JP4354552B2 - スラリー混合装置及びその製造方法 - Google Patents

スラリー混合装置及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4354552B2
JP4354552B2 JP29643298A JP29643298A JP4354552B2 JP 4354552 B2 JP4354552 B2 JP 4354552B2 JP 29643298 A JP29643298 A JP 29643298A JP 29643298 A JP29643298 A JP 29643298A JP 4354552 B2 JP4354552 B2 JP 4354552B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
slurry
pump
pressure
pumping
recirculation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP29643298A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH11207604A (ja
Inventor
ピーター・エム・ポズニアク
ベンジャミン・アール・ロバーツ
デュイ・カーン・トラン
Original Assignee
エアー・リキッド・エレクトロニクス・ユー.エス.・エルピー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by エアー・リキッド・エレクトロニクス・ユー.エス.・エルピー filed Critical エアー・リキッド・エレクトロニクス・ユー.エス.・エルピー
Publication of JPH11207604A publication Critical patent/JPH11207604A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4354552B2 publication Critical patent/JP4354552B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F11/00Treatment of sludge; Devices therefor
    • C02F11/12Treatment of sludge; Devices therefor by de-watering, drying or thickening
    • C02F11/121Treatment of sludge; Devices therefor by de-watering, drying or thickening by mechanical de-watering
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/04Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/40Mixing liquids with liquids; Emulsifying
    • B01F23/49Mixing systems, i.e. flow charts or diagrams
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/50Mixing liquids with solids
    • B01F23/56Mixing liquids with solids by introducing solids in liquids, e.g. dispersing or dissolving
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F25/00Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
    • B01F25/40Static mixers
    • B01F25/46Homogenising or emulsifying nozzles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F33/00Other mixers; Mixing plants; Combinations of mixers
    • B01F33/80Mixing plants; Combinations of mixers
    • B01F33/82Combinations of dissimilar mixers
    • B01F33/821Combinations of dissimilar mixers with consecutive receptacles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B57/00Devices for feeding, applying, grading or recovering grinding, polishing or lapping agents
    • B24B57/02Devices for feeding, applying, grading or recovering grinding, polishing or lapping agents for feeding of fluid, sprayed, pulverised, or liquefied grinding, polishing or lapping agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F11/00Treatment of sludge; Devices therefor
    • C02F11/06Treatment of sludge; Devices therefor by oxidation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F25/00Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
    • B01F25/40Static mixers
    • B01F25/42Static mixers in which the mixing is affected by moving the components jointly in changing directions, e.g. in tubes provided with baffles or obstructions
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F25/00Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
    • B01F25/50Circulation mixers, e.g. wherein at least part of the mixture is discharged from and reintroduced into a receptacle

