JP4309503B2 - 連続帯の電気めっき装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、連続帯状のめっき対象物に電気めっきを施す連続帯の電気めっき装置に関する。さらに詳細には、美麗な表面のめっきが得られる連続帯の電気めっき装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来から、連続帯状の対象物にめっきを施す場合には、図4に示すように、めっき液に何度も対象物を通してその都度アノード91、92から通電するようにしている。これにより、対象物はめっき液に浸す毎にめっきされる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような連続帯のめっき装置には,次のような問題点があった。すなわち,得られるめっき層の表面に光沢むらが発生して、見た目があまりよくないのである。
【0004】
本発明は、従来の技術が有する前記した問題点の解決を目的としてなされたものである。すなわちその課題とするところは、光沢があり美麗な表面のめっき層が得られる連続帯の電気めっき装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
この課題を解決するためになされた本発明に係る連続帯の電気めっき装置は、めっき液で満たされるめっき槽と、めっき槽に連続帯を進入させる進入手段と、めっき槽内に設けられるとともに下降してきた連続帯を上方へ折り返す下折り返し手段と、下折り返し手段へ向けて下降する連続帯にアノードにより電気めっきを施す下降めっき区間と、下折り返し手段から上昇する連続帯に電気めっきを施さずにこれを通過させる非めっき区間と、非めっき区間を通過した直後の連続帯をめっき槽から引き出す引き出し手段とを有している。
【0006】
この連続帯の電気めっき装置では、めっきの対象物である連続帯が進入手段によりめっき槽に進入すると、下降めっき区間でその表面にアノードにより電気めっきが施される。そして、連続帯は下折り返し手段で上方に折り返され、非めっき区間にはいる。非めっき区間は、連続帯に電気めっきしない構成になっている。連続帯は,この非めっき区間を通過することにより,光沢むらのない美麗なめっき表面となる。そして、表面が美麗になった連続帯は引き出し手段によってめっき槽の外に引き出される。このようにして、美麗な表面のめっき層が連続帯に付与される。
【0007】
また、本発明に係る連続帯の電気めっき装置は、めっき液で満たされるめっき槽と、めっき槽に連続帯を進入させる進入手段と、めっき槽内に設けられるとともに下降してきた連続帯を上方へ折り返す複数の下折り返し手段と、各下折り返し手段へ向けて下降する連続帯にアノードにより電気めっきを施す下降めっき区間と、各下折り返し手段のうち最終段以外のものから上昇する連続帯にアノードにより電気めっきを施す上昇めっき区間と、上昇めっき区間を上昇してきた連続帯を次段の下降めっき区間へ向けて折り返す複数の上折り返し手段と、各下折り返し手段のうち最終段のものから上昇する連続帯に電気めっきを施さずにこれを通過させる非めっき区間と、非めっき区間を通過した直後の連続帯をめっき槽から引き出す引き出し手段とを有する構成にしても良い。
【0008】
この連続帯の電気めっき装置では、めっきの対象物である連続帯が進入手段によりめっき槽に進入すると、下降めっき区間でその表面にめっきが施される。そして、連続帯は下折り返し手段で上方に折り返され、上昇めっき区間に入ってさらにアノードにより電気めっきされる。そして、連続帯は上折り返し手段により下方に折り返されて、次段の下降めっき区間に入ってさらにアノードにより電気めっきされる。この上下動作は連続帯が最終段の下折り返し手段を通過するまで繰り返される。そして、連続帯が最終段の下折り返し手段を通過すると、上方に折り返され非めっき区間にはいる。非めっき区間は,連続帯に電気めっきしない構成になっている。連続帯は,この非めっき区間を通過することにより,光沢むらのない美麗なめっき表面となる。そして、表面が美麗になった連続帯は引き出し手段によってめっき槽の外に引き出される。このようにして、美麗な表面のめっき層が連続帯に付与される。
【0009】
更に、本発明に係る連続帯の電気めっき装置は、めっき槽内に,非めっき区間とその直前の下降めっき区間とを区画する隔壁を設けてもよい。このようにすると、非めっき区間への電流の漏れが防止されるので、より確実な効果が得られる。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を具体化した実施の形態について、図面を参照しつつ詳細に説明する。本実施の形態は、ICカード製造用のフレキシブル基板にニッケルめっきを施す連続めっき装置である。
