1]記載の組成物。
[16]アミノプラスト架橋剤が、2.0より低い重合度を有する高級アルキル化メラミンホルムアルデヒド樹脂である[1]記載の組成物。
[17]アミノプラスト架橋剤が、メチル化グリコールウリルホルムアルデヒド樹脂である[1]記載の組成物。
[18]アルコール含有溶媒系が、アルコールの混合物またはアルコールと、エステル、グリム、エーテル、およびケトンからなる群から選択された一種もしくはそれ以上の溶媒との混合物からなる[1]の組成物。
[19]溶媒系が乳酸エチルおよび/または1−メトキシ−2−プロパノールからなり、該溶媒二種の含有量は純粋な乳酸エチルから純粋な1−メトキシ−2−プロパノールまで連続的に変化させ得る[18]記載の組成物。
[20]溶媒系が、2−ヘプタノン、シクロヘキサノン、3−エトキシプロピオン酸エチル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、およびテトラヒドロフルフリルアルコールからなる群から選択された一種もしくはそれ以上の溶媒と混合された1−メトキシ−2−プロパノールからなる[18]記載の組成物。
[21]アルコールまたはアルコール混合物が、溶媒系の少なくとも20重量%含まれる[18]記載の組成物。
[22]ソリッド含有量で60重量%ないし85重量%のヒドロキシル官能性ポリエステル樹脂、15重量%ないし35重量%のアミノプラスト架橋剤、および2重量%ないし5重量%のプロトン酸触媒を含む[1]記載の組成物。
a.脂肪族ポリエステル樹脂を提供すること;前記脂肪族ポリエステル樹脂は下記構造を有するものである:
R 1 は以下の構造;
CH 3 、−NO 2 、−Cl、−F、−Br、−N(CH 3 ) 2 または−N(CH 2 CH 3 ) 2 を
表し;
R 2 は二価または三価の有機基を表し;R 2 が二価である場合、Bは−Hを表し、そしてR 2 が三価である場合、Bは−OHまたは−O−CO−R 3 を表し;
Aは−Hまたは−CO−R 3 を表し;そして
R 3 は置換された、もしくは未置換のフェニル基、シンナミル基、ビニルナフチル基、ナ
フチル基、ビニルアントラセニル基、アントラセニル基、アクリジニル基、ビフェニル基、ベンゾフェノン基、または5−フェニルペンタジエニル基を表す。)
b.熱および/または真空を適用することにより残留溶媒、出発原料、副生物、および不純物を上記ポリエステル樹脂から除去することにより;および/または水溶性溶媒に上記ポリエステル樹脂を溶解し、そして酸性化された多量の水中に上記混合物を沈殿させ、その後、沈殿させた樹脂を採集し、そして乾燥することにより上記ポリエステル樹脂を精製すること;
c.70℃ないし180℃の沸点を有する溶媒系であって、アルコールが該溶媒系の少なくとも20重量%含まれる溶媒系中において、上記ポリエステル樹脂をアルキル化アミノプラスト架橋剤およびプロトン酸硬化触媒と組み合わせて、配合物全体は3ないし10重量%の全ソリッド含有量を有するものにすること;からなる方法であって;
かように形成された抗反射コーティング組成物は、スピンコーティングにより半導体基材上に塗布し、次いで120℃ないし225℃の温度範囲で焼成して、均一な、架橋されたフィルムを得ることが可能である方法。
[24]ソリッド組成物が、ソリッド含有量で50重量%ないし90重量%の脂肪族ポリエステル樹脂を含む[23]記載の方法。
[25]ソリッド組成物が、ソリッド含有量で60重量%ないし85重量%の脂肪族ポリエステル樹脂を含む[23]記載の方法。
[26]ミクロリソグラフ加工のための多層レジスト構造物を製造する方法であって、該方法は、
抗反射コーティング層であって該抗反射コーティングが70℃ないし180℃で沸騰するアルコール含有溶媒系に溶解された脂肪族ポリエステル樹脂、アルキル化アミノプラスト架橋剤、およびプロトン酸硬化触媒からなるものを半導体基材上にコーティングすることであって、前記脂肪族ポリエステル樹脂は下記構造を有するものであること、
R 1 は以下の構造;
表し;
R 2 は二価または三価の有機基を表し;R 2 が二価である場合、Bは−Hを表し、そしてR 2 が三価である場合、Bは−OHまたは−O−CO−R 3 を表し;
Aは−Hまたは−CO−R 3 を表し;そして
R 3 は置換された、もしくは未置換のフェニル基、シンナミル基、ビニルナフチル基、ナ
フチル基、ビニルアントラセニル基、アントラセニル基、アクリジニル基、ビフェニル基、ベンゾフェノン基、または5−フェニルペンタジエニル基を表す。)、
120ないし225℃で30ないし120秒間焼成すること、
ノボラックまたはポリ(ヒドロキシスチレン)をベースとするホトレジスト層を上塗りすること、および
該ホトレジスト層を焼成すること、からなる改良点を有する方法。
[27]
a.半導体基材;
b.該半導体基材上に層の厚さ350Åないし2500Åで塗布された熱硬化性抗反射コーティング層であって、該抗反射コーティング層が、
下記構造:
R 1 は以下の構造;
表し;
R 2 は二価または三価の有機基を表し;R 2 が二価である場合、Bは−Hを表し、そしてR 2 が三価である場合、Bは−OHまたは−O−CO−R 3 を表し;
Aは−Hまたは−CO−R 3 を表し;そして
R 3 は置換された、もしくは未置換のフェニル基、シンナミル基、ビニルナフチル基、ナ
フチル基、ビニルアントラセニル基、アントラセニル基、アクリジニル基、ビフェニル基、ベンゾフェノン基、または5−フェニルペンタジエニル基を表す。)
を有する脂肪族ポリエステル樹脂から形成される、主としてアミノプラスト架橋された脂肪族ポリエステル樹脂からなる組成物から形成されるもの;