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Treatment Of Sludge (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本願発明は、スラリー濃縮物、脱イオン水及び酸化剤が、合流点に圧送されてスラリーを製造する、スラリー濃縮物からスラリーを製造する装置及び方法を提供するものである。特に、本願発明は、前記スラリーの均質性が、前記スラリーを混合装置を通過させることによって、また、仕上げられたスラリーの一部を再循環させて前記合流点に戻すことによって高められる、そのような装置及び方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
スラリーは、種々の表面処理技術で使用されている。半導体装置の製造において使用される重要な表面処理は、化学的且つ機械的な研磨または平面化である。典型的に、そのような表面処理で用いられるスラリーは、水酸化カリウム(potassium hydroxide)と、酸化珪素(silicon oxide)と、過酸化水素(hydrogen peroxide)のような酸化剤(oxidizer)と、脱イオン水(de−ionized water)のような希釈剤(diluent)とを備えている。硝酸鉄(III)(ferric nitrate)や塩化物(chloride)が、また、存在してもよい。前記スラリー内に含まれる酸化剤は、処理すべき表面上で作用し、研磨粒子が前記表面の層を除去する。スラリーは、しばしば、例えば、前記水酸化カリウムや二酸化珪素(silicon dioxide)を含むスラリー濃縮物として、作業部位に送られる。次いで、前記希釈剤や酸化剤が、前記作業部位において前記スラリー濃縮物に加えられたり、あるいは、ある例では前記ツールそれ自身において前記スラリー濃縮物に加えられる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記スラリーを混合するには、また、いったんスラリーが混合されると、仕上げられたスラリーを取り扱うには、多くの問題点があった。1つの大きな問題点は、前記スラリーが、大変に制限されたポットライフ(可使時間)しかなく有しておらず、混合された後、スラリーを使用する時間は、制限されていた。さらに、半導体産業で使用されるこの種のスラリーは、剪断力を受けると、同質のままとはならない。例えば、鋭角に曲がった管により前記スラリーに引き起こされた剪断力は、凝集作用を生成し、該凝集作用によって、半導体製造工程における前記スラリーの有用性をなくしてしまうであろう。
【0004】
そのような問題があるために、作業部位で、スラリー濃縮物からスラリーを混合製造する、スラリー吐出システム及びスラリー混合システムが提案されていた。そのようなシステムの例は、米国特許第5,407,526号に開示されている。この米国特許においては、前記スラリー濃縮物と酸化体(オキシダント)が、混合チャンバ(混合室)内に圧送される。前記混合チャンバで、前記スラリー濃縮物と前記酸化体は、混合され、前記仕上げられたスラリーが形成される。前記スラリーは、次いで、前記半導体に直ちに付着させられ、それによって、前記半導体ーは、研磨ツールによって加工させられる。他のスラリー混合システムが、米国特許第5,478,435号に開示されている。米国特許第5,478,435号において、スラリーは、化学的且つ機械的な平面化用のツール研磨パッドに直接的に圧送されている。
【0005】
前記特許の各々において、前記研磨ツールの作動時に、前記スラリー混合物から前記スラリーが混合製造されている。後述するように、本願発明は、前記スラリーが、前記研磨ツールから離れた位置で混合され、これによって、作動させている必要のない、いくつかのツールに前記スラリーを分配できるようにした装置及び方法を提供するものである。さらに、本願発明によって、前記特許のどれよりも、コンシステンシー(粘稠度)を制御できると共に、前記スラリーの製造を制御できる。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本願発明は、スラリー濃縮物からスラリーを製造するための装置を提供するものである。前記装置は、前記スラリー濃縮物を圧送するための第1のインレットポンプと、脱イオン水を圧送するための第2のインレットポンプと、酸化剤を圧送するための第3のインレットポンプとを備えている。合流点が、前記第1のインレットポンプと、前記第2のインレットポンプと、前記第3のインレットポンプに接続されており、それによって、前記スラリー濃縮物と、前記脱イオン水と、前記酸化剤とは、互いに接触し、混合物を形成することができる。