JP4295351B2 - 磁気転写用マスター担体および磁気記録媒体フォーマット方法 - Google Patents

Description

本発明は、垂直磁気記録媒体に対して磁気転写法によりサーボ情報を書き込むのに使用することのできるマスター担体、および、磁気転写法を利用して垂直磁気記録媒体をフォーマットするための方法に関する。

コンピュータシステムにおける情報処理量の増大に伴い、ハードディスクなどの記憶装置を構成する磁気記録媒体に対しては、記憶容量の増大化が要求される。そのような要求に応え得る媒体として、近年、垂直磁気記録方式の磁気記録媒体が注目を集めている。

図２９および図３０は、垂直磁気記録方式の磁気記録媒体の一例である磁気ディスク２００を表す。図２９は、磁気ディスク２００の記録面の構成を示す平面図であり、図３０は、磁気ディスク２００の積層構成を表す。

磁気ディスク２００は、図３０に示すように、基板２０１と、記録磁性層２０２と、軟磁性層２０３と、中間層２０４と、保護膜２０５とからなる積層構造を有する。記録磁性層２０２は、垂直磁化膜であり、磁化方向の変化として所定の信号が記録され得る部位である。このような記録磁性層２０２は、磁気ディスク２００の記録面を構成する。軟磁性層２０３は軟磁性材料よりなる。中間層２０４は、非磁性材料よりなり、記録磁性層２０２および軟磁性層２０３を磁性的に分離するためのものである。保護膜２０５は、記録磁性層２０２を外界から物理的および化学的に保護しつつ、記録再生用の磁気ヘッドに対する媒体表面の潤滑性を確保するためのものである。

磁気ディスク２００の記録面を構成する記録磁性層２０２には、図２９に示すような同心円状の複数の情報トラック２１０（一部省略）が磁気的に構成されている。また、記録磁性層２０２は、その膜面広がり方向において、サーボゾーン２０２Ａおよびユーザデータゾーン２０２Ｂに区画されている。サーボゾーン２０２Ａは、磁気ディスク２００に対する記録再生用の磁気ヘッドを目標の情報トラック２１０に対して位置決め制御するための所定のサーボ情報が記録されている領域である。ユーザデータゾーン２０２Ｂは、各情報トラック２１０内にてユーザデータが書換え可能に記録され得る部位である。

このような磁気ディスク２００の製造においては、まず、基板２０１上に、軟磁性層２０３、中間層２０４、記録磁性層２０２、および保護膜２０５が、順次形成される。これらは、各々、例えばスパッタリング法により所定材料を成膜することにより形成される。次に、記録磁性層２０２に対してサーボ情報が記録されてサーボゾーン２０２Ａが形成される。

サーボ情報の記録手法の一つとして、磁気転写法が知られている。図３１は、磁気ディスク２００の製造過程において、従来の磁気転写法によりサーボ情報を記録する場合の、一連の工程を表す。本方法においては、まず、図３１（ａ）に示すように、磁気ディスク２００の記録磁性層２０２を初期磁化する。具体的には、所定方向に初期磁化磁界Ｈ１を印加することにより、記録磁性層２０２の磁化方向を一様に揃える。図の簡潔化の観点より、図３１においては、磁気記録媒体２００について、基板２０１および記録磁性層２０２以外を省略する。次に、図３１（ｂ）に示すように、磁気転写用のマスター担体３００と磁気ディスク２００とを重ね合わせる。マスター担体３００は、基板３０１と、この上にパターン形成された磁性材パターン３０２とを有する。磁性材パターン３０２は、高透磁率を有する例えば軟磁性材料からなる。また、磁性材パターン３０２は、磁気ディスク
２００の記録磁性層２０２に記録すべき所望のサーボ情報に対応するパターン形状を有する。次に、図３１（ｃ）に示すように、磁性材パターン３０２のパターン形状を記録磁性層２０２に対して磁気的に転写する。具体的には、上述の初期磁化磁界Ｈ１とは逆方向の転写磁界Ｈ２をマスター担体３００とともに磁気ディスク２００に印加することにより、記録磁性層２０２において磁性材パターン３０２に対向する箇所の磁化方向を反転させる。このようにして、記録磁性層２０２においてサーボ情報が記録されてサーボゾーン２０２Ａが形成される。従来の磁気転写法については、例えば下記の特許文献１や特許文献２に記載されている。

特開平１０−３２０７６８号公報 特開２００３−１７３５１３号公報

サーボ情報が記録されてサーボゾーン２０２Ａが形成された後、磁気ディスク２００に対してユーザデータを記録することが可能となる。具体的には、ライトヘッド素子を具備する所定の磁気ヘッドを、サーボ情報を利用して磁気ディスク２００の記録面（記録磁性層２０２）に対して位置決め制御しつつ、当該磁気ヘッドにより、サーボゾーン２０２Ａ間のユーザデータゾーン２０２Ｂに対して所定のデータを記録することが可能となる。

上述の従来の磁気転写法によりサーボ情報が書き込まれた磁気ディスク２００のユーザデータゾーン２０２Ｂに対し、ユーザデータを記録して情報トラック２１０を形成すると、図３２に示すように、ユーザデータゾーン２０２Ｂには、磁化方向が一様に揃っているトラック間部２１１が生ずる。図３２は、磁気ディスク２００の径方向の、即ち、情報トラック２１０を横断する方向の、磁気ディスク２００の部分断面を表す。ユーザデータにより構成される各情報トラック２１０の間では、記録磁性層２０２の磁化方向は、上述の磁気転写法における初期磁化の方向に維持されているのである。トラック間部２１１が一様に初期磁化方向に磁化されているため、媒体表面付近には、当該トラック間部２１１に由来する比較的に強い磁界が形成される。磁気ディスク２００の再生時には、この磁界は、非信号磁界（外乱磁界）として記録再生用の磁気ヘッドＲＷに作用し、当該磁気ヘッドＲＷの読み取り動作に影響を与える。具体的には、トラック間部２１１に由来する非信号磁界は、磁気ヘッドＲＷに搭載されている読取り用のリードヘッド素子に作用し、当該リードヘッド素子から出力される再生信号に影響を与えてしまう。磁気ディスク２００においては、このようにトラック間部２１１に由来する非信号磁界が強いために、良好な再生特性を得るのが困難である。

本発明は、このような事情の下で考え出されたものであって、再生時においてリードヘッド素子に対して作用する非信号磁界の弱い垂直磁気記録媒体を製造するのに適した磁気転写用マスター担体および磁気記録媒体フォーマット方法を提供することを、目的とする。

本発明の第１の側面によると、垂直磁気異方性を有する記録磁性層を備える磁気記録媒体に対して磁気転写法により書き込みを行うための磁気転写用マスター担体が提供される。この磁気転写用マスター担体は、記録磁性層にサーボ情報を記録するための第１磁性材パターンを有するサーボゾーン対応部と、記録磁性層にダミー信号を形成するための第２磁性材パターンを有するユーザデータゾーン対応部と、を備える。本発明において、サーボゾーン対応部とは、磁気記録媒体の記録磁性層ないし記録面においてサーボゾーンへと形成される箇所に対向するための部位であり、ユーザデータゾーン対応部とは、記録磁性層ないし記録面においてユーザデータゾーンへと形成される箇所に対向するための部位で
ある。また、磁性材パターンは、磁性材料よりなるパターン形状であって、表面が平坦な基材上に磁性材料を成膜した後に当該磁性膜をパターニングして形成される磁性膜パターンや、表面に所定の凹凸形状を有する基材上に磁性材料を成膜した場合に当該磁性膜に生ずる凸パターンを、含む。