c.該抗反射コーティング層上に塗布されたノボラックまたはポリ(ヒドロキシスチレン)をベースとするホトレジスト層であって該ホトレジストが重要な露光波長において感光性であるもの、からなるマイクロ電子製品。
熱硬化性抗反射コーティング組成物は、好ましくは:
a)整数の反応性ヒドロキシ基を含むポリエステル樹脂であって、該樹脂は二官能性脂肪族カルボン酸の一種もしくはそれ以上と二−および/または三官能性脂肪族第一アルコールの化学量論的過剰量との反応により製造され、該ジカルボン酸の少なくとも一種が好ましくは反応性メチレン基(−CH2−)を含むものであり、そして該樹脂に存在する反
応性メチレン基および/またはヒドロキシ基であって、ポリエステル構造に関して整数であるものの幾つか、または全てに吸光基を結合させることにより、得られたポリエステル樹脂反応生成物を更に変性するもの;
b)メラミン、尿素、ベンゾグアナミン、またはグリコールウリルから誘導されたアルキル化アミノプラスト架橋剤;
c)プロトン酸触媒(硬化用);
d)低ないし中温(70ないし180℃)で沸騰するアルコール含有溶媒系であって、該アルコールが少なくとも20重量%含まれるもの;からなる。
1.ポリエステル樹脂および染料グラフト置換基
新規抗反射コーティング組成物中の染料結合ポリエステル樹脂成分の一般式を図1に示す。ポリエステル樹脂のジカルボン酸成分[HOOC−R1−COOH]は、天然のアル
キル系、シクロアルキル系、ヘテロアルキル系、アルケニル系、アリール系、複素環式系、または多環式系であってよいが、抗反射コーティングに速いプラズマエッチ速度を分与するためには脂肪族含有物をいくつか有するジカルボン酸が好ましい。適当なR1基構造
の例を図2A,2Bおよび2Cに示す。ここに示された構造式の、n=0ないし2のアルキル基(それぞれ、シュウ酸、マロン酸、およびコハク酸に相当)およびペンダント状芳香族置換基(R4)を有するイソブテニル基であって、主な紫外線露光波長で吸光力を寄
与するものが好ましい。置換されたイソブテニル基構造は、高い光学密度を伴う抗反射コーティングを得るために非常に好ましい。当該分野で知られているように、R8−置換さ
れたイソブテニル基構造を有するジカルボン酸は、マロン酸と芳香族アルデヒドとの反応
生成物である。
なR4置換基が好ましい。R5が水素原子またはm−メトキシ基を表し、そしてR6が水素
原子を表すR4(I)構造式が特に好ましい。248nmの露光波長の適用に関して、R4(III)およびR4(IV)のようなR4置換基が好ましい。これらのうち、R4(IV)が特に好ましい
。
ポリエステルの二官能性[HO−R2−OH]および/または三官能性[HO−R2(−OH)2]第一アルコール成分は、天然のアルキル系、シクロアルキル系、アルキルアリ
ール系、またはヘテロアルキル系であってよい。適当なR2基構造式の例を図3A,3B
および3Cに示す。速いプラズマエッチ速度を伴うポリエステルを製造するためには、これらのうち、R2(I)およびR2(II)(それぞれトリメチロールプロパンおよびトリメチロ
ールエタンに相当)が好ましく、吸光基に結合させるためには多価ヒドロキシ官能性が好ましい。
換のフェニル基、シンナミル基、(ビニル)ナフチル基、(ビニル)アントラセニル基、アクリジニル基、ビフェニル基、ベンゾフェノン基、または5−フェニルペンタジエニル基を表し;適当な構造を図4Aおよび4Bに示す。重要な主な露光波長の一つにおいて、もしくはその付近において高い吸光力を有するそのような芳香族置換基のいずれも、有効な染料結合ポリエステル成分を製造するために等価で使用され得ることは理解されるべきである。193nmの露光波長の適用に関して、R3(I)のようなR3置換基が好ましい。
365nmの露光波長の適用に関して、R3(VIII)およびR3(IX)のようなR3置換基が好
ましい。
365nmの露光波長の適用に関して、R7が水素原子またはm−メトキシ基を表し、
R8が水素原子、メトキシ基、N,N−ジメチルアミノ基またはN,N−ジエチルアミノ
基を表すR3(VIII)構造が最も好ましい。248nmの露光波長の適用に関して、R3(IV)、R3(VI)、R3(VII)およびR3(X)のようなR3置換基が好ましい。R3(VI)およびR3(IX)の構造が特に好ましい。
p−トルエンスルホン酸は好ましい酸触媒であるが、ドデシルベンゼンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、リン酸およびそれらの混合物のような他の強プロトン酸が適当に用いられ得る。80g/モルより大きい式量を有する酸触媒が好ましく、抗反射コーティングが熱硬化されるときの昇華を防止する。
新規抗反射コーティングは、半導体基材上で熱の適用により硬化される。加熱は染料結合ポリエステル成分上のヒドロキシル置換基とアミノプラスト架橋剤との間の架橋反応を誘発する。そのような硬化機構は従来技術(例えば、ジー.ディー.トーンレー(G.D.Thornley),米国特許第4,316,940号参照)から良く知られている。適したアミノプラストは、グリコールウリル−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド樹脂および尿素−ホルムアルデヒド樹脂を含む。これらの樹脂のメチル化および/またはブチル化形態の使用は、触媒された条件下で約3ないし12ヶ月の長い貯蔵寿命を得るために非常に好ましい。2より低い重合度を示す高メチル化メラミン−ホルムアルデヒド樹脂は、一般的に表題の抗反射コーティングを製造するために有効である。モノマー状メチル化グリコールウリル−ホルムアル
