JP4372173B2 - 化学的機械的研磨方法および半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
前記第1の薬液は、電解質と直径10nm〜1000μmの気泡とを含有し、
前記第2の薬液は、研磨粒子を含有することを特徴とする。
前記被研磨膜を、電解質と直径10nm〜1000μmの気泡とを含有する第1の薬液および研磨粒子を含有する第2の薬液を供給した研磨パッドと摺接させて、化学的機械的に研磨する工程とを具備することを特徴とする。
本実施例では、SiO2膜のCMPについて説明する。
第2の薬液流量:190ml/min
研磨荷重:400hPa
テーブル回転数:100rpm
トップリング回転数:107rpm
このときの研磨パッドとウェハーとの間に発生した摩擦を、テーブルトルク電流によりモニターした。その結果、テーブル電流値は、約9.3Aであり、研磨速度は、438nm/min程度であった。また、スクラッチは、1個/Wafer以下であることが確認された。ここでは、光学顕微鏡による暗視野像を用いてスクラッチを評価したが、欠陥検査装置(KLAテンコール製PUMA)を用いてもよい。
気泡を含有しない水を第1の薬液として用いる以外は実施例1と同様の条件で、SiO2膜の研磨を行なった。
本実施例では、Cu膜のCMPについて説明する。
第2の薬液流量:250ml/min
研磨荷重:300hPa
テーブル回転数:120rpm
トップリング回転数:100rpm
このときの研磨パッドとウェハーとの間に発生した摩擦を、テーブルトルク電流によりモニターした。その結果、テーブル電流値は、約10Aであった。研磨速度は、1200nm/min程度であった。光学顕微鏡測定の結果、スクラッチは、1個/Wafer以下であることが確認された。
第1の薬液を、気泡を含有しないpH調整剤の水溶液に変更した以外は実施例2と同様の条件で、Cu膜の研磨を行なった。
本実施例では、W膜のCMPについて説明する。
第2の薬液流量:200ml/min
研磨荷重:300hPa
テーブル回転数:50rpm
トップリング回転数:53rpm
このときの研磨パッドとウェハーとの間に発生した摩擦を、テーブルトルク電流によりモニターした。その結果、テーブル電流値は、約8Aであった。研磨速度は、350nm/min程度であった。光学顕微鏡による測定の結果、スクラッチは、20個/Wafer以下であることが確認された。
第1の薬液を、気泡を含有しない酸化剤の水溶液に変更した以外は実施例3と同様の条件で、W膜の研磨を行なった。
本実施例では、SiO2膜のCMPについて説明する。
第2の薬液流量:190ml/min
研磨荷重:300hPa
テーブル回転数:100rpm
トップリング回転数:107rpm
このときの研磨パッドとウェハーとの間に発生した摩擦を、テーブルトルク電流によりモニターした。その結果、テーブル電流値は、約8Aであった。研磨速度は、400nm/min程度であった。光学顕微鏡による測定の結果、スクラッチは、1個/Wafer以下であることが確認された。
第1の薬液を、気泡を含有しない界面活性剤の水溶液に変更した以外は実施例4と同様の条件で、SiO2膜の研磨を行なった。
本実施例では、レジスト膜のCMPについて説明する。
第2の薬液流量:250ml/min
研磨荷重:100hPa
テーブル回転数:30rpm
トップリング回転数:33rpm
このときの研磨パッドとウェハーとの間に発生した摩擦を、テーブルトルク電流によりモニターした。その結果、テーブル電流値は、約5Aであった。研磨速度は、120nm/min程度であった。光学顕微鏡による測定の結果、スクラッチは、2個/Wafer以下であることが確認された。
第1の薬液を、気泡を含有しない水溶性高分子の水溶液に変更した以外は実施例5と同様の条件で、レジスト膜の研磨を行なった。
15…電解質溶液タンク; 16…気泡発生器; 17…第1の薬液ノズル
18…第1の薬液; 19…第2の薬液タンク; 20…第2の薬液ノズル
21…第2の薬液; 22…スラリー; 24…気泡; 25…電解質イオン
27…絶縁膜; 28…被研磨膜; 31…水; 32…研磨粒子
34…スクラッチ; 35…膜剥がれ。
Claims (5)
- 研磨パッド上に第1の薬液と第2の薬液とを供給しつつ、被研磨膜を前記研磨パッドと摺接させることにより化学的機械的に研磨する方法であって、
前記第1の薬液は、電解質と直径10nm〜1000μmの気泡とを含有し、
前記第2の薬液は、研磨粒子を含有することを特徴とする化学的機械的研磨方法。 - 前記第1の薬液に含有される前記電解質は、酸化剤、酸化抑制剤、界面活性剤,およびpH調整剤からなる群から選択されることを特徴とする請求項1記載の化学的機械的研磨方法。
- 半導体基板上に被研磨膜を形成する工程と、
前記被研磨膜を、電解質と直径10nm〜1000μmの気泡とを含有する第1の薬液および研磨粒子を含有する第2の薬液を供給した研磨パッドと摺接させて、化学的機械的に研磨する工程と
を具備することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記被研磨膜は、Cu、Al、W、Ti、Mo、Nb、Ta、V、Ru、またはこれらの積層膜、あるいはこれらを主成分とする合金、窒化物、ホウ化物、または酸化物を含む膜であることを特徴とする請求項3記載の半導体装置の製造方法。
- 前記被研磨膜は、SiO2系絶縁膜または有機膜であることを特徴とする請求項3記載の半導体装置の製造方法。
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