少なくとも1つの混合装置が、前記合流点に接続されており、これによって、前記混合物の均質性が増進し、それによって、前記スラリーを形成することができる。アウトレットポンプが、前記少なくとも1つの混合装置に接続されており、これによって、前記少なくとも1つの混合装置から前記スラリーを圧送することができる。流れネットワーク(flow network)が、前記アウトレットポンプに接続されている。前記流れネットワークは、前記スラリーの流れを分配流と再循環流に分けるための分配脚部及び再循環脚部を備えている。前記再循環脚部は、前記再循環流を前記混合物に供給できるように前記合流点に接続されている。前記再循環脚部は、前記分配圧力を、前記第1のインレットポンプと前記第2のインレットポンプと前記第3のインレットポンプとによって、前記スラリー濃縮物、前記脱イオン水及び前記酸化剤にそれぞれ付与される圧力に減少させるための減圧弁(減圧バルブ)を備えている。
【0007】
他の特徴において、本願発明は、スラリー濃縮物からスラリーを製造するための方法を提供するものである。前記方法にしたがって、前記スラリー濃縮物、前記脱イオン水及び前記酸化剤が、圧送され、前記圧送によって圧力が付与された3つの圧送流が形成される。前記3つの圧送流は、互いに接触すると共に、再循環流に接触し、これによって、混合物が形成される。均質性が前記混合物内で増進されて、これによって、前記スラリーが形成される。前記スラリーは、アウトレットポンプによって所定の分配圧力で圧送され、次いで、分配流と前記再循環流とに分けられる。前記再循環流の分配圧力が、次いで、前記再循環流を前記3つの圧送流に結合させる前に得られる圧力まで減少させられる。
【0008】
上記説明から理解できるように、前記スラリーは作業部位でそして要求に応じて形成されるが、前記スラリーを用いる研磨装置などの他の装置は、前記スラリーを混合製造している間、作動させる必要はない。そのうえ、仕上げられたスラリーの再循環作用と混合装置の作用によって均質性が増進させることにより、前記スラリーのコンシステンシー(粘稠度)をかなりの程度で制御することができる。
【0009】
明細書には、出願人が発明として考えている主題を明白に指摘する請求項が含まれているが、添付した図面との関連で本願発明をより理解できるであろう。
【0010】
【発明の実施の形態】
図1を参照すると、本願発明にしたがってスラリーを製造するための装置が、図示されている。装置1は、独立型の装置と使用して、または、公知の分配装置と関連して使用して、圧力下でスラリーを1またはそれ以上の使用地点に供給することができるようになっている。
【0011】
スラリー濃縮物の流れ12を圧送するための第1のポンプ10が設けられている。脱イオン水の流れ14を圧送するための第2のポンプ13が設けられている。酸化剤の流れ18を圧送するための第3のポンプ16が設けられている。第1のポンプ10と、第2のポンプ13と、第3のポンプ16とは、蠕動ポンプであることが好ましい。さらに、第1のポンプ10と、第2のポンプ13と、第3のポンプ16とを可変速度型のポンプにし、それによって、圧送される組成物の率を調整できるようにすることが好ましい。例えば、吐出し量の異なる複数のポンプを設けることによって、調整をしない他のタイプの調整も可能であるということが理解される。なお、任意の実施例において、スラリー濃縮物の圧送流20を伝える管と、脱イオン水の圧送流22を伝える管と、酸化剤の圧送流24を伝える管は、それらの長さを等しくすることによって、混合率が一時的に変動することなく、所望の流れを所定時間にわたって容易に調整できるようにすべきである。
【0012】
前記3つの流れ、すなわち、スラリー濃縮物の圧送流20と脱イオン水の圧送流22と酸化剤の圧送流24とが、合流点26内に供給される。理解できるように、第1のポンプ10と第2のポンプ13と第3のポンプ16は、異なった速度で作動しており、また、いくつかの脈動流が各ポンプによって生成されることから、1つの成分が他の成分よりも割合が高い一連の領域が、合流点26を離れる流れ内で生成される。後述するように、仕上げられたスラリーから構成される再循環流が、また、合流点26に供給されている。
【0013】
