JP4350576B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
そして、そのことにより、トレンチエッチング等のエッチングの加工精度を向上させることである。
さらに、中性粒子の照射を一様均一にすることで、成膜やアッシングなどの処理の精度を向上させることである。
また、リブ303を用いない方法としては、金属板300に永久磁石を貼付して、ロータの磁極を形成し、エッチング装置10の外部の上部にステータを設けて、回転磁界を金属板300に与える。これにより、金属板300を回転磁界に同期させた同期モータのロータとして回転させる。または、回転磁界が金属板300を横切るとに、金属板300には電流が流れる。これを利用した誘導モータとして、金属板300を回転させることも可能である。
第1金属板320のスリット70と第2金属板330のスリット71は直交しているので、格子状に貫通孔が形成されたの等価となる。そして、第1金属板320が第2方向にスリットの1周期の周期で往復運動される。同様に、第2金属板330が第1方向にスリットの1周期の周期で往復運動される。このような運動は、結局は、実施例1における円運動と等価となる。したがって、実施例1と同様な効果を奏する。
12…チャンバー
14…試料台
16…試料
20…プラズマ生成室
21…天井部
22…導波管
30…金属板
32…銅板
34…貫通孔
35…側壁
36…ロッド
37…銅板
40…運動装置
42…回転板
43…回転板
50a,50b,51a,51b…電磁石
53a、54a…圧電効果素子
53b,c,d,54b,c,d…スペーサ
70,71…スリット
300,310…金属板
301,302…枠体
303…リブ
311,312,313,314…永久磁石
320…第1金属板
321,322,333,334…永久磁石
330…第2金属板
340,341,342…貫通孔
Claims (4)
- プラズマから得られ又は変換された粒子を試料に照射するプラズマ処理装置において、
プラズマを生成するプラズマ生成部と、
前記プラズマ生成部で生成されたプラズマを前記試料に向けて通過させる貫通孔を多数有し、この貫通孔を通して、粒子を前記試料に照射する円形の金属板と、
前記金属板を円形の中心点を軸として前記試料に対して相対的に回転させる回転装置と、
を有し、
ある半径rにおける単位半径方向長さΔr当たりの前記貫通孔の1周の総合面積を、その半径rに比例させたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記回転装置は、その回転軸が前記金属板の上方に位置し、前記回転軸から延設され前記金属板の外周部に接続されたリブにより、前記金属板を前記回転軸に支持して回転させる機構であることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- プラズマから得られ又は変換された粒子を試料に照射するプラズマ処理装置において、
プラズマを生成するプラズマ生成部と、
前記プラズマ生成部で生成されたプラズマを前記試料に向けて通過させる貫通孔を多数有し、この貫通孔を通して、粒子を前記試料に照射する金属板と、
前記試料の表面に平行な第1方向に、前記金属板を前記試料に対して相対的に往復運動させる第1往復運動と、前記試料の表面に平行で且つ前記第1方向に垂直な第2方向に、前記金属板を前記試料に対して相対的に往復運動させる第2往復運動とを、前記第1往復運動及び前記第2往復運動におけるそれぞれの往復運動の1又は複数周期毎に、交互に実行させる振動装置と
を有することを特徴とするプラズマ処理装置。 - プラズマから得られ又は変換された粒子を試料に照射するプラズマ処理装置において、
プラズマを生成するプラズマ生成部と、
前記プラズマ生成部で生成されたプラズマを前記試料に向けて通過させる第1方向に延びたスリットをこの第1方向に垂直な第2方向に多数配置し、このスリットを通して、粒子を前記試料に照射する第1金属板と、
前記第1金属板の上方に位置し、前記プラズマ生成部で生成されたプラズマを前記試料に向けて通過させる前記第2方向に延びたスリットを前記第1方向に多数配置し、このスリットを通して、粒子を前記試料に照射する第2金属板と、
前記第1金属板を前記第2方向に往復運動させ、前記第2金属板を前記第1方向に往復運動させる振動装置と
を有することを特徴とするプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005294516A JP2005294516A (ja) | 2005-10-20 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2004107140A Expired - Fee Related JP4350576B2 (ja) | 2004-03-31 | 2004-03-31 | プラズマ処理装置 |
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JP (1) | JP4350576B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP5887366B2 (ja) * | 2013-03-26 | 2016-03-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 遷移金属を含む膜をエッチングする方法 |
JP5908001B2 (ja) * | 2014-01-16 | 2016-04-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
US9288890B1 (en) * | 2014-10-31 | 2016-03-15 | Tokyo Electron Limited | Method and apparatus for providing an anisotropic and mono-energetic neutral beam by non-ambipolar electron plasma |
JP2017059579A (ja) * | 2015-09-14 | 2017-03-23 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
JP7244447B2 (ja) * | 2020-02-20 | 2023-03-22 | 株式会社日立ハイテク | プラズマ処理装置 |
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2004
- 2004-03-31 JP JP2004107140A patent/JP4350576B2/ja not_active Expired - Fee Related
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