JP4360154B2 - 誘電体磁器組成物およびその製造方法、ならびにセラミック電子部品 - Google Patents
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Description
(1−α)BaTiO3−αBaZrO3 (1)
xReO1.5−yMgO−zM1Oq (2)
ただし、αは主成分中のBaZrO3のモル比であり、x、yおよびzは前記主成分100モル部に対する各副成分のモル部であり、ReはSm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびYから選択された1種以上の元素であり、qは1〜1.5である。
0≦α≦0.05 (3)
0.1≦x≦4 (4)
0.3≦y≦12 (5)
0.01≦z≦5 (6)
を充足するように調製されている。
0≦α≦0.04 (7)
0.2≦x≦4 (8)
0.5≦y≦8 (9)
を充足するようにした場合は誘電率の温度変化がさらに小さくなるので好ましい。
例えば、上記実施の形態では電極形成法としてスパッタ法を例示したが、それ以外の蒸着法、イオンプレーティング等の他の高真空中で行う薄膜法により形成された場合にも同様の効果が得られる。
・比誘電率・・・1kHz、1Vrms、20℃
・誘電正接・・・1kHz、1Vrms、20℃
・温度特性・・・20℃または25℃での誘電率を基準にした一定温度範囲での誘電率の変化率
温度特性には様々な規格があるがJISによるB特性は−25℃〜+85℃間の誘電率の変化率が20℃での誘電率を基準として±10%以内であること、EIAによるY5R特性は−30℃〜+85℃間の誘電率の変化率が25℃での誘電率を基準として±15%以内であることとなっている。
2 電極
Claims (6)
- 一般式(1−α)BaTiO3−αBaZrO3(ただし、αはモル比を示す。)で表される主成分と、
一般式xReO1.5−yMgO−zM1Oq(ただし、x、yおよびzは前記主成分100モル部に対するモル部を示す。また、ReはSm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびYから選択された1種以上の元素を、M1はFe、NiおよびZnから選択された1種以上の元素を示し、qは1〜1.5である。)で表される副成分とを含有し、
前記α、x、yおよびzが各々
0≦α≦0.05、
0.1≦x≦4、
0.3≦y≦12、
0.01≦z≦5
であることを特徴とする誘電体磁器組成物。 - 前記ReがTb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびYから選択された1種以上の元素であり、
前記α、xおよびyが各々
0≦α≦0.04、
0.2≦x≦4、
0.5≦y≦8
であることを特徴とする請求項1記載の誘電体磁器組成物。 - 請求項1または2記載の誘電体磁器組成物からなるセラミックの表面に導体が形成されていることを特徴とするセラミック電子部品。
- 前記導体はCuを主成分とする金属薄膜であることを特徴とする請求項3記載のセラミック電子部品。
- Ba、Ti、ZrおよびMgの化合物と、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびYから選択された1種以上の元素の化合物と、Fe、NiおよびZnから選択された1種以上の元素の化合物とを準備する工程と、
前記化合物を
一般式(1−α)BaTiO3−αBaZrO3(ただし、αはモル比を示す。)で表される主成分と、
一般式xReO1.5−yMgO−zM1Oq(ただし、x、yおよびzは前記主成分100モル部に対するモル部を示す。また、ReはSm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびYから選択された1種以上の元素を、M1はFe、NiおよびZnから選択された1種以上の元素を示し、qは1〜1.5である。)で表される副成分とを含有し、
前記α、x、yおよびzが各々
0≦α≦0.05、
0.1≦x≦4、
0.3≦y≦12、
0.01≦z≦5
となるように混合し成形する工程と、
酸素濃度1%以上の雰囲気で焼成する工程と
を含むことを特徴とする誘電体磁器組成物の製造方法。 - 前記ReがTb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびYから選択された1種以上の元素であり、
前記α、xおよびyが各々
0≦α≦0.04、
0.2≦x≦4、
0.5≦y≦8
であることを特徴とする請求項5記載の誘電体磁器組成物の製造方法。
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