【0011】
まず、めっき対象物であるフレキシブル基板について簡単に説明する。フレキシブル基板80は、図3の断面図に示すように、樹脂シート83の片面に銅パターン84を形成したものである。ただし、樹脂シート83が除去されて穴をなし、銅パターン84の裏面が露出している箇所85がある。装着したICとのボンディングのためである。めっきの対象となるのは、銅パターン84の表面と、裏面のうち穴85に露出している部分である。
【0012】
本実施の形態に係る連続めっき装置1は、図1に示すように、めっき槽10を隔壁11により複数のセル12、13に分割した多セル構造のめっき装置である。そして、先頭から最終段の直前までの各セル12の中央には、第1アノード14が設けられている。両端側には第2アノード15,15が設けられている。最終段のセル13には、中央に第1アノード14が設けられている。そして、セル13の端部には左側のみに第2アノード15が設けられている。更に、第1アノード14の右側には、隔壁16が設けられている。また、各第1アノード14及び第2アノード15は、ニッケル製であり、電源27に接続されている。
【0013】
めっき槽10のセル12、13の上方にはロール列18、22が設けられている。先頭から最終段の直前までの各ロール列18には、給電ロール19が含まれている。また、給電ロール19はアース23に接続されている。これにより、フレキシブル基板80の銅パターン84に給電ロール19を介して通電が採られるようになっている。最終段のロール列22は、先頭から最終段までの各ロール列18と異なり、アース23に接続された給電ロールが含まれていない。また、ロール列18、22はフレキシブル基板80に駆動力を与える役割をも有している。更に、各セル12、セル13中には第1アノード14の下方に液中ロール対17が設けられている。
【0014】
連続めっき装置1は、めっき槽10をニッケルめっき液で満たし、各セル12の第1、第2アノード14、15がニッケルめっき液に浸っている状態で使用される。ニッケルめっき液としては、ワット浴など公知のものを用いればよい。また、ロール列18を構成している給電ロール19にマイナス給電し、第1、第2アノード14、15にはプラス給電した状態で使用される。
【0015】
この連続めっき装置1の各セル12において,中央の第1アノード14とその図1中左側の第2アノード15との間が下降めっき区間20である。そして、中央の電極14とその図1中右側の第2アノード15との間が上昇めっき区間21である。また、セル13における第1アノード14と第2アノード15との間もまた下降めっき区間20である。そして、セル13における第1アノード14の図1中右側が非めっき区間26である。
【0016】
このような構成を有する連続めっき装置1では、図2に示すシートロール81からフレキシブル基板80を巻き出し、IN側から受け入れる。受け入れられたフレキシブル基板80は、先頭のロール列18により第1番目のセル12の下降めっき区間20に導かれる。フレキシブル基板80は、下降めっき区間20では下向きに進行しつつめっきが施される。具体的には、銅パターン84の表面(図3中上側の面)と、裏面のうち穴85に露出している部分とに、めっき層が形成される。下降めっき区間20を通過すると、下方にある液中ロール対17により折り返されて、上昇めっき区間21に導かれる。フレキシブル基板80は、上昇めっき区間21では上向きに進行しつつめっきが施される。上昇めっき区間21を通過すると、上方にあるロール列18により次段のセル12に導かれる。そして,かかる上下動が繰り返される。
【0017】
フレキシブル基板80が最終段の1つ前のセル12を通過すると、ロール列18により折り返され、最終段のセル13の下降めっき区間20に導かれる。フレキシブル基板80は、下降めっき区間20では下向きに進行しつつめっきが施される。下降めっき区間20を通過すると、フレキシブル基板80は液中ロール対17により折り返され、非めっき区間26に導かれる。そしてフレキシブル基板80は、非めっき区間26ではめっきされずに上向きに進行する。非めっき区間26を通過した後、非めっき区間26の上方にあるロール列22によりOUT側に排出される。排出されたフレキシブル基板80は、再び図2のようなロール状に巻き取られて後工程に送られる。
【0018】
このようにフレキシブル基板80は,ロール列22によりめっき槽10から最終的に排出される直前に非めっき区間26を通過する。非めっき区間26では,第2アノード15が設けられていないこと,隔壁16により第1アノード14から隔離されていること、により,ほとんどめっきされない。また,非めっき区間26の上方のロール列22に給電ロールが含まれていないことも,このことに貢献している。また,隔壁16が,前方の下降めっき区間20等からの液中の電流の漏れを防止していることも,このことに貢献している。