このような磁気転写用マスター担体は、垂直磁気異方性を有する記録磁性層を備える磁気記録媒体をフォーマットする際に使用することができる。本磁気転写用マスター担体を使用して行う垂直磁気記録媒体のフォーマット方法は、例えば初期磁化工程と、重ね合わせ工程と、転写工程とを含む。初期磁化工程では、磁気記録媒体に対して第１方向に磁界を印加することによって記録磁性層を第１方向に初期磁化する。重ね合わせ工程では、上述の構成を有する磁気転写用マスター担体と磁気記録媒体とを、第１および第２磁性材パターンと記録磁性層とが対向するように重ね合わせる。転写工程では、磁気転写用マスター担体とともに磁気記録媒体に対して第１方向とは逆の第２方向に転写磁界を印加することにより、記録磁性層において第１磁性材パターンに対向する箇所を第２方向に磁化して当該記録磁性層にサーボ情報を記録し、且つ、記録磁性層において第２磁性材パターンに対向する箇所を第２方向に磁化して当該記録磁性層にダミー信号を形成する。

このようなフォーマット方法によると、垂直磁気記録媒体の記録磁性層におけるユーザデータゾーンにて、磁気転写用マスター担体の第２磁性材パターンに対応するダミー信号が形成されるので、ユーザデータゾーンの磁化方向が非一様である垂直磁気記録媒体を得ることができる。第２磁性材パターンを適宜に設定することにより、ユーザデータゾーンに対して所望のダミー信号を形成することができる。ダミー信号は、例えば、所定の細かさの非周期的なランダムパターンで形成してもよいし、所定の小周期の周期的なパターンで形成してもよい。このようなユーザデータゾーンに対して磁気ヘッドによりデータを記録すると、ユーザデータゾーンにおける情報トラックと情報トラックの間には、磁化方向が非一様である部位が生ずることとなる。トラック間部の磁化状態が非一様であるため、トラック間部に由来して媒体表面付近に形成される非信号磁界は、トラック間部の磁化方向が一様である例えば上述の磁気ディスク２００の表面付近に形成される非信号磁界よりも、弱い。このように、本発明の第１の側面の磁気転写用マスター担体を使用して上述のようにフォーマットされた垂直磁気記録媒体においては、再生時にリードヘッド素子に対して作用する非信号磁界は弱いのである。再生時にリードヘッド素子に対して作用する非信号磁界が弱い垂直磁気記録媒体は、良好な再生特性を得るうえで好適である。

本発明の第１の側面において、好ましくは、磁気記録媒体は磁気ディスクであり、第２磁性材パターンは複数の線パターンを含む。この場合、複数の線パターンは、磁気ディスクの周方向に対応する方向に各々が延び、且つ、磁気ディスクの径方向に対応する方向に並列する。これに代えて、複数の線パターンは、磁気ディスクの径方向に対応する方向に各々が延び、且つ、磁気ディスクの周方向に対応する方向に並列してもよい。これらのような構成は、周期的なダミー信号を形成するうえで好適である。

本発明の第２の側面によると、垂直磁気異方性を有する記録磁性層を備える磁気記録媒体をフォーマットするための方法が提供される。この方法は、初期磁化工程と、重ね合わせ工程と、転写工程と、光照射工程とを含む。初期磁化工程では、記録磁性層に対して第１方向に磁界を印加することによって当該記録磁性層を第１方向に初期磁化する。重ね合わせ工程では、サーボゾーン対応部およびユーザデータゾーン対応部を含み、当該サーボゾーン対応部およびユーザデータゾーン対応部にわたって広がる第１面ならびに当該第１面とは反対の第２面を有する透光性基材と、サーボゾーン対応部およびユーザデータゾーン対応部にわたって透光性基材における第１面の側に設けられ且つサーボ情報を記録するための凸パターンをサーボゾーン対応部において有する磁性材層と、を備える磁気転写用マスター担体と、磁気記録媒体とを、磁性材層および記録磁性層が対向するように重ね合
わせる。転写工程では、磁気転写用マスター担体とともに磁気記録媒体に対して第１方向とは逆の第２方向に転写磁界を印加することにより、記録磁性層において凸パターンに対向する箇所を第２方向に磁化して当該記録磁性層にサーボ情報を記録する。本工程にて、サーボ情報が記録されたサーボゾーンと、ユーザデータゾーンとが、記録磁性層に生ずることとなる。光照射工程では、透光性基材を介して磁性材層に向けて光を照射することにより、記録磁性層においてユーザデータゾーン対応部に対向する箇所（ユーザデータゾーン）を、記録磁性層においてサーボゾーン対応部に対向する箇所（サーボゾーン）よりも高温に加熱する。本工程では、光照射により磁性材層が加熱され、当該磁性材層から記録磁性層に熱が伝達される。

このようなフォーマット方法によると、光照射工程において、光の照射強度を適宜調節することによって、記録磁性層におけるサーボゾーンの磁化方向を変化させずに（即ち、記録磁性層に既に記録されているサーボ情報を変化させずに）、記録磁性層におけるユーザデータゾーンに適度な熱揺らぎを生じさせて当該ユーザデータゾーンの磁化方向を非一様化することができる。このように磁化方向が非一様化されたユーザデータゾーンに対して磁気ヘッドによりデータを記録すると、ユーザデータゾーンにおける情報トラックと情報トラックの間には、磁化方向が非一様である部位が生ずることとなる。トラック間部の磁化状態が非一様であるため、トラック間部に由来して媒体表面付近に形成される非信号磁界は、トラック間部の磁化方向が一様である例えば上述の磁気ディスク２００の表面付近に形成される非信号磁界よりも、弱い。このように、本発明の第２の側面によると、再生時にリードヘッド素子に対して作用する非信号磁界の弱い垂直磁気記録媒体を得ることができる。このような垂直磁気記録媒体は、良好な再生特性を得るうえで好適である。

本発明の第２の側面において、好ましくは、転写工程では、記録磁性層においてユーザデータゾーン対応部に対向する箇所の磁化方向を第２方向に反転させ、且つ、光照射工程では、転写磁界より低強度の磁界を第１方向に印加しつつ光を照射する。このような構成は、光照射工程における光照射強度を低減するうえで好適である。

好ましくは、透光性基材の第１面は、サーボ情報に対応する凸パターンをサーボゾーン対応部において有する。この場合、凸パターンの最短ピッチをＰとし、透光性基材の屈折率をｎとし、光照射工程における照射光の波長をλとすると、当該λは、λ≦Ｐ×ｎを満たすのが好ましい。すなわち、そのような波長λの光を出射し得る光源を採用するのが好ましい。ここで、凸パターンの最短ピッチＰは、サーボ情報の最短ピッチに相当する。これらの構成によると、光照射工程において、透光性基材のサーボゾーン対応部では第１面にて照射光の回折現象が生じ、照射光の一部は、透光性基材の第１面から第２面の側へと反射する。そのため、光照射工程において、サーボゾーン対応部における磁性材層は、ユーザデータゾーン対応部における磁性材層よりも、昇温しにくい。したがって、これらの構成は、光照射工程にて、記録磁性層においてユーザデータゾーン対応部に対向する箇所を、記録磁性層においてサーボゾーン対応部に対向する箇所よりも高温に加熱するうえで、好適である。

好ましくは、磁気転写用マスター担体は、更に、サーボ情報に対応するパターン形状を有してサーボゾーン対応部における透光性基材および磁性材層の間に設けられた遮光層を備える。この場合、好ましくは、磁気転写用マスター担体は、更に、遮光層および磁性材層の間に設けらた断熱層を備える。これらの構成によると、光照射工程において、サーボゾーン対応部における磁性材層は、ユーザデータゾーン対応部における磁性材層よりも、昇温しにくい。したがって、これらの構成は、光照射工程にて、記録磁性層においてユーザデータゾーン対応部に対向する箇所を、記録磁性層においてサーボゾーン対応部に対向する箇所よりも高温に加熱するうえで、好適である。