デヒド樹脂は、化学的に拡大された酸触媒ホトレジストとの結合に使用され得る熱硬化性ポリエステル抗反射コーティングを製造するために特に有効である。該アミノプラスト樹脂は、ポリマーのヒドロキシ官能基当り反応性アルコキシメチル架橋官能基0.20ないし2.00当量を与える比率でコーティングに好ましく添加される。ヒドロキシル基当り0.50ないし1.50反応性当量を与える比率が特に好ましい。
新規抗反射コーティングのための適した溶媒は、範囲70℃ないし180℃で沸騰するアルコール、エステル、グリム、エーテル、環状ケトンおよびそれらの混合物を含む。特に好ましい溶媒および補助溶媒は、1−メトキシ−2−プロパノール(PGME)、シクロヘキサノン、エチル3−エトキシプロピオネートおよび乳酸エチルである。PGMEおよび乳酸エチルのようなアルコールは、長い貯蔵寿命に寄与するためにコーティング溶媒系の少なくとも20重量%をなすべきである。
染料結合ポリマー成分の溶解度を改良するために、もしコーティング品質またはホトレジスト相溶性の問題を生じないならば、少量(全溶媒の20重量%まで)のγ−ブチロラクトンおよびテトラヒドロフルフリルアルコールのような慣用の高沸点抗反射コーティング溶媒でコーティングを改変してもよい。3エム・カンパニー(3M Company)の登録商標フルオラド(FLUORAD)FC−171またはFC−430のような界面活性剤およびグシリジオキシプロピルトリエトキシシランのような接着促進剤を添加してコーティング品質を最大限改善することができる。
1.ポリエステル樹脂の製造
第一段階において、高温、共沸条件下で、p−トルエンスルホン酸のような強酸触媒の存在下で、ジカルボン酸と第一ジオールおよび/またはトリオール成分を縮合することにより基本的なポリエステル樹脂構造を製造する。反応器から効果的に副生物の水を除去するために、好ましくはトルエンまたはキシレンのような溶媒との共沸条件下で重合を行い、それにより重合度を高める。そのようなポリエステル重合方法は当該分野でよく知られている[例えば、1]仏国特許第1,256,088号(1961)、2]仏国特許第1,137,056号(1957)、および3]エー.ラベ(A.Ravve),ジー.パスタ
ーナック(G.Pasternack),ケー.エッチ.ブロウン(K.H.Brown)
およびエス.ビー.ラドラブ(S.B.Radlove),ジャーナル オブ ポリマー サイエンス(Journal of Polymer SCIENCE)(ポリマー ケミストリー エディション(Polymer Chemistry Edition)),第11巻,第1733ないし1752頁(1973))。初期重合混合物にHOOC−R3型のモノカルボン酸を添加して、直接、染料結合ポリエステル構造またはそれらの先
駆物質を形成させることもできる。他の態様として、同様の反応条件を使用して、第二段階で、初期に形成されたヒドロキシ官能性ポリエステル樹脂に該モノカルボン酸を結合させることもできる。
OOH]からポリエステルが製造された場合、これらの位置を芳香族アルデヒドとの反応により変性して、[−CO−C(R4)−CO−]型の吸光構造を形成させ得る。アルデ
ヒドと反応性メチレン官能基のノエベナゲル(Knoevenagel)縮合を促進するアルカリ触媒の存在下、高温、共沸条件下で変性を行う。
ピペリジン、ピリジン、または該アミン二種の混合物が好ましい触媒である。しかしながら、溶解性のアセテート、アミノ酸、アルキルアミンを含む他の有機塩基も好ましく使用され得る。
同じ条件を使用して、芳香族アルデヒドと、前段階でポリエステル構造に結合された適当な反応性モノカルボン酸とを縮合することができる。例えば、ペンダント状シアノ酢酸
エステルを芳香族アルデヒドと縮合して、R3(VIII)、R3(IX)、R3(X)およびR3(XI)型
(式中、R9はシアノ(−CN)基を表す。)の吸光構造を形成することができる。
第二段階において、染料結合ポリマー樹脂の溶液を、アミノプラスト、酸触媒および界面活性剤のような他の添加剤と混合して所望の最終ソリッド濃度まで希釈する。添加剤の順番は一般的に性能に対して重大ではない。該溶液を1000ないし6000rpmで30ないし90秒間スピンコートし、次いで焼成により硬化した場合、望ましいフィルム厚350ないし2500Åを達成するために、抗反射コーティング溶液中において約2.5ないし10.0重量%の全固形濃度が典型的に必要とされる。
染料結合ポリエステル樹脂、アミノプラスト架橋剤および酸触媒についての好ましい組成範囲(全樹脂ソリッドの重量%で)を以下の表に示す。
成分 有用な範囲 特に好ましい範囲
染料結合ポリエステル樹脂 50−90 60−85
アミノプラスト架橋剤 10−50 15−35
酸触媒 0.1−10 2−5
これらの比率で組み合わされるとき、抗反射コーティングは150℃〜225℃の間の焼成温度で、優秀なレジスト相溶性、すなわちホトレジストとの混合がないこと、ならびに良好な室温貯蔵安定性および迅速な硬化性質を示す。
全てではないが膨大な試料上で、これらに限定されることはないが、結晶および多結晶ケイ素、二酸化ケイ素、(オキシ)窒化ケイ素、アルミニウム、アルミニウム/ケイ素合金およびタングステンを含む全ての半導体基材上で、前記熱硬化性ポリエステル抗反射コーティング組成物を有効に使用することができる。該抗反射コーティングは1000ないし6000rpmで30ないし90秒間のスピンコートによって塗布される。半導体製造において慣用的に使用される6"および8"基材上に均一な欠陥のないコーティングを得るために、1500ないし4000rpmのスピン速度が特に好ましい。次いで、スピンコートされたフィルムを120℃ないし225℃で30ないし120秒間、ホットプレートまたは等価な焼成装置上で硬化する。ホトレジストに対する高い差溶解度を達成するために、150℃ないし200℃の焼成温度および45ないし90秒の焼成時間が特に有効である。基材のタイプに依存して、最終フィルム厚を350ないし2500Å、より好ましくは500ないし1500Åに調整する。