【0019】
このため、ロール列22により排出されたフレキシブル基板80は,銅パターン84にニッケルめっきが施されているとともに,そのめっき層の表面がむらのない光沢を有し美麗である。このような美麗な表面のめっきが得られる理由は,非めっき区間26をフレキシブル基板80が通過する際に、めっきされたニッケルの一部がめっき液に溶解するためであると推定される。あるいは,フレキシブル基板80がめっき液で濡れたまま,しかも給電されたままでめっき層10から引き出されるときの不安定なめっき条件によるものであると推定される。
【0020】
以上詳細に説明したように、本実施の形態に係る連続めっき装置1では、最終段のセル13中の上昇区間にはアノードを設けていない。これにより、フレキシブル基板80がロール列22によりめっき槽10から排出される直前に,めっきされずにめっき液の中を通過するようにされている。また、ロール列22からは通電を採らず,さらに,隔壁16を設けて前段のめっき区間から分離するようにしている。これにより,光沢のある美麗な表面のめっきが施されたフレキシブル基板80が得られる。
【0021】
なお、本実施の形態は単なる例示にすぎず、本発明を何ら限定するものではない。したがって本発明は当然に、その要旨を逸脱しない範囲内で種々の改良、変形が可能である。例えば、隔壁11は必ずしも不可欠のものではない。これを省いた場合には、隣接するセル12の隣接する第2アノード15を1個ですますことも考えられる。また、多セル構造に限らず、単セル構造のめっき装置にも適用可能である。更に、本実施形態ではニッケルめっきを施す電気めっき装置について説明したが他の金属の電気めっきにおいても適用が可能である。
【0022】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように本発明によれば,光沢があり美麗な表面のめっき層が得られる連続帯の電気めっき装置が提供されている。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態に係るめっき装置の全体構造を示す断面図である。
【図2】フレキシブル基板のロールを示す図である。
【図3】フレキシブル基板の断面図である。
【図4】従来のめっき装置の構造図である。
【符号の説明】
1 連続めっき装置
10 めっき槽
14 第1アノード
15 第2アノード
16 隔壁
17 液中ロール対
18、22 ロール列
19 給電ロール
20 下降めっき区間
21 上昇めっき区間
26 非めっき区間

Claims (3)

  1. めっき液で満たされるめっき槽と,
    前記めっき槽に連続帯を進入させる進入手段と,
    前記めっき槽内に設けられるとともに下降してきた連続帯を上方へ折り返す下折り返し手段と,
    前記下折り返し手段へ向けて下降する連続帯にアノードにより電気めっきを施す下降めっき区間と,
    前記下折り返し手段から上昇する連続帯に電気めっきを施さずにこれを通過させる非めっき区間と,
    前記非めっき区間を通過した直後の連続帯を前記めっき槽から引き出す引き出し手段とを有することを特徴とする連続帯の電気めっき装置。
  2. めっき液で満たされるめっき槽と,
    前記めっき槽に連続帯を進入させる進入手段と,
    前記めっき槽内に設けられるとともに下降してきた連続帯を上方へ折り返す複数の下折り返し手段と,
    前記各下折り返し手段へ向けて下降する連続帯にアノードにより電気めっきを施す下降めっき区間と,
    前記各下折り返し手段のうち最終段以外のものから上昇する連続帯にアノードにより電気めっきを施す上昇めっき区間と,
    前記上昇めっき区間を上昇してきた連続帯を次段の前記下降めっき区間へ向けて折り返す複数の上折り返し手段と,
    前記各下折り返し手段のうち最終段のものから上昇する連続帯に電気めっきを施さずにこれを通過させる非めっき区間と,
    前記非めっき区間を通過した直後の連続帯を前記めっき槽から引き出す引き出し手段とを有することを特徴とする連続帯の電気めっき装置。
  3. 請求項1または請求項2に記載する連続帯の電気めっき装置において,
    前記めっき槽内に,前記非めっき区間とその直前の前記下降めっき区間とを区画する隔壁を設けたことを特徴とする連続帯の電気めっき装置。
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JP4878866B2 (ja) * 2006-02-22 2012-02-15 イビデン株式会社 めっき装置及びめっき方法

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