好ましくは、磁気転写用マスター担体は、更に、ユーザデータゾーン対応部における透光性基材および磁性材層の間に設けられた低反射層を更に備える。当該低反射層は、照射光が基材の第２面の側に反射されるのを低減する機能を有する。このような構成によると、光照射工程において、透光性基材のユーザデータゾーン対応部では、低反射層にて照射光は反射されにくく、磁性材層に対して光エネルギが効率よく伝わり当該磁性材層は加熱されやすい。したがって、このような構成は、光照射工程にて、記録磁性層においてユーザデータゾーン対応部に対向する箇所を、記録磁性層においてサーボゾーン対応部に対向する箇所よりも高温に加熱するうえで好適である。

本発明の第３の側面によると、垂直磁気異方性を有する記録磁性層を備える磁気記録媒体に対して磁気転写法によりサーボ情報を書き込むための、サーボゾーン対応部とユーザデータゾーン対応部とを含む磁気転写用マスター担体が提供される。この磁気転写用マスター担体は、サーボゾーン対応部およびユーザデータゾーン対応部にわたって広がり且つサーボゾーン対応部においてサーボ情報に対応する凸パターンを有する第１面、並びに当該第１面とは反対の第２面、を有する透光性基材と、サーボゾーン対応部およびユーザデータゾーン対応部にわたって透光性基材における第１面の側に設けられ、且つ、サーボゾーン対応部においてサーボ情報に対応する凸パターンを有する、磁性材層と、を備える。このような構成の磁気転写用マスター担体は、本発明の第２の側面のフォーマット方法における磁気転写用マスター担体として使用することができる。

本発明の第３の側面において、好ましくは、第１面は、ユーザデータゾーン対応部におけるサーボゾーン対応部との境界において熱緩衝用の凸パターンを有する。このような構成は、例えば上述の第２の側面の磁気記録媒体フォーマット方法での光照射工程において、ユーザデータゾーンからサーボゾーンへの熱移動を抑制するうえで好適である。

好ましくは、ユーザデータゾーン対応部における透光性基材および磁性材層の間に介在する低反射層を更に備える。このような構成は、例えば上述の第２の側面の磁気記録媒体フォーマット方法の光照射工程において、ユーザデータゾーンをサーボゾーンよりも高温に加熱するうえで好適である。

本発明の第４の側面によると、垂直磁気異方性を有する記録磁性層を備える磁気記録媒体に対して磁気転写法によりサーボ情報を書き込むための、サーボゾーン対応部とユーザデータゾーン対応部とを含む磁気転写用マスター担体が提供される。この磁気転写用マスター担体は、サーボゾーン対応部およびユーザデータゾーン対応部にわたって広がる第１面、並びに当該第１面とは反対の第２面、を有する透光性基材と、サーボゾーン対応部およびユーザデータゾーン対応部にわたって透光性基材における第１面の側に設けられ、且つ、サーボゾーン対応部においてサーボ情報に対応する凸パターンを有する、磁性材層と、ユーザデータゾーン対応部における透光性基材および磁性材層の間に介在する低反射層と、を備える。このような構成の磁気転写用マスター担体は、本発明の第２の側面のフォーマット方法における磁気転写用マスター担体として使用することができる。

本発明の第５の側面によると、垂直磁気異方性を有する記録磁性層を備える磁気記録媒体に対して磁気転写法によりサーボ情報を書き込むための、サーボゾーン対応部とユーザデータゾーン対応部とを含む磁気転写用マスター担体が提供される。この磁気転写用マスター担体は、サーボゾーン対応部およびユーザデータゾーン対応部にわたって広がる第１面、並びに当該第１面とは反対の第２面、を有する透光性基材と、サーボゾーン対応部およびユーザデータゾーン対応部にわたって透光性基材における第１面の側に設けられ、且つ、サーボゾーン対応部においてサーボ情報に対応する凸パターンを有する、磁性材層と、サーボ情報に対応するパターン形状を有してサーボゾーン対応部における透光性基材および磁性材層の間に設けられた遮光層と、を備える。このような構成の磁気転写用マスタ
ー担体は、本発明の第２の側面のフォーマット方法における磁気転写用マスター担体として使用することができる。

本発明の第５の側面において、好ましくは、遮光層および磁性材層の間に設けられた断熱層を更に備える。このような構成は、例えば上述の第２の側面の磁気記録媒体フォーマット方法の光照射工程において、ユーザデータゾーンをサーボゾーンよりも高温に加熱するうえで好適である。

図１〜図３は、本発明の第１の実施形態に係る磁気転写用のマスター担体Ｘ１を表す。図１は、マスター担体Ｘ１の平面図であり、図２は、図１の部分拡大図である。また、図３は、マスター担体Ｘ１の部分断面図である。

マスター担体Ｘ１は、基材１１、磁性材パターン１２（図１，２では省略）、および磁性材パターン１３（図１では省略）を有し、図１に示すように、複数のサーボゾーン対応部１０Ａおよび複数のユーザデータゾーン対応部１０Ｂに区画されている。

基材１１は、マスター担体Ｘ１に要求される剛性を確保するためのものであり、作製目的の磁気ディスクより大きなディスク形状を有する。このような基材１１は、例えば、ＳｉやＮｉよりなる。

各サーボゾーン対応部１０Ａは、作製目的の磁気ディスクのサーボゾーンを形成するための部位である。サーボゾーン対応部１０Ａでは、図３に示すように、基材１１上に磁性材パターン１２が設けられている。磁性材パターン１２は、磁気ディスクに書き込むべき所定のサーボ情報に対応するパターン形状を有し、軟磁性材料または強磁性材料よりなる。強磁性材料よりなる場合、磁性材パターン１２は、垂直磁気異方性を有し、マスター担体Ｘ１の厚み方向に磁化されている。軟磁性材料としては、例えば、パーマロイ、Ｎｉ、およびＦｅＣｏＮｉを採用することができる。強磁性材料としては、例えば、ＦｅＣｏおよびＣｏＣｒを採用することができる。サーボ情報には、例えば、サーボクロック、アドレスマーク、および位置検出マークが含まれる。サーボ情報に対応するパターン形状とは、本発明では、サーボ情報を形成するためのポジパターンの形状、または、サーボ情報を形成するためのネガパターンの形状を意味する。このような磁性材パターン１２の厚さは、例えば５０〜２００ｎｍである。

各ユーザデータゾーン対応部１０Ｂは、作製目的の磁気ディスクのサーボゾーン間に形成されるユーザデータゾーンに対応する部位である。ユーザデータゾーン対応部１０Ｂでは、図３に示すように基材１１上に磁性材パターン１３が設けられている。磁性材パターン１３は、磁気ディスクに書き込むべき所定のダミー信号に対応するパターン形状を有し、軟磁性材料または強磁性材料よりなる。強磁性材料よりなる場合、磁性材パターン１３は、垂直磁気異方性を有し、マスター担体Ｘ１の厚み方向に磁化されている。軟磁性材料としては、例えば、パーマロイ、Ｎｉ、およびＦｅＣｏＮｉを採用することができる。強磁性材料としては、例えば、ＦｅＣｏおよびＣｏＣｒを採用することができる。本実施形態では、磁性材パターン１３は、図２に示すようなランダムパターンである。ダミー信号とは、作製目的の磁気ディスクにおけるユーザデータゾーンの磁化方向を非一様化するために当該ユーザデータゾーンに形成される磁化パターンである。ダミー信号に対応するパターン形状とは、本発明では、ダミー信号を形成するためのポジパターンの形状、または、ダミー信号を形成するためのネガパターンの形状を意味する。磁性材パターン１３の細密性を調節することによって、磁気ディスクに形成されるダミー信号の細密性を調整することができる。このような磁性材パターン１３の厚さは、例えば５０〜２００ｎｍである。