次いで、前記スラリーは、公知の静的なミキサー(混合機)28を通るようになっている。静的なミキサー28は、混合されたスラリーを外側に向けて圧送し、流れの方向に対して径方向における均質性を増進することができるように構成されている。径方向に一様になったスラリーは、ホッパーミキサー30内に入り込む。ホッパーミキサー30は、流れの方向において、前記スラリーの流れの均質性を増進させる。出力用のポンプ32が、ホッパーミキサー30に接続されており、これによって、前記スラリーの流れを、吐出し圧力(送出し圧力)で圧送できるようになっている。本願発明の別の一実施例では、静的なミキサー28を用いないことも可能である。そのような実施例においては、スラリーを構成する際に、前記スラリーの流れに対し径方向に生じるわずかな変化が、許容されるであろう。
【0014】
前記スラリーは、次いで、出力用のポンプ32に接続された流れネットワークを通るようになっている。前記流れネットワークは、分配脚部34と、再循環脚部36とを備えている。前記流れネットワークは、管を適切に寸法決めして、分配脚部34に入り込むスラリーのうち約50%が再循環脚部36内で再循環するように構成されることが好ましい。もちろん、再循環の割合を高くしたりあるいは低くしたりすることは、意図されたスラリーの配合物(組成物)に応じて可能である。チェックバルブ(逆止弁)38を設けることにより、前記再循環流が、分配脚部34に向けて逆流することを防止できるようになっている。圧力調節バルブ39を設けることによって、前記分配圧力を、第1のポンプ10、第2のポンプ13及び第3のポンプ16によって付与される圧力まで、前記再循環流の圧力を減圧させることができるようになっている。図示されたように、合流点26に接続された再循環脚部36は、戻り脚部54に結合することができる。チェックバルブ(逆止弁)40を再循環脚部36内に設けて、逆流を防止できるようになっている。
【0015】
さらに、図2を参照すると、ホッパーミキサー30には、ホッパー42と、該ホッパー42内に設けられた同軸管44とが設けられている。同軸管44には、開口部46が設けられている。開口部46は、(90度づつ離れていることが好ましい)4つひと組のものが複数個設けられて構成されており、それによって、スラリーは、同軸管44から、4つの直交方向でホッパー42内に漏れ出るようになっている。同軸管44は、スラリーを受けることができるように一端48で開口しており、また、他端50で閉鎖されている。このようにして、スラリーは、ホッパー42内で長手方向(すなわち、その流れ方向に対し平行方向)において、それ自身と混合する。スラリーは、ホッパー42の底部に設けられた底部開口部52から排出される。他のインライン式の混合装置を用いることも可能である。
【0016】
スラリーは、分配脚部34から出て、バルブ53を通過する。バルブ53を使用して、スラリーツールを前記流れネットワークから分離できるようになっている。スラリーが前記スラリーツールを通った後、スラリーは、戻り脚部54を通って戻る。そのような戻し圧力は、圧力調節バルブ55の使用によって減少される。チェックバルブ(逆止弁)56を設けて、逆流を防止できるようになっている。戻って来たスラリー(すなわち、より適切に名付ければ、未使用のスラリー)は、再循環脚部36に結合し、合流点26に供給される。
【0017】
戻り脚部54は、バルブ58によって、前記スラリーツールから分離させることができる。バルブ53とバルブ58の両方のバルブが閉鎖されていた場合、バルブ59とバルブ68とを開いて、前記システムを脱イオン水で洗い流し、これによって、クリーニング(洗浄)を行うことができる。そのため、装置1の作動の間、バルブ53とバルブ58とは、開放位置に設定され、バルブ59とバルブ68は閉鎖位置に設定される。分離用のバルブ70を設けて、前記クリーニングの間、前記流れネットワークから排水路(ドレーン)を分離することができる。
【0018】
本願発明は好適な実施例を参照して説明されたが、当業者は、本願発明の精神及び範囲から離れることなしに、種々の変更、追加及び削除を行うことができることを理解できるであろう。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本願発明に係わる方法を実施する装置の略図である。
【図2】図2は、図1で使用される混合装置の断面図である。
【符号の説明】
1 装置 10 第1のポンプ
12 スラリー濃縮物の流れ 13 第2のポンプ
14 脱イオン水の流れ 16 第3のポンプ
18 酸化剤の流れ 20 スラリー濃縮物の圧送流
22 脱イオン水の圧送流 24 酸化剤の圧送流
26 合流点 28 静的なミキサー
30 ホッパーミキサー 32 出力用のポンプ
34 分配脚部 36 再循環脚部
38 チェックバルブ 39 圧力調節バルブ
40 チェックバルブ 42 ホッパー
44 同軸管 46 開口部
48 一端 50 他端
52 底部開口部 53 バルブ
54 戻り脚部 55 圧力調節バルブ
56 チェックバルブ 58 バルブ
59 バルブ 68 バルブ