、SF6、それらのN2、ArおよびHe等との混合物等を使用する反応性イオンエッチング(同様に乾燥エッチングまたはプラズマエッチングとしても既知である。)によって抗反射コーティング層に転写する。該抗反射コーティング層にエッチングを行った後、半導体基材は、レジストおよび抗反射コーティング中に形成される模様を通して選択的にエッチングが行われるか、注入されるか、または付着させられる。これらの工程が完了すると、該レジストおよび抗反射コーティングはプラズマエッチングおよび/または液状ストリップ化学物質中での溶解によって除去される。ストリップされた基材はその後、新たな加工サイクルのために用意される。
実施例1ないし3には、ポリエステル樹脂の性質を操作するために変更されるモノマー化学量論および反応順位について説明する。
実施例1
A.モル比 1.00:1.33:2.00のマロン酸、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタンおよびシアノ酢酸を使用する非染料結合ポリエステル樹脂の二段階製造
メカニカルスターラー、窒素挿入口、温度計およびディーン−スターク トラップを備え、水冷冷却器を上部に備えた250ml丸底フラスコに、マロン酸 14.04g(0.135モル)、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタン 21.63g(0.180モル)、触媒量のパラ−トルエンスルホン酸(pTSA)およびトルエン 100gを添加した。混合物を還流して、形成された水を採集した。トルエン 50gを利用して、シアノ酢酸(22.97g,0.270モル)を添加した。上記混合物を還流して、形成された水を共沸により除去した。得られたポリエステル樹脂を、デカンテーションにより反応混合物から分離した。次の分子量特性:MW=2400およびMN=800を示した。真空下でポリエステルを加熱することにより、分子量はMW=6930/MN=1330まで増加した。
B.段階Aで製造された生成物の変性による、染料結合ポリエステル樹脂の製造
段階Aに記載された同一の組成物の反応混合物(MW=4050)を、ピペリジン存在
下において、3等量の4−ヒドロキシー3−メトキシベンズアルデヒド(バニリン)との反応により変性する。得られた染料結合樹脂はオレンジ−赤色である。
A.モル比 1:1.48:2.44のマロン酸、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタンおよびシアノ酢酸を使用する非染料結合ポリエステル樹脂の二段階製造
メカニカルスターラー、窒素挿入口、温度計およびディーン−スターク トラップを備え、水冷冷却器を上部に備えた250ml丸底フラスコに、マロン酸 7.03g(0.0676モル)、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタン 12.04g(0.100モル)、触媒量のpTSAおよびトルエン 50gを添加した。上記混合物を還流して、形成された水を共沸により除去した。トルエン 50gを利用して、シアノ酢酸(14.05g,0.165モル)を添加した。混合物を還流して、形成された水を共沸により除去した。冷却し、上記反応混合物から粘性油状物としてポリエステル樹脂を分離する。
B.段階Aで製造された生成物の変性による、染料結合ポリエステル樹脂の製造
段階Aの反応生成物と、ピペリジン存在下において、バニリンと縮合することにより、抗反射コーティング用途に適当な染料結合ポリマー樹脂を製造する。得られた染料結合樹脂はオレンジ−赤色である。
A.モル比 1:1.48:2.46のマロン酸、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタンおよびシアノ酢酸を使用する非染料結合ポリエステル樹脂の一段階製造
メカニカルスターラー、窒素挿入口、温度計およびディーン−スターク トラップを備え、水冷冷却器を上部に備えた250ml丸底フラスコに、マロン酸 7.03g(0.0676モル)、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタン 12.04g(0.100モル)、シアノ酢酸 14.08g(0.166モル)、触媒量のpTSAおよびトルエン 60gを添加した。上記混合物を還流して、形成された水を共沸により除去した。トルエン 50gを利用して、シアノ酢酸(14.05g,0.165モル)を添加した。混合物を還流して、形成された水を共沸により除去した。粘性油状物として上記反
応混合物からポリエステル樹脂を分離する。
B.段階Aで製造された生成物の変性による、染料結合ポリエステル樹脂の製造
段階Aの反応生成物と、ピペリジン存在下において、バニリンとを縮合することにより、抗反射コーティング用途に適当な染料結合ポリマー樹脂を製造する。縮合反応の開始前に、段階Aの反応生成物を初期の反応混合物から単離しない。得られた染料結合樹脂はオレンジ−赤色である。
A.モル比 1:1.15のマロン酸およびエチレングリコールを使用する直鎖ポリエステル樹脂の製造