図４は、磁性材パターン１３の変形例である磁性材パターン１３ａ，１３ｂを表す。図４（ａ）に示す磁性材パターン１３ａは、磁気ディスクの周方向に対応する方向に各々が延び且つ磁気ディスクの径方向に対応する方向に並列する複数の線パターンからなる。図４（ｂ）に示す磁性材パターン１３ｂは、磁気ディスクの径方向に対応する方向に各々が延び且つ磁気ディスクの周方向に対応する方向に並列する複数の線パターンからなる。これらのような構成は、周期的なダミー信号を形成するうえで好適である。磁性材パターン１３ａの複数の線パターンの並列ピッチや、磁性材パターン１３ｂの複数の線パターンの並列ピッチを、調節することによって、磁気ディスクに形成されるダミー信号の細密性を調整することができる。

図５は、マスター担体Ｘ１の製造方法の一例を表す。本方法においては、まず、図５（ａ）に示すように、スピンコーティング法により基材１１上にレジスト膜１５’を形成する。レジスト膜１５’は、電子線レジスト膜またはフォトレジスト膜である。次に、図５（ｂ）に示すように、レジスト膜１５’に対して露光処理および現像処理を施すことにより、レジストパターン１５を形成する。次に、例えばスパッタリング法により所定の磁性材料を成膜することによって、図５（ｃ）に示すように、基材１１上およびレジストパターン１５上にわたって磁性材料膜１６を形成する。次に、例えば所定の溶剤を作用させてレジストパターン１５を溶解することによって、図５（ｄ）に示すように、レジストパターン１５およびその上に存在する磁性材料膜１６を除去する。以上のようにして、基材１１上に磁性材パターン１２，１３を形成してマスター担体Ｘ１を製造することができる。

図６は、マスター担体Ｘ１を使用して行う磁気記録媒体１００のフォーマット方法を表す。磁気記録媒体１００は、図７に示すように、基板１０１と、記録磁性層１０２と、軟磁性層１０３と、中間層１０４と、保護膜１０５とからなる積層構造を有し、垂直磁気記録方式の磁気ディスクとして構成されている。図の簡潔化の観点より、図６においては、磁気記録媒体１００について、基板１０１および記録磁性層１０２以外を省略する。記録磁性層１０２は、この層を構成する磁性膜の膜面に対して垂直な方向に磁化容易軸を有して磁化された垂直磁化膜であり、磁化方向の変化として所定の信号が記録され得る部位である。このような記録磁性層１０２は、磁気記録媒体１００の記録面を構成する。軟磁性層１０３は、高透磁率である軟磁性材料よりなる。中間層１０４は、非磁性材料よりなり、記録磁性層１０２および軟磁性層１０３を磁性的に分離するためのものである。保護膜１０５は、記録磁性層１０２を外界から物理的および化学的に保護しつつ、磁気ヘッドに対する媒体表面の潤滑性を確保するためのものである。このような磁気記録媒体１００は、例えば、ハードディスク装置内に搭載される媒体として利用される。

本フォーマット方法においては、まず、初期磁化工程において、図６（ａ）に示すように、磁気記録媒体１００に対して第１方向に初期磁化磁界Ｈ１を印加することによって記録磁性層１０２を第１方向に初期磁化する。初期磁化磁界Ｈ１は例えば３０００〜７０００Ｏｅである。次に、重ね合わせ工程において、図６（ｂ）に示すように、マスター担体Ｘ１と磁気記録媒体１００とを、磁性材パターン１２，１３と記録磁性層１０２とが対向するように重ね合わせる。次に、転写工程において、図６（ｃ）に示すように、マスター担体Ｘ１とともに磁気記録媒体１００に対して第１方向とは逆の第２方向に転写磁界Ｈ２を印加することによって、記録磁性層１０２において磁性材パターン１２に対向する箇所を第２方向に磁化して記録磁性層１０２にサーボ情報を記録し、且つ、記録磁性層１０２において磁性材パターン１３に対向する箇所を第２方向に磁化して記録磁性層１０２にダミー信号を形成する。転写磁界Ｈ２は例えば３０００〜７０００Ｏｅである。

図８および図９は、このようなフォーマット過程を経た磁気記録媒体１００を表す。図８は、磁気記録媒体１００の平面図であり、図９は、磁気記録媒体１００の部分断面図で
あって、記録磁性層１０２におけるユーザデータゾーン１０２Ｂの磁化状態を表す。磁気記録媒体１００の記録磁性層１０２ないし記録面には、図８に示すように、サーボ情報（図示略）が記録されているサーボゾーン１０２Ａ、および、ダミー信号（図示略）が形成されているユーザデータゾーン１０２Ｂが形成されている。磁気記録媒体１００では、図９に示すように、ユーザデータゾーン１０２Ｂの磁化方向は、非一様である。

図１０は、磁気記録媒体１００に対してユーザデータを記録した後の状態を表す。所定のライトヘッド素子を備える磁気ヘッド（図示略）により、記録磁性層１０２のユーザデータゾーン１０２Ｂに所定のデータを記録して情報トラック１１０を形成すると、ユーザデータゾーン１０２Ｂにおける情報トラック１１０と情報トラック１１０の間には、磁化方向が非一様であるトラック間部１１１が生ずることとなる。トラック間部１１１の磁化状態が非一様であるため、トラック間部１１１に由来して媒体表面付近に形成される非信号磁界は、トラック間部の磁化方向が一様である例えば上述の磁気ディスク２００の表面付近に形成される非信号磁界よりも、弱い。このように、マスター担体Ｘ１を使用して行う上述のようなフォーマット方法を採用すると、再生時にリードヘッド素子に対して作用する非信号磁界の弱い垂直磁気記録媒体を得ることができるのである。このような垂直磁気記録媒体は、良好な再生特性を得るうえで好適である。

図１１および図１２は、本発明の第２の実施形態に係る磁気転写用のマスター担体Ｘ２を表す。図１１は、マスター担体Ｘ２の平面図であり、図１２は、マスター担体Ｘ２の部分断面図である。

マスター担体Ｘ２は、図１１に示すように、複数のサーボゾーン対応部２０Ａおよび複数のユーザデータゾーン対応部２０Ｂに区画されており、図１２に示すように、基材２１および磁性材層２２よりなる積層構造を有する。各サーボゾーン対応部２０Ａは、作製目的の磁気ディスクのサーボゾーンを形成するための部位である。各ユーザデータゾーン対応部２０Ｂは、作製目的の磁気ディスクのサーボゾーン間に形成されるユーザデータゾーンに対応する部位である。

基材２１は、作製目的の磁気ディスクより大きなディスク形状を有する透明基板であり、第１面２１Ａおよび第２面２１Ｂを有する。第１および第２面２１Ａ，２１Ｂは、サーボゾーン対応部２０Ａおよびユーザデータゾーン対応部２０Ｂにわたる。第１面２１Ａは、サーボゾーン対応部２０Ａにおいて、凸パターン２１ａを有する。凸パターン２１ａは、磁気ディスクに書き込むべき所定のサーボ情報に対応するパターン形状を有する。凸パターン２１ａの高さは例えば１０〜１１０ｎｍである。また、基材２１は例えばＳｉＯ₂
（屈折率：約１．５）よりなる。マスター担体Ｘ２を使用して行う後述のフォーマット方法の光照射工程における照射光の波長をλとし、基材２１の屈折率をｎとすると、凸パターン２１ａの高さは、当該光照射工程での反射光の強度向上の観点より、好ましくはλ（２ｋ−１）／（８ｎ）〔ｋ：正の整数〕である。したがって、λ＝２６６［ｎｍ］（ＹＡＧの４倍波のレーザの波長）であり且つｎ＝１．５である場合、凸パターン２１ａの高さは、好ましくは例えば６６．５ｎｍ（ｋ＝２）である。