Claims (9)

  1. スラリー濃縮物からスラリーを製造するためのスラリー製造装置であって、
    前記スラリー濃縮物を圧送するための第1のインレットポンプと、
    脱イオン水を圧送するための第2のインレットポンプと、
    酸化剤を圧送するための第3のインレットポンプと、
    前記スラリーの流れを分配流と再循環流とに分けるための分配脚部と再循環脚部とを有する流れネットワークと、
    前記スラリー濃縮物と、前記脱イオン水と、前記酸化剤と、前記再循環流とが互いに接触して混合物が形成されるように、前記第1のインレットポンプと、前記第2のインレットポンプと、前記第3のインレットポンプと、前記流れネットワークの前記再循環脚部とに接続された合流点と、
    前記合流点に接続され、前記混合物の均質性を増進させ、それによって、前記スラリーを形成する少なくとも1つの混合装置と、
    前記少なくとも1つの混合装置に接続され、前記少なくとも1つの混合装置から前記スラリーを圧送するアウトレットポンプとを具備し、
    前記流れネットワークは前記アウトレットポンプに接続され、
    前記再循環脚部は、前記再循環流の分配圧力を、前記第1のポンプと、前記第2のポンプと、前記第3のポンプによって前記スラリー濃縮物と、前記脱イオン水と、前記酸化剤に夫々加えられた圧力まで減圧する圧力調節バルブを備えることを特徴とするスラリー製造装置。
  2. 請求項1に記載のスラリー製造装置において、
    前記少なくとも1つの混合装置は、ホッパーを備えており、前記ホッパーは、縦方向に方向決めされた管を備えており、前記管は穴を有しており、前記混合物は、前記穴から前記ホッパー内に漏れ出るようになっており、
    前記ホッパーは、前記アウトレットポンプに接続された底部アウトレットを備えていることを特徴とするスラリー製造装置。
  3. 請求項2に記載のスラリー製造装置において、
    前記少なくとも1つの混合装置は、さらに、スタティクミキサーを備えていることを特徴とするスラリー製造装置。
  4. 請求項1または3に記載のスラリー製造装置において、
    前記流れネットワークは、未使用のスラリーを前記少なくとも1つの混合装置に戻すことができるように、前記合流点に接続された戻り脚部を備えており、
    前記戻り脚部は、前記分配流の分配圧力を、前記第1のインレットポンプと、前記第2のインレットポンプと、前記第3のインレットポンプによって前記スラリー濃縮物と、前記脱イオン水と、前記酸化剤とに夫々加えられた前記圧力まで戻すために減圧する圧力調節バルブを備えていることを特徴とするスラリー製造装置。
  5. 請求項1に記載のスラリー製造装置において、
    前記第1乃至第3のポンプは、いずれも可変速度型のポンプであることを特徴とするスラリー製造装置。
  6. スラリー濃縮物からスラリーを製造するためのスラリー製造方法であって、
    前記スラリー濃縮物と脱イオン水と酸化剤とを圧送して、当該圧送によって付与される圧力を有する3つの圧送流を形成するステップと、
    前記3つの圧送流を互いに接触させると共に、前記3つの圧送流を再循環流に接触させて、混合物を形成するステップと、
    前記混合物の均質性を増進させて、前記スラリーを形成するステップと、
    前記スラリーを分配圧力で圧送するステップと、
    前記スラリーを、分配流と前記再循環流とに分けるステップと、
    前記再循環流の分配圧力を、前記再循環流を前記3つの圧送流に結合する前の圧力まで減圧するステップとを備えていることを特徴とするスラリー製造方法。
  7. 請求項6に記載のスラリー製造方法において、
    ホッパーに縦置きの管を設けることによって構成されたスタティクミキサー内に、前記混合物を導入することによって、均質性が増進されるようになっており、
    前記管は、穴を備えており、前記混合物は、前記穴から前記ホッパー内に漏れ出るようになっていることを特徴とするスラリー製造方法。
  8. 請求項6に記載のスラリー製造方法において、
    さらに、未使用のスラリーを前記混合物内に導入するステップを備えていることを特徴とするスラリー製造方法。
  9. 請求項6に記載のスラリー製造方法において、
    前記ポンプの圧送速度を調節して、前記スラリー濃縮物と前記脱イオン水と前記酸化剤の割合を制御できるようにしたことを特徴とするスラリー製造方法。
JP29643298A 1997-11-26 1998-10-19 スラリー混合装置及びその製造方法 Expired - Lifetime JP4354552B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US978887 1997-11-26
US08/978,887 US5887974A (en) 1997-11-26 1997-11-26 Slurry mixing apparatus and method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11207604A JPH11207604A (ja) 1999-08-03
JP4354552B2 true JP4354552B2 (ja) 2009-10-28