メカニカルスターラー、窒素挿入口、温度計およびディーン−スターク トラップを備え、水冷冷却器を上部に備えた250ml丸底フラスコに、マロン酸 26.0g、エチレングリコール 17.81g、触媒量のpTSAおよびトルエン 200gを添加した。上記混合物を還流した。重合反応を進めるために形成された水を連続的に除去した。
B.段階Aで製造された生成物の変性による、染料結合ポリエステル樹脂の製造
段階Aで製造されたポリエステル樹脂 7.16gにバニリン(7.61g)、トルエン(60g)および触媒量のピペリジンを添加した。反応混合物を還流し、そして形成された水を採集した。得られた染料グラフトポリエステルは、デカンテーションによりトルエン混合物から簡単に分離された。生成物は、335nmにおいて紫外線光吸収ピークを示した。
他の芳香族アルデヒドがバニリンに対して部分的に、もしくは完全に置換されることを除いて、一連の染料結合ポリエステルを実施例4と同じ反応条件を使用して製造した。上記反応で使用されたアルデヒドおよび反応物のモル比に関して以下の表にまとめた。この結果は、単純な非染料結合ポリエステル構造は容易に変性されて種々の紫外線光吸収ピークを有する樹脂生成物が得られることを示した。
アルデヒド アルデヒド ポリエステル
のモル比 の最大吸光
波長(NM)
───────────────────────────────────────
4−ヒドロキシベンズアルデヒド 1 325
4−(N,N−ジメチルアミノ)− 1 380
ベンズアルデヒド
4−(N,N−ジエチルアミノ)− 1 380
ベンズアルデヒド
4−(N,N−ジメチルアミノ)− 0.5/0.5 380/360
ベンズアルデヒド/バニリン
4−(N,N−ジメチルアミノ)− 0.68/0.32 385
ベンズアルデヒド/バニリン
4−(N,N−ジメチルアミノ)− 0.6/0.4 −
ベンズアルデヒド/バニリン
4−(N,N−ジエチルアミノ)− 0.6/0.4 390
ベンズアルデヒド/バニリン
4−(N,N−ジエチルアミノ)− 0.9/0.1 390
ベンズアルデヒド/バニリン
実施例1Aに記載の条件を使用して、マロン酸、エチレングリコールおよびトリメチロールプロパンから一連のターポリエステルを製造し、三官能性アルコールを使用した場合、ポリエステル生成物の凍結を防ぐために、ジカルボン酸に対する後者の比率を正確に選択するべきであることを証明した。結果を以下の表に示す。
使用された反応物のモル
マロン酸 エチレングリコール TMOP * 生成物の結果
1.0 0 1.48 溶解性
1.0 0 1.33 溶解性
1.0 0.5 0.5 ゲル状
1.0 0.7 0.3 ゲル状
1.0 0.9 0.1 溶解性
1.0 0.9 0.2 溶解性
1.0 0 1.33 溶解性
1.0 0 1.48 溶解性
*トリメチロールプロパン
A.マロン酸および1,4−シクロヘキサンジメタノールからの非染料結合ポリエステル樹脂の製造
メカニカルスターラー、窒素挿入口、温度計およびディーン−スターク トラップを備え、水冷冷却器を上部に備えた250ml丸底フラスコに、マロン酸 6.5g、1,4−シクロヘキサンビスメタノール 9.20gおよび触媒量のpTSAならびにトルエン
65gを添加した。上記混合物を還流して、副生物の水を共沸により除去し、直鎖ポリエステル樹脂を形成させた。
B.段階Aで製造された生成物の変性による、染料結合ポリエステル樹脂の製造
段階Aに記載されたポリエステル樹脂 4.24gに、バニリン 3.04g、触媒量のピペリジンおよびトルエン 60gを添加した。上記混合物を加熱して還流し、形成された水を共沸により除去し、デカンテーションにより反応混合物から単離されたオレンジ−赤色の生成物を製造した。
A.オキサル酸、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタンおよびシアノ酢酸からのポリエステル樹脂の製造ならびに、それに続くバニリンとの反応
メカニカルスターラー、窒素挿入口、温度計およびディーン−スターク トラップを備え、水冷冷却器を上部に備えた250ml丸底フラスコに、オキサル酸 6.0g、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタン 11.87gおよび触媒量のpTSAならびにトルエン 50gを添加した。上記混合物を還流し、そして副生物の水を共沸により除去して重合を完了させた。上記形成された樹脂にシアノ酢酸(13.87g)およびトルエン 40gを添加し、形成された水を共沸により除去しながら該混合物を再加熱して還流した。次いで、トルエン 40mlを利用して、バニリン (24.82g)および触媒量のピペリジンを直接添加した。上記反応混合物を再び還流し、そして付加的な副生物の水を共沸により除去した。得られた染料グラフトポリエステル(MW=6800,MN=930)は、デカンテーションによりトルエンから簡単に分離された。次いで、配合のために上記樹脂を1−メトキシ−2−プロパノールに溶解した。
上記染料結合ポリエステル樹脂溶液 10.00g、登録商標シメル(CYMEL)303(LF)メチル化されたメラミン−ホルムアルデヒド樹脂(シテック インダストリ
ーズ(Cytec Industries))0.97gおよびパラ−トルエンスルホン酸一水和物 0.0983gを組み合わせ、1−メトキシ−2−プロパノール 39.22gおよび乳酸エチル 4.72gにより該混合物を希釈することにより抗反射コーティング組成物を製造した。
C.抗反射コーティングの特性