磁性材層２２は、軟磁性材料または強磁性材料よりなる。強磁性材料よりなる場合、磁性材層２２は、この層を構成する磁性膜の膜面に対して垂直な方向に磁化容易軸を有して磁化された垂直磁化膜である。軟磁性材料としては、例えば、パーマロイ、Ｎｉ、およびＦｅＣｏＮｉを採用することができる。強磁性材料としては、例えば、ＦｅＣｏおよびＣｏＣｒを採用することができる。また、磁性材層２２は、サーボゾーン対応部２０Ａにて凸パターン２２ａを有し、ユーザデータゾーン対応部２０Ｂでは平坦である。凸パターン２２ａは、磁気ディスクに書き込むべき所定のサーボ情報に対応するパターン形状を有する。磁性材層２２の厚さ、および、凸パターン２２ａの高さは、各々、例えば５０〜２０
０ｎｍである。

図１３は、マスター担体Ｘ２の製造方法の一例を表す。本方法においては、まず、図１３（ａ）に示すように、スピンコーティング法により基材２１の第１面２１Ａ上にレジスト膜２５’を形成する。レジスト膜２５’は、電子線レジスト膜またはフォトレジスト膜である。次に、図１３（ｂ）に示すように、レジスト膜２５’に対して露光処理および現像処理を施すことにより、レジストパターン２５を形成する。次に、図１３（ｃ）に示すように、レジストパターン２５をマスクとして基材２１に対してエッチング処理を施すことにより、基材２１の第１面２１Ａに凸パターン２１ａを形成する。エッチング手法としては、例えば反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）を採用することができる。次に、レジストパターン２５を除去した後、図１３（ｄ）に示すように磁性材層２２を形成する。具体的には、例えば所定の溶剤を作用させることによってレジストパターン２５を除去した後、例えばスパッタリング法により基材２１上に所定の磁性材料を成膜することによって、磁性材層２２を形成する。磁性材層２２には、基材２１の凸パターン２１ａの凹凸形状に対応して凸パターン２２ａが形成される。以上のようにして、マスター担体Ｘ２を製造することができる。

図１４は、マスター担体Ｘ２を使用して行う磁気記録媒体１００（図７に示す）のフォーマット方法を表す。本フォーマット方法においては、まず、初期磁化工程において、図１４（ａ）に示すように、磁気記録媒体１００に対して第１方向に初期磁化磁界Ｈ１を印加することによって記録磁性層１０２を第１方向に初期磁化する。図の簡潔化の観点より、図１４においては、磁気記録媒体１００について、基板１０１および記録磁性層１０２以外を省略する。次に、重ね合わせ工程において、図１４（ｂ）に示すように、マスター担体Ｘ２と磁気記録媒体１００とを、磁性材層２２の凸パターン２２ａと記録磁性層１０２とが対向するように重ね合わせる。次に、転写工程において、図１４（ｃ）に示すように、マスター担体Ｘ２とともに磁気記録媒体１００に対して第１方向とは逆の第２方向に転写磁界Ｈ２を印加することによって、記録磁性層１０２において凸パターン２２ａに対向する箇所を第２方向に磁化して記録磁性層１０２にサーボ情報を記録し、且つ、記録磁性層１０２においてユーザデータゾーン対応部２０Ｂに対向する箇所を第２方向に磁化する。本工程を経ることによって、磁気記録媒体１００にサーボゾーン１０２Ａおよびユーザデータゾーン１０２Ｂが生ずることとなる。次に、マスター担体Ｘ２の透明な基材２１の側から磁性材層２２に向けて光（レーザ）を照射することによって、図１４（ｄ）に示すように、磁気記録媒体１００のユーザデータゾーン１０２Ｂの磁化方向を非一様化する。

マスター担体Ｘ２の基材２１側から磁性材層２２に向けて光照射を行うと、サーボゾーン対応部２０Ａでは、凸パターン２１ａの凹凸形状に起因して第１面２１Ａにて照射光の回折現象が生じ、照射光の一部は、基材２１の第２面２１Ｂの側へ反射する。ユーザデータゾーン対応部２０Ｂでは、そのような回折現象は生じない。そのため、磁性材層２２は、サーボゾーン対応部２０Ａよりもユーザデータゾーン対応部２０Ｂにて、多くの光エネルギを吸収して高温となる。磁性材層２２に蓄積された熱エネルギは、磁気記録媒体１００の記録磁性層１０２に伝達され、記録磁性層１０２におけるユーザデータゾーン１０２Ｂは、サーボゾーン１０２Ａよりも、昇温する。その結果、ユーザデータゾーン１０２Ｂの各所にて磁化反転が生じ、ユーザデータゾーン１０２Ｂの磁化方向が非一様化することとなる。本工程では、既に記録されているサーボ情報が破壊されないようにサーボゾーン１０２Ａでの昇温を抑えつつ、ユーザデータゾーン１０２Ｂの第２方向の一様磁化を熱揺らぎにより撹乱させて当該ユーザデータゾーン１０２Ｂにて非一様磁化が生ずるように、照射光の強度および波長を調整する。また、本工程では、光照射ととともに、転写磁界Ｈ２より弱い磁界を第１方向に印加してもよい。このような補助的な外部磁界の印加は、より低強度の光照射によってユーザデータゾーン１０２Ｂにて磁化反転を生じさせるうえで
、好適である。

基材２１における凸パターン２１ａの凹凸周期（例えば最短ピッチ）をＰとし、照射レーザの波長をλとし、基材２１の屈折率をｎとし、回折光の法線（基材２１の厚み方向に平行な仮想線）とのなす角をθとすると、上述の光照射工程において、サーボゾーン対応部２０Ａでは、（Ｐ×ｎ）ｓｉｎθ＝m×λ〔ｍ：正の整数〕の条件式に従って回折現象
が生ずる。（Ｐ×ｎ）ｓｉｎθはいわゆる光路差に相当し、波長λのｍ倍が当該光路差に等しい箇所に回折光が出現するのである。また、ｓｉｎθは１以下であり且つｍは１以上であるため、上記条件式から、λ≦Ｐ×ｎの場合に回折現象が生じ得ることが理解できよう。したがって、上述の光照射工程では、少なくともλ≦Ｐ×ｎを満たす波長λの光（レーザ）を採用する必要がある。照射レーザとしては、凹凸周期Ｐに応じて、例えば、ＹＡＧの４倍波のレーザ（波長２６６ｎｍ）、ＡｒのＳＨＧレーザ（波長２４７ｎｍ）、およびＡｒＦ（波長１９３ｎｍ）を採用することができる。加えて、基材２１における凸パターン２１ａの高さの相異によって、回折現象における少なくとも第２面２１Ｂ側への反射光の強度は変化し、且つ、当該高さがλ（２ｋ−１）／（８ｎ）〔ｋ：正の整数〕に等しい場合に高い反射光強度が得られることが知られているところ、本実施形態においては、凸パターン２１ａの高さはλ（２ｋ−１）／（８ｎ）〔ｋ：正の整数〕であるのが好ましい。

このようなフォーマット過程を経た磁気記録媒体１００の記録磁性層１０２ないし記録面には、例えば図９に示すように、サーボ情報が記録されているサーボゾーン１０２Ａ、および、磁化方向が非一様であるユーザデータゾーン１０２Ｂが形成される。したがって、所定のライトヘッド素子を備える磁気ヘッド（図示略）により、記録磁性層１０２のユーザデータゾーン１０２Ｂに所定のデータを記録して情報トラック１１０を形成すると、ユーザデータゾーン１０２Ｂにおける情報トラック１１０と情報トラック１１０の間には、例えば図１０に示すように、磁化方向が非一様であるトラック間部１１１が生ずることとなる。トラック間部１１１の磁化状態が非一様であるため、トラック間部１１１に由来して媒体表面付近に形成される非信号磁界は、トラック間部の磁化方向が一様である例えば上述の磁気ディスク２００の表面付近に形成される非信号磁界よりも、弱い。このように、マスター担体Ｘ２を使用して行う上述のようなフォーマット方法を採用すると、再生時にリードヘッド素子に対して作用する非信号磁界の弱い垂直磁気記録媒体を得ることができるのである。このような垂直磁気記録媒体は、良好な再生特性を得るうえで好適である。