Family

ID=25526487

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29643298A Expired - Lifetime JP4354552B2 (ja) 1997-11-26 1998-10-19 スラリー混合装置及びその製造方法

Country Status (9)

Country Link
US (1) US5887974A (ja)
EP (1) EP0922534B1 (ja)
JP (1) JP4354552B2 (ja)
KR (1) KR100332367B1 (ja)
CA (1) CA2249965C (ja)
DE (1) DE69828754T2 (ja)
IL (1) IL126495A (ja)
SG (1) SG70137A1 (ja)
TW (1) TW442325B (ja)

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19919108A1 (de) * 1999-04-27 2000-11-09 Siemens Ag Zuführvorrichtung für Schleifmittel
EP1052060A3 (en) * 1999-05-03 2001-04-18 Applied Materials, Inc. Method for chemical mechanical planarization
US6348124B1 (en) 1999-12-14 2002-02-19 Applied Materials, Inc. Delivery of polishing agents in a wafer processing system
US6629881B1 (en) 2000-02-17 2003-10-07 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for controlling slurry delivery during polishing
US6616014B1 (en) 2000-02-25 2003-09-09 The Boc Group, Inc. Precision liquid mixing apparatus and method
US7905653B2 (en) * 2001-07-31 2011-03-15 Mega Fluid Systems, Inc. Method and apparatus for blending process materials
DE60123254T2 (de) * 2000-07-31 2007-09-06 Kinetics Chempure Systems, Inc., Tempe Verfahren und vorrichtung zum mischen von prozessmaterialien
US6572255B2 (en) * 2001-04-24 2003-06-03 Coulter International Corp. Apparatus for controllably mixing and delivering diluted solution
US7086933B2 (en) * 2002-04-22 2006-08-08 Applied Materials, Inc. Flexible polishing fluid delivery system
US6939210B2 (en) * 2003-05-02 2005-09-06 Applied Materials, Inc. Slurry delivery arm
JP4601445B2 (ja) * 2004-06-21 2010-12-22 富士通セミコンダクター株式会社 研磨剤供給方法
US20070131562A1 (en) * 2005-12-08 2007-06-14 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for planarizing a substrate with low fluid consumption
US8187554B2 (en) * 2008-04-23 2012-05-29 Microfluidics International Corporation Apparatus and methods for nanoparticle generation and process intensification of transport and reaction systems
US8997789B2 (en) * 2008-06-22 2015-04-07 Malema Engineering Corporation Internal leak detection and backflow prevention in a flow control arrangement
KR100938146B1 (ko) * 2009-02-11 2010-01-21 (주)엔엘에스바이오 다기관을 이용한 수처리 시스템
TWI641936B (zh) * 2012-11-13 2018-11-21 美商慧盛材料美國責任有限公司 漿料供應及/或化學品摻合物供應設備、方法、使用方法及製造方法
US9770804B2 (en) 2013-03-18 2017-09-26 Versum Materials Us, Llc Slurry supply and/or chemical blend supply apparatuses, processes, methods of use and methods of manufacture
US9713893B2 (en) * 2013-07-09 2017-07-25 Wenger Manufacturing, Inc. Method of preconditioning comestible materials using steam/water static mixer
US11559774B2 (en) 2019-12-30 2023-01-24 Marathon Petroleum Company Lp Methods and systems for operating a pump at an efficiency point
US11774990B2 (en) 2019-12-30 2023-10-03 Marathon Petroleum Company Lp Methods and systems for inline mixing of hydrocarbon liquids based on density or gravity
US20220243573A1 (en) * 2021-01-29 2022-08-04 Downhole Chemical Solutions, Llc Systems and methods for subdividing chemical flow for well completion operations
US12087002B1 (en) 2023-09-18 2024-09-10 Marathon Petroleum Company Lp Systems and methods to determine depth of soil coverage along a right-of-way