特性評価のため、上記抗反射コーティングを3"ガラス円形基材および3"シリコンウエハ上に3500rpmで60秒間スピンコートした。該試料を60秒間175℃で焼成した。該フィルムは365nmで6.1/ミクロンの光学密度を有する。慣用のホトレジスト溶媒、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを使用して中間層試験(以下参照)を行い、無視できるような中間層値36Åを得る。両結果は、365nm露光波長の適用に関して上記組成物が非常に適することを示していた。
コートされたシリコンおよびガラス基材を使用して、上記抗反射層の次いで上記試料にホトレジスト溶媒を5秒間流し、続いて5000rpmで30秒間スピン乾燥し、100℃で60秒間ホットプレート上で焼成した。フィルム厚および吸光度を再び決定した。溶媒ストリップによりフィルム厚および吸光度において数%より多く(>5%)の減少が得られた場合、通常、該抗反射コーティングは実際の使用に関して不十分な溶媒抵抗を有すると定義される。
365nm露光波長(アイ−ライン(I−line))の適用に指定された抗反射コーティング組成物に関して、中間層試験は一般的に以下のように行われる。コーティングおよび焼成後、抗反射コーティング厚を楕円偏光測定器によって決定する。次に、高解像度アイ−ライン ホトレジストの1ミクロン厚層を該抗反射コーティング上にスピンコートする。該ホトレジストをその後100℃でホットプレート上で軟焼成し、過露光を確実にする接触プリンター上で流し露光し、そして60秒間120℃で、ホットプレート上で露光後焼成する。試料をその後、水溶性テトラメチルアンモニウムヒドロキシド現像液中で60秒間浸漬現像して露光したホトレジストを清浄する。窒素での試料の乾燥後、抗反射コーティング層の厚さを再決定する。抗反射コーティングおよびレジストの有意な混合が生じた場合、抗反射コーティング層は、通常、開始抗反射コーティング厚のパーセントとして表される厚さにおける明瞭な増加を表す。下部に塗布され、混合を非常に受けるポリマー状抗反射コーティングは、レジスト加工後に厚さにおける10%より大きな増加を表す。(開始層厚が1000ないし2000Åと仮定した場合、)5%未満の中間層値は許容可能とみなされ;3%未満の中間層値は優秀とみなされる。
A.dl−リンゴ酸、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタンおよびシアノ酢酸からのポリエステル樹脂の製造ならびに、それに続くバニリンとの反応
メカニカルスターラー、窒素挿入口、温度計およびディーン−スターク トラップを備え、水冷冷却器を上部に備えた250ml丸底フラスコに、dl−リンゴ酸 6.00g、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタン 7.97gおよび触媒量のpTSAならびにトルエン 50gを添加した。上記混合物を還流し、そして副生物の水を共沸により除去して重合を完了させた。上記形成された樹脂にシアノ酢酸(9.33g)およびトルエン 40gを添加し、更なる水を除去しながら該混合物を再加熱して還流した。次いで、トルエン 40mlを利用して、バニリン(16.68g)および触媒量のピペリジンを直接添加した。上記反応混合物を再び還流し、そして形成された水を採集した。冷却後、該染料グラフトポリエステルを反応混合物から分離し、デカンテーションにより除去した。次いで、これを配合のためにPGME 300gに溶解した。
上記染料結合ポリエステル樹脂溶液 9.99g、登録商標シメル(CYMEL)303(LF)樹脂 0.20gおよびパラ−トルエンスルホン酸一水和物 0.0163gを組み合わせ、1−メトキシ−2−プロパノール 8.10gおよび乳酸エチル 2.9gにより該混合物を希釈することにより抗反射コーティング組成物を製造した。
C.抗反射コーティングの特性
特性評価のため、上記抗反射コーティングを3"ガラス円形基材および3"シリコンウエハ上に3500rpmで60秒間スピンコートした。該試料を60秒間175℃で焼成した。得られたフィルムは(365nmで)5.4/ミクロンフィルム厚の光学密度を有し;中間層値は23Åであった。
メカニカルスターラー、窒素挿入口、温度計およびディーン−スターク トラップを備え、水冷冷却器を上部に備えた3lの4つ口丸底フラスコに、マロン酸 70.2g(0.67モル)、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタン 120.2g(1.00モル)、シアノ酢酸 140.5g(1.65モル)および触媒量のパラ−トルエンスルホン酸(3.0g,0.016モル)ならびにトルエン 300gを添加した。副生物の水を共沸により除去しながら、上記混合物を還流下で4時間加熱した。次いで該内容物を室温まで冷却した。この時までに約50mlの水が採集された。該溶液をゆっくり再加熱した。該混合物が40ないし45℃に達した時、これにバニリン(353.8g,2.33モル)およびトルエン(300g)を添加し;上記内容物が50℃に達した時、ピペリジン(20g,0.23モル)を添加した。次いで混合物を2時間還流した。この時点で全量約90mlの水が採集された。(2つの縮合段階からの副生物の水の理論量は96mlである。)反応混合物から分離された染料結合樹脂から熱トルエンをデカンテーションした。冷却トラップを備えた真空ポンプを反応フラスコに接続し、残留トルエンを除去した。次いで、撹拌によりオレンジ色の樹脂の塊をN−メチルピロリドン 1.2lに溶解した。