マスター担体Ｘ２においては、図１５に示すように、ユーザデータゾーン対応部２０Ｂにおけるサーボゾーン対応部２０Ａとの境界に、熱緩衝領域２０Ｂ’を設けてもよい。熱緩衝領域２０Ｂ’では、基材２１の第１面２１Ａに熱緩衝パターン２１ｂが設けられている。熱緩衝パターン２１ｂは、基材２１の側から磁性材層２２に向けて光（レーザ）照射が行われる場合に、照射光の回折現象を生じさせるための凹凸形状を有する。マスター担体Ｘ２が熱緩衝領域２０Ｂ’を有する場合、上述のフォーマット方法の光照射工程において、記録磁性層１０２のユーザデータゾーン１０２Ｂにおけるサーボゾーン１０２Ａとの境界の昇温が抑制され、その結果、ユーザデータゾーン１０２Ｂからサーボゾーン１０２Ａへの熱伝達が抑制される。したがって、熱緩衝領域２０Ｂ’を有するマスター担体Ｘ２は、上述の光照射工程にてユーザデータゾーン１０２Ｂをより高温に加熱するうえで好適である。

図１６および図１７は、本発明の第３の実施形態に係る磁気転写用のマスター担体Ｘ３を表す。図１６は、マスター担体Ｘ３の平面図であり、図１７は、マスター担体Ｘ３の部分断面図である。

マスター担体Ｘ３は、図１６に示すように、複数のサーボゾーン対応部３０Ａおよび複数のユーザデータゾーン対応部３０Ｂに区画されており、図１７に示すように、基材３１、低反射層３２、および磁性材層３３よりなる積層構造を有する。各サーボゾーン対応部３０Ａは、作製目的の磁気ディスクのサーボゾーンを形成するための部位である。各ユーザデータゾーン対応部３０Ｂは、作製目的の磁気ディスクのサーボゾーン間に形成されるユーザデータゾーンに対応する部位である。

基材３１は、作製目的の磁気ディスクより大きなディスク形状を有する透明基板であり、第１面３１Ａおよび第２面３１Ｂを有する。第１および第２面３１Ａ，３１Ｂは、サーボゾーン対応部３０Ａおよびユーザデータゾーン対応部３０Ｂにわたる。第１面３１Ａは、サーボゾーン対応部３０Ａにおいて、凸パターン３１ａを有する。凸パターン３１ａは、磁気ディスクに書き込むべき所定のサーボ情報に対応するパターン形状を有する。凸パターン３１ａの高さは例えば５０〜２００ｎｍである。このような基材３１は例えばＳｉＯ₂よりなる。

低反射層３２は、基材３１の側から光（レーザ）が照射された場合に、当該光が基材３１の第２面３１Ｂの側へ反射されるのを低減することによって、光エネルギを磁性材層３３に効率よく伝えるための部位である。このような低反射層３２は例えばＳｉＮ（屈折率：約２）よりなる。マスター担体Ｘ３を使用して行う後述のフォーマット方法の光照射工程における照射光の波長をλとし、低反射層３２の構成材料の屈折率をｎとすると、低反射層３２の厚さは、λ（２ｓ−１）／（４ｎ）〔ｓ：正の整数〕に等しいか又は近似する値に設定する。低反射層３２の厚さは例えば２０〜４５ｎｍである。また、低反射層３２は、サーボゾーン対応部３０Ａにて凸パターン３２ａを有し、ユーザデータゾーン対応部３０Ｂでは平坦である。凸パターン３２ａは、磁気ディスクに書き込むべき所定のサーボ情報に対応するパターン形状を有する。

磁性材層３３は、軟磁性材料または強磁性材料よりなる。強磁性材料よりなる場合、磁性材層３３は、この層を構成する磁性膜の膜面に対して垂直な方向に磁化容易軸を有して磁化された垂直磁化膜である。軟磁性材料としては、例えば、パーマロイ、Ｎｉ、およびＦｅＣｏＮｉを採用することができる。強磁性材料としては、例えば、ＦｅＣｏおよびＣｏＣｒを採用することができる。また、磁性材層３３は、サーボゾーン対応部３０Ａにて凸パターン３３ａを有し、ユーザデータゾーン対応部３０Ｂでは平坦である。凸パターン３３ａは、磁気ディスクに書き込むべき所定のサーボ情報に対応するパターン形状を有する。磁性材層３３の厚さ、および、凸パターン３３ａの高さは、各々、例えば５０〜１５０ｎｍである。

図１８は、マスター担体Ｘ３の製造方法の一例を表す。本方法においては、まず、図１８（ａ）に示すように、基材３１の第１面３１Ａ上にレジストパターン３５を形成する。具体的には、スピンコーティング法により基材３１上にレジスト膜（電子線レジストまたはフォトレジスト）を形成した後、当該レジスト膜に対して露光処理および現像処理を施すことにより、レジストパターン３５を形成する。次に、図１８（ｂ）に示すように、レジストパターン３５をマスクとして基材３１に対してエッチング処理を施すことにより、基材３１の第１面３１Ａに凸パターン３１ａを形成する。次に、レジストパターン３５を除去した後、図１８（ｃ）に示すように低反射層３２を形成する。具体的には、例えば所定の溶剤を作用させることによってレジストパターン３５を除去した後、例えばスパッタリング法により基材３１上に所定材料を成膜することによって、低反射層３２を形成する。低反射層３２には、基材３１の凸パターン３１ａの凹凸形状に対応して凸パターン３２ａが形成される。次に、図１８（ｄ）に示すように磁性材層３３を形成する。具体的には、例えばスパッタリング法により低反射層３２上に所定の磁性材料を成膜することによって、磁性材層３３を形成する。磁性材層３３には、低反射層３２の凸パターン３２ａの凹
凸形状に対応して凸パターン３３ａが形成される。以上のようにして、マスター担体Ｘ３を製造することができる。

図１９は、マスター担体Ｘ３を使用して行う磁気記録媒体１００（図７に示す）のフォーマット方法を表す。本フォーマット方法においては、まず、初期磁化工程において、図１９（ａ）に示すように、磁気記録媒体１００に対して第１方向に初期磁化磁界Ｈ１を印加することによって記録磁性層１０２を第１方向に初期磁化する。図の簡潔化の観点より、図１９においては、磁気記録媒体１００について、基板１０１および記録磁性層１０２以外を省略する。次に、重ね合わせ工程において、図１９（ｂ）に示すように、マスター担体Ｘ３と磁気記録媒体１００とを、磁性材層３３の凸パターン３３ａと記録磁性層１０２とが対向するように重ね合わせる。次に、転写工程において、図１９（ｃ）に示すように、マスター担体Ｘ３とともに磁気記録媒体１００に対して第１方向とは逆の第２方向に転写磁界Ｈ２を印加することによって、記録磁性層１０２において凸パターン３３ａに対向する箇所を第２方向に磁化して記録磁性層１０２にサーボ情報を記録し、且つ、記録磁性層１０２においてユーザデータゾーン対応部３０Ｂに対向する箇所を第２方向に磁化する。本工程を経ることによって、磁気記録媒体１００にサーボゾーン１０２Ａおよびユーザデータゾーン１０２Ｂが生ずることとなる。次に、マスター担体Ｘ３の透明な基材３１の側から磁性材層３３に向けて光（レーザ）を照射することによって、図１９（ｄ）に示すように、磁気記録媒体１００のユーザデータゾーン１０２Ｂの磁化方向を非一様化する。

マスター担体Ｘ３の基材３１側から磁性材層３３に向けて光照射を行うと、サーボゾーン対応部３０Ａでは、凸パターン３１ａの凹凸形状に起因して第１面３０Ａにて回折現象が生ずる。凸パターン３１ａにて回折現象を生じさせるための条件については、第２の実施形態における凸パターン２１ａにて回折現象を生じさせるための条件に関して上述したのと同様である。

加えて、本実施形態では、低反射層３２が、ユーザデータゾーン対応部３０Ｂの全体を覆い且つサーボゾーン対応部３０Ａでは凸パターン３２ａを有するので、低反射層３２の存在に起因する反射光量低減による磁性材層３３への光エネルギ伝達効率向上の程度は、サーボゾーン対応部３０Ａよりもユーザデータゾーン対応部３０Ｂの方が高い。照射光の波長をλとし、低反射層３２の屈折率をｎとし、低反射層３２の厚さをｄとすると、上述の光照射工程では、２ｎｄ＝λ（２ｓ−１）／２〔ｓ：正の整数〕が成立する場合に、基材３１の側から照射された光は、低反射層３２にて反射しない。仮に、低反射層３２における基材３１と接する面（面１）にて反射した光（仮想光１）と、低反射層３２における磁性材層３３と接する面（面２）にて反射して面１を通過した光（仮想光２）とを想定すると、２ｎｄは、これら仮想光１および仮想光２のいわゆる光路差に相当する。半波長λ／２の（２ｓ−１）倍〔奇数倍〕が当該光路差に等しい場合には、仮想光１および仮想光２の干渉により実際の反射光の強度は０となる。反射光の強度が０であることは、着目する照射光の全てが、低反射層３２にて反射することなく磁性材層３３に至ることを、意味する。実際の反射光の強度が０に近いほど、低反射層３２での反射光量は小さい。したがって、本実施形態においては、低反射層３２の厚さｄは、λ（２ｓ−１）／（４ｎ）〔ｓ：正の整数〕に等しいか又は近似する値に設定されるのである。

凸パターン３１ａの存在に起因してサーボゾーン対応部３０Ａで生ずる回折現象、および、低反射層３２の存在に起因するユーザデータゾーン対応部３０Ｂでの反射光量低減が、重畳的に作用することによって、磁性材層３３は、サーボゾーン対応部３０Ａよりもユーザデータゾーン対応部３０Ｂにて、多くの光エネルギを吸収して高温となる。磁性材層３３に蓄積された熱エネルギは、磁気記録媒体１００の記録磁性層１０２に伝達され、記録磁性層１０２におけるユーザデータゾーン１０２Ｂは、サーボゾーン１０２Ａよりも、
昇温する。その結果、ユーザデータゾーン１０２Ｂにて非一様磁化が生ずることとなる。本工程では、既に記録されているサーボ情報が破壊されないようにサーボゾーン１０２Ａでの昇温を抑えつつ、ユーザデータゾーン１０２Ｂの第２方向の一様磁化を熱揺らぎにより撹乱させて、当該ユーザデータゾーン１０２Ｂにて非一様磁化が生ずるように、照射光の強度および波長を調整する。また、本工程では、光照射ととともに、転写磁界Ｈ２より弱い磁界を第１方向に印加してもよい。

このようなフォーマット過程を経た磁気記録媒体１００の記録磁性層１０２ないし記録面には、例えば図９に示すように、サーボ情報が記録されているサーボゾーン１０２Ａ、および、磁化方向が非一様であるユーザデータゾーン１０２Ｂが形成される。したがって、所定のライトヘッド素子を備える磁気ヘッド（図示略）により、記録磁性層１０２のユーザデータゾーン１０２Ｂに所定のデータを記録して情報トラック１１０を形成すると、ユーザデータゾーン１０２Ｂにおける情報トラック１１０と情報トラック１１０の間には、例えば図１０に示すように、磁化方向が非一様であるトラック間部１１１が生ずることとなる。トラック間部１１１の磁化状態が非一様であるため、トラック間部１１１に由来して媒体表面付近に形成される非信号磁界は、トラック間部の磁化方向が一様である例えば上述の磁気ディスク２００の表面付近に形成される非信号磁界よりも、弱い。このように、マスター担体Ｘ３を使用して行う上述のようなフォーマット方法を採用すると、再生時にリードヘッド素子に対して作用する非信号磁界の弱い垂直磁気記録媒体を得ることができるのである。このような垂直磁気記録媒体は、良好な再生特性を得るうえで好適である。

図２０および図２１は、本発明の第４の実施形態に係る磁気転写用のマスター担体Ｘ４を表す。図２０は、マスター担体Ｘ４の平面図であり、図２１は、マスター担体Ｘ４の部分断面図である。

マスター担体Ｘ４は、図２０に示すように、複数のサーボゾーン対応部４０Ａおよび複数のユーザデータゾーン対応部４０Ｂに区画されており、図２１に示すように、基材４１、低反射層４２、および磁性材層４３よりなる積層構造を有する。各サーボゾーン対応部４０Ａは、作製目的の磁気ディスクのサーボゾーンを形成するための部位である。各ユーザデータゾーン対応部４０Ｂは、作製目的の磁気ディスクのサーボゾーン間に形成されるユーザデータゾーンに対応する部位である。

基材４１は、作製目的の磁気ディスクより大きなディスク形状を有する透明基板であり、第１面４１Ａおよび第２面４１Ｂを有する。第１および第２面４１Ａ，４１Ｂは、サーボゾーン対応部４０Ａおよびユーザデータゾーン対応部４０Ｂにわたる。このような基材４１は例えばＳｉＯ₂よりなる。

低反射層４２は、サーボゾーン対応部４０Ａにてパターン４２ａを有し、ユーザデータゾーン対応部４０Ｂでは平坦である。パターン４２ａは、磁気ディスクに書き込むべき所定のサーボ情報に対応するパターン形状を有する。低反射層４２は、基材４１の側から光（レーザ）が照射された場合に、当該光が基材４１の第２面４１Ｂの側へ反射されるのを低減することによって、光エネルギを磁性材層４３に効率よく伝える機能を有する。このような低反射層４２は例えばＳｉＮよりなる。マスター担体Ｘ４を使用して行う後述のフォーマット方法の光照射工程における照射光の波長をλとし、低反射層４２の構成材料の屈折率をｎとすると、低反射層４２の厚さは、λ（２ｓ−１）／（４ｎ）〔ｓ：正の整数〕に一致または近似する値に設定する。低反射層４２の厚さは例えば８〜２５ｎｍである。また、マスター担体Ｘ４を使用して行う後述のフォーマット方法の光照射工程における照射光の波長をλとし、基材４１の屈折率をｎとすると、パターン４２ａの高さは、当該光照射工程での反射光の強度向上の観点より、好ましくはλ（２ｋ−１）／（８ｎ）（ｋ
：正の整数）である。

磁性材層４３は、軟磁性材料または強磁性材料よりなる。強磁性材料よりなる場合、磁性材層４３は、この層を構成する磁性膜の膜面に対して垂直な方向に磁化容易軸を有して磁化された垂直磁化膜である。また、磁性材層４３は、サーボゾーン対応部４０Ａにて凸パターン４３ａを有し、ユーザデータゾーン対応部４０Ｂでは平坦である。凸パターン４３ａは、磁気ディスクに書き込むべき所定のサーボ情報に対応するパターン形状を有する。磁性材層４３の厚さ、および、凸パターン４３ａの高さは、各々、例えば５０〜２００ｎｍである。