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2135261A (en) * 1936-05-11 1938-11-01 John A Rosfmait Pulp stock agitating apparatus
US3180350A (en) * 1962-04-20 1965-04-27 Gen Motors Corp Mixing apparatus
US4057223A (en) * 1975-10-03 1977-11-08 Nalco Chemical Company Mixing block for mixing polymers
IT1084547B (it) * 1977-09-30 1985-05-25 Snia Viscosa Procedimento ed apparecchiatura per la produzione di polimeri sintetici additivati.
US4407431A (en) * 1981-03-04 1983-10-04 Hutter Iii Charles G System for dispensing curable compositions
US4482704A (en) * 1982-11-22 1984-11-13 Marathon Oil Company Method and apparatus for multiple recycle polymer dilution
US4664528A (en) * 1985-10-18 1987-05-12 Betz Laboratories, Inc. Apparatus for mixing water and emulsion polymer
US4823987A (en) * 1986-04-28 1989-04-25 Ryco Graphic Manufacturing, Inc. Liquid mixing system and method
US5372421A (en) * 1986-06-05 1994-12-13 Pardikes; Dennis Method of inverting, mixing, and activating polymers
US4863277A (en) * 1988-12-22 1989-09-05 Vigoro Industries, Inc. Automated batch blending system for liquid fertilizer
US5470150A (en) * 1990-06-20 1995-11-28 Pardikes; Dennis G. System for mixing and activating polymers
US5407526A (en) * 1993-06-30 1995-04-18 Intel Corporation Chemical mechanical polishing slurry delivery and mixing system
US5590960A (en) * 1993-11-04 1997-01-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company One tank paint makeup process using a recirculation loop with liquid injection
DE69529751D1 (de) * 1994-07-19 2003-04-03 Applied Chemical Solutions Hol Vorrichtung und methode zur anwendung beim chemischen-mechanischen polieren
US5522660A (en) * 1994-12-14 1996-06-04 Fsi International, Inc. Apparatus for blending and controlling the concentration of a liquid chemical in a diluent liquid
US5478435A (en) * 1994-12-16 1995-12-26 National Semiconductor Corp. Point of use slurry dispensing system
KR19990024817A (ko) * 1997-09-08 1999-04-06 윤종용 화학 물리적 폴리슁용 슬러리 제조 장치

Also Published As

Publication number Publication date
CA2249965A1 (en) 1999-05-26
KR100332367B1 (ko) 2002-08-08
SG70137A1 (en) 2000-01-25
EP0922534A3 (en) 2001-05-02
DE69828754T2 (de) 2005-12-29
IL126495A0 (en) 1999-08-17
IL126495A (en) 2001-03-19
TW442325B (en) 2001-06-23
EP0922534B1 (en) 2005-01-26
JPH11207604A (ja) 1999-08-03
CA2249965C (en) 2005-06-14
EP0922534A2 (en) 1999-06-16
KR19990045565A (ko) 1999-06-25
US5887974A (en) 1999-03-30
DE69828754D1 (de) 2005-03-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4354552B2 (ja) スラリー混合装置及びその製造方法
KR100362297B1 (ko) 화학기계폴리셔및폴리싱방법
US7054719B2 (en) System and method for point of use delivery, control and mixing chemical and slurry for CMP/cleaning system
US7249995B2 (en) Apparatus and method for feeding slurry
US3822217A (en) Foam forming device
TW583355B (en) Slurry mixing feeder and slurry mixing and feeding method
JP2020096027A (ja) 研磨液供給装置
JP2003071720A (ja) スラリー混合供給装置及びスラリー混合供給方法
US6610213B1 (en) Process for the wet chemical treatment of a semiconductor wafer
JP6538953B1 (ja) 研磨液供給装置
JP7133518B2 (ja) 研磨液供給装置
JP6698921B1 (ja) 研磨液供給装置
EP1224027B1 (en) Device for introducing a gaseous substance in a fluid and use thereof
JP6538954B1 (ja) 研磨液供給装置
JP2004098286A (ja) スラリー供給装置
JP6667032B1 (ja) 研磨液供給装置
JP2018094503A (ja) 洗浄液生成方法、洗浄方法及び洗浄液生成設備
JP2004136440A (ja) スラリー供給装置及びスラリー供給方法
TWI265394B (en) System and method for point of use delivery, control and mixing chemical and slurry for CMP/cleaning system
WO2005075361A1 (ja) 殺菌水製造装置の混合手段
JP2000301528A (ja) 液状固化材の製造方法及び装置
JPH04289323A (ja) 吹付け基材の吹付け方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20051013

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080526

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20080617

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20080825

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20080828

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20080919

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20080925

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20081008

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081126

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090630

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090730

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120807

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130807

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term