撹拌によりオレンジ色の樹脂の塊をN−メチルピロリドン 1.2lに溶解した。次いで、撹拌下の1.5N HCl 150mlで酸性化された脱イオン水 4ガロン中に上記溶液をゆっくり滴下した。沈殿ポリマーの懸濁物を一晩撹拌し、次いで真空ろ過により採集した。次いでこれをNMP 1.2lに再溶解し、更に不純物を除去するために酸性化された撹拌下の水中に再沈殿させた。沈殿ポリマー懸濁物を一晩撹拌し、次いで約1時間放置した。上層の液体層を流し捨てた。新しい脱イオン水 2ガロンを該黄色物質に添加し、20分間撹拌した。次いで、洗浄された沈殿物を、ろ過により採集し、脱イオン水1ガロンで洗浄し、そして約40℃で48時間真空下で乾燥し、黄色ソリッドとしてポリマー生成物 384g(64.88%)を得た。分子量分析により該染料結合樹脂に関してMW値 3500が得られた。
上記ポリマーソリッド 4.92重量部と登録商標シメル(CYMEL)303 LF
0.98重量部、pTSA・H2O 0.10重量部、乳酸エチル 9.40重量部、
1−メトキシ−2−プロパノール 84.60重量部および少量のフッ化界面活性剤を混合することにより抗反射コーティング組成物を製造した。
D.抗反射コーティングの特性
上記抗反射コーティングをシリコンウエハ上にスピンコートし、60秒間175℃で焼成した。得られた抗反射コーティングのフィルム厚は1350Åであった。これは365nmで約6.2/ミクロンの光学密度を示した。乳酸エチルで行われたストリップ試験お
よび中間層試験により、それぞれ6Åおよび9Åの値が得られた。
ポジ型−トーン(positive−tone)ホトレジストをスピンコートにより抗反射フィルム上に塗布し、90℃で60秒間焼成し、フィルム厚約0.9μmの層を形成した。約365nmの波長を有する光源に、コートされたウエハをパターン式に露光し、次いで110℃で60秒間焼成した。テトラメチルアンモニウムヒドロキシド溶液による60秒間の現像後、パターン化されたウエハを走査電子顕微鏡により試験し、0.35ミクロンの小ささの像寸法において、ねじれていない、垂直の側壁を有するホトレジストのレリーフ構造を表した。ホトレジスト像の優れた品質は、ホトレジストと該抗反射コーティング間で混合が生じていないことを示している。
F.抗反射コーティングの被覆特性
幅0.4ないし0.6ミクロンおよび長さ0.7ミクロンのレリーフ構造を有する、製造品質の、リンによりドープされたポリシリコンウエハを、抗反射コーティング組成物でコートする。顕微鏡試験により、該抗反射フィルムはレリーフ構造上において連続的であることが示され、特に該構造の端における脱水または空隙形成の増加は示されなかった。一方、係属の米国特許第08/517,089号に記載の好ましい組成物で行われた試験
では、同じ基材において深刻な脱水が示された。
新規抗反射コーティング組成物のプラズマエッチ速度を、米国特許第5,234,990号記載のポリアリールエーテルスルホン抗反射コーティング(ブリューワー サイエンス(Brewer Sience)アルコ(ARCO)−CD 11)のものと比較した。種々のエッチ用ガス混合物に関して、相対プラズマエッチ速度の結果を以下に示した。
ガス混合物 ARC−CD 11に対する相対プラズマエッチ速度 *
AR/CF4/HCF3 2.30−3.12
CF4/HE/O2 1.61−1.72
AR/CF4/HCF3/HE 1.65−2.44
AR/CF4 1.51−1.55
*CD 11の相対プラズマエッチ速度は1.00と定義された。
A.マロン酸、トリメチロールエタン、シアノ酢酸ならびにアントラアルデヒドおよびバニリンの混合物からの染料結合ポリエステル樹脂の製造
メカニカルスターラー、窒素挿入口、温度計およびディーン−スターク トラップを備え、水冷冷却器を上部に備えた250mlの3つ口丸底フラスコに、マロン酸 7.02g、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタン 12.02g、シアノ酢酸 14.05gおよび触媒量のパラ−トルエンスルホン酸(0.30g)ならびにトルエン 50gを添加した。上記混合物を還流下で4時間加熱し、次いで室温まで冷却した。この時までに約4.4mlの水が採集された。9−アントラアルデヒド(9.58g)、触媒量のピペリジンおよび追加のトルエン 50gを該混合物に添加し、次いで30分間還流した。次に、該混合物にバニリン(28.30g)を添加し、更に2時間還流を行った。この連続的な縮合の間に全量約8.6mlの水を採集した。熱トルエンを反応混合物からデカンテーションし、粘性の高いポリマーの塊を除去した。冷却トラップを伴う真空ポンプを反応フラスコに接続し、残留トルエンを除去した。冷却下、樹脂の塊をソリッド化し、オレンジ-黄色ソリッドとした。分子量分析により、該染料結合ポリエステル樹脂生成物
に関してMW値2985が得られた。
上記ポリマーソリッド 4.92部と登録商標パウダー−リンク(POWDER−LINK)1174 メチル化されたグルコールウリル−ホルムアルデヒド樹脂(シテック インダストリーズ(Cytec Industries))0.98部、pTSA・H2
O 0.10部、乳酸エチル 9.40部、1−メトキシ−2−プロパノール 84.60部および少量のフッ化界面活性剤を組み合わせることにより抗反射配合物を製造した。上記混合物を約1時間撹拌し、透明溶液を得て、そして終点ろ紙を通して、0.2ミクロン(絶対値)までろ過した。
C.抗反射コーティングの特性
上記配合物をシリコンウエハ上にスピンコートし、1分間175℃で焼成した。得られた抗反射コーティングは1160Åの層厚を有し、露光波長193nmにおいて6.5/μm、248nmにおいて6.0/μm、および365nmにおいて4.7/μmの光学密度を示した。