図２２は、マスター担体Ｘ４の製造方法の一例を表す。本方法においては、まず、図２２（ａ）に示すように、基材４１上に低反射層用の材料膜４２’を形成する。具体的には、例えばスパッタリング法により、上述の低反射層４２を構成するための材料を基材４１上に成膜する。次に、図２２（ｂ）に示すように、材料膜４２’上にレジストパターン４５を形成する。具体的には、スピンコーティング法により材料膜４２’上にレジスト膜（電子線レジストまたはフォトレジスト）を形成した後、当該レジスト膜に対して露光処理および現像処理を施すことにより、レジストパターン４５を形成する。次に、図２２（ｃ）に示すように、レジストパターン４５をマスクとして材料膜４２’に対してエッチング処理を施すことにより、パターン４２ａを有する低反射層４２を形成する。次に、レジストパターン４５を除去した後、図２２（ｄ）に示すように磁性材層４３を形成する。具体的には、例えば所定の溶剤を作用させることによってレジストパターン４５を除去した後、例えばスパッタリング法により低反射層４２上および基材４１上にわたって所定の磁性材料を成膜することによって、磁性材層４３を形成する。磁性材層４３には、低反射層４２のパターン４２ａの凹凸形状に対応して凸パターン４３ａが形成される。以上のようにして、マスター担体Ｘ４を製造することができる。

図２３は、マスター担体Ｘ４を使用して行う磁気記録媒体１００（図７に示す）のフォーマット方法を表す。本フォーマット方法においては、まず、初期磁化工程において、図２３（ａ）に示すように、磁気記録媒体１００に対して第１方向に初期磁化磁界Ｈ１を印加することによって記録磁性層１０２を第１方向に初期磁化する。図の簡潔化の観点より、図２３においては、磁気記録媒体１００について、基板１０１および記録磁性層１０２以外を省略する。次に、重ね合わせ工程において、図２３（ｂ）に示すように、マスター担体Ｘ４と磁気記録媒体１００とを、磁性材層４３の凸パターン４３ａと記録磁性層１０２とが対向するように重ね合わせる。次に、転写工程において、図２３（ｃ）に示すように、マスター担体Ｘ４とともに磁気記録媒体１００に対して第１方向とは逆の第２方向に転写磁界Ｈ２を印加することによって、記録磁性層１０２において凸パターン４３ａに対向する箇所を第２方向に磁化して記録磁性層１０２にサーボ情報を記録し、且つ、記録磁性層１０２においてユーザデータゾーン対応部４０Ｂに対向する箇所を第２方向に磁化する。本工程を経ることによって、磁気記録媒体１００にサーボゾーン１０２Ａおよびユーザデータゾーン１０２Ｂが生ずることとなる。次に、マスター担体Ｘ４の透明な基材４１の側から磁性材層４３に向けて光（レーザ）を照射することによって、図２３（ｄ）に示すように、磁気記録媒体１００のユーザデータゾーン１０２Ｂの磁化方向を非一様化する。

本実施形態では、低反射層４２が、ユーザデータゾーン対応部４０Ｂの全体を覆い且つサーボゾーン対応部４０Ａではパターン４２ａを有するので、低反射層４２の存在に起因する反射光量低減による磁性材層４３への光エネルギ伝達効率向上の程度は、サーボゾーン対応部４０Ａよりもユーザデータゾーン対応部４０Ｂの方が高い。

また、本実施形態では、サーボゾーン対応部４０Ａにおいて、パターン４２ａの凹凸形状に起因して回折現象を生じさせることができる。パターン４２ａにて回折現象を生じさせるための条件については、第２の実施形態における凸パターン２１ａにて回折現象を生じさせるための条件に関して上述したのと同様である。具体的には、パターン４２ａの凹凸周期（例えば最短ピッチ）をＰとし、照射レーザの波長をλとし、パターン４２ａ（低反射層４２）の屈折率をｎとし、回折光の法線（パターン４２ａの厚さ方向に平行な仮想線）とのなす角をθとすると、上述の光照射工程において、サーボゾーン対応部４０Ａでは、（Ｐ×ｎ）ｓｉｎθ＝m×λ〔ｍ：正の整数〕の条件式に従って回折現象を生じさせ
ることができる。ｓｉｎθは１以下であり且つｍは１以上であるため、上述の光照射工程では、少なくともλ≦Ｐ×ｎを満たす波長λの光（レーザ）を採用する必要がある。パターン４２ａの高さの相異によって、回折現象における少なくとも第２面４１Ｂ側への反射光の強度は変化し、且つ、当該高さがλ（２ｋ−１）／（８ｎ）〔ｋ：正の整数〕に等しい場合に高い反射光強度が得られることが知られているところ、本実施形態においては、パターン４２ａの高さはλ（２ｋ−１）／（８ｎ）〔ｋ：正の整数〕であるのが好ましい。

ユーザデータゾーン対応部４０Ｂにおける第１面４１Ａの全体を覆う低反射層４２の存在に起因するユーザデータゾーン対応部４０Ｂでの反射光量低減、および、パターン４２ａの存在に起因してサーボゾーン対応部４０Ａで生ずる回折現象が、重畳的に作用することによって、磁性材層４３は、サーボゾーン対応部４０Ａよりもユーザデータゾーン対応部４０Ｂにて、多くの光エネルギを吸収して高温となる。磁性材層４３に蓄積された熱エネルギは、磁気記録媒体１００の記録磁性層１０２に伝達され、記録磁性層１０２におけるユーザデータゾーン１０２Ｂは、サーボゾーン１０２Ａよりも、昇温する。その結果、ユーザデータゾーン１０２Ｂにて非一様磁化が生ずることとなる。本工程では、既に記録されているサーボ情報が破壊されないようにサーボゾーン１０２Ａでの昇温を抑えつつ、ユーザデータゾーン１０２Ｂの第２方向の一様磁化を熱揺らぎにより撹乱させて、当該ユーザデータゾーン１０２Ｂにて非一様磁化が生ずるように、照射光の強度および波長を調整する。また、本工程では、光照射ととともに、転写磁界Ｈ２より弱い磁界を第１方向に印加してもよい。

このようなフォーマット過程を経た磁気記録媒体１００の記録磁性層１０２ないし記録面には、例えば図９に示すように、サーボ情報が記録されているサーボゾーン１０２Ａ、および、磁化方向が非一様であるユーザデータゾーン１０２Ｂが形成される。したがって、所定のライトヘッド素子を備える磁気ヘッド（図示略）により、記録磁性層１０２のユーザデータゾーン１０２Ｂに所定のデータを記録して情報トラック１１０を形成すると、ユーザデータゾーン１０２Ｂにおける情報トラック１１０と情報トラック１１０の間には、例えば図１０に示すように、磁化方向が非一様であるトラック間部１１１が生ずることとなる。トラック間部１１１の磁化状態が非一様であるため、トラック間部１１１に由来して媒体表面付近に形成される非信号磁界は、トラック間部の磁化方向が一様である例えば上述の磁気ディスク２００の表面付近に形成される非信号磁界よりも、弱い。このように、マスター担体Ｘ４を使用して行う上述のようなフォーマット方法を採用すると、再生時にリードヘッド素子に対して作用する非信号磁界の弱い垂直磁気記録媒体を得ることができるのである。このような垂直磁気記録媒体は、良好な再生特性を得るうえで好適である。

図２４および図２５は、本発明の第５の実施形態に係る磁気転写用のマスター担体Ｘ５を表す。図２４は、マスター担体Ｘ５の平面図であり、図２５は、マスター担体Ｘ５の部分断面図である。

マスター担体Ｘ５は、図２４に示すように、複数のサーボゾーン対応部５０Ａおよび複数のユーザデータゾーン対応部５０Ｂに区画されており、図２４に示すように、基材５１
、遮光層５２、および磁性材層５３よりなる積層構造を有する。各サーボゾーン