ポジ型−トーン ホトレジストをスピンコートにより抗反射フィルム上に塗布し、90℃で60秒間焼成し、フィルム厚約0.9μmの層を形成した。約365nmの波長を有する光源に、コートされたウエハをパターン式に露光し、次いで110℃で60秒間焼成した。テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液による60秒間の現像後、パターン化されたウエハを走査電子顕微鏡により試験し、ねじれていない、垂直の側壁を有する0.35ミクロン幅のホトレジストのレリーフ構造を表し、これにはホトレジストと該抗反射コーティング間の混合により引き起こされるフッティング(footing)が存在しなかった。
ポジ型に作用し、化学的に拡大する深紫外線ホトレジストをスピンコートにより抗反射コーティング上に塗布し、そして90℃で90秒間焼成し、ホトレジスト層厚 約0.7μmを達成した。コートされたウエハを、約248nmの波長を有する光源にパターン式に露光し、次いで110℃で90秒間焼成した。現像後、パターン化されたウエハを走査電子顕微鏡により試験し、0.35ミクロンの像寸法において、ねじれていない、垂直の側壁を有するホトレジストのレリーフ構造を表した。
Claims (5)
- ノボラックおよびポリ(ヒドロキシスチレン)をベースとするホトレジストに対して、酸素プラズマエッチ条件下で1.0より大きいエッチ選択性を示す熱硬化性抗反射コーティング組成物の製造方法であって、
a.脂肪族ポリエステル樹脂を提供すること;前記脂肪族ポリエステル樹脂は下記構造を有するものである:
R 1 は以下の構造;
表し;
R 2 は二価または三価の有機基を表し;R 2 が二価である場合、Bは−Hを表し、そしてR 2 が三価である場合、Bは−OHまたは−O−CO−R 3 を表し;
Aは−Hまたは−CO−R 3 を表し;そして
R 3 は置換された、もしくは未置換のフェニル基、シンナミル基、ビニルナフチル基、ナ
フチル基、ビニルアントラセニル基、アントラセニル基、アクリジニル基、ビフェニル基、ベンゾフェノン基、または5−フェニルペンタジエニル基を表す。)
b.熱および/または真空を適用することにより残留溶媒、出発原料、副生物、および不純物を上記ポリエステル樹脂から除去することにより;および/または水溶性溶媒に上記ポリエステル樹脂を溶解し、そして酸性化された多量の水中に上記混合物を沈殿させ、その後、沈殿させた樹脂を採集し、そして乾燥することにより上記ポリエステル樹脂を精製すること;
c.70℃ないし180℃の沸点を有する溶媒系であって、アルコールが該溶媒系の少なくとも20重量%含まれる溶媒系中において、上記ポリエステル樹脂をアルキル化アミノプラスト架橋剤およびプロトン酸硬化触媒と組み合わせて、配合物全体は3ないし10重量%の全ソリッド含有量を有するものにすること;からなる方法であって;
かように形成された抗反射コーティング組成物は、スピンコーティングにより半導体基材上に塗布し、次いで120℃ないし225℃の温度範囲で焼成して、均一な、架橋されたフィルムを得ることが可能である方法。 - ソリッド組成物が、ソリッド含有量で50重量%ないし90重量%の脂肪族ポリエステル樹脂を含む請求項1の方法。
- ソリッド組成物が、ソリッド含有量で60重量%ないし85重量%の脂肪族ポリエステル樹脂を含む請求項1の方法。
- ミクロリソグラフ加工のための多層レジスト構造物を製造する方法であって、該方法は、
抗反射コーティング層であって該抗反射コーティングが70℃ないし180℃で沸騰するアルコール含有溶媒系に溶解された脂肪族ポリエステル樹脂、アルキル化アミノプラスト架橋剤、およびプロトン酸硬化触媒からなるものを半導体基材上にコーティングすることであって、前記脂肪族ポリエステル樹脂は下記構造を有するものであること、
R 1 は以下の構造;
表し;
R 2 は二価または三価の有機基を表し;R 2 が二価である場合、Bは−Hを表し、そしてR 2 が三価である場合、Bは−OHまたは−O−CO−R 3 を表し;
Aは−Hまたは−CO−R 3 を表し;そして
R 3 は置換された、もしくは未置換のフェニル基、シンナミル基、ビニルナフチル基、ナ
フチル基、ビニルアントラセニル基、アントラセニル基、アクリジニル基、ビフェニル基、ベンゾフェノン基、または5−フェニルペンタジエニル基を表す。)、
120ないし225℃で30ないし120秒間焼成すること、
ノボラックまたはポリ(ヒドロキシスチレン)をベースとするホトレジスト層を上塗りすること、および
該ホトレジスト層を焼成すること、からなる改良点を有する方法。 - a.半導体基材;
b.該半導体基材上に層の厚さ350Åないし2500Åで塗布された熱硬化性抗反射コーティング層であって、該抗反射コーティング層が、
下記構造:
R 1 は以下の構造;
表し;
R 2 は二価または三価の有機基を表し;R 2 が二価である場合、Bは−Hを表し、そしてR 2 が三価である場合、Bは−OHまたは−O−CO−R 3 を表し;
Aは−Hまたは−CO−R 3 を表し;そして
R 3 は置換された、もしくは未置換のフェニル基、シンナミル基、ビニルナフチル基、ナ
フチル基、ビニルアントラセニル基、アントラセニル基、アクリジニル基、ビフェニル基、ベンゾフェノン基、または5−フェニルペンタジエニル基を表す。)
を有する脂肪族ポリエステル樹脂から形成される、主としてアミノプラスト架橋された脂肪族ポリエステル樹脂からなる組成物から形成されるもの;
c.該抗反射コーティング層上に塗布されたノボラックまたはポリ(ヒドロキシスチレン)をベースとするホトレジスト層であって該ホトレジストが重要な露光波長において感光性であるもの、からなるマイクロ電子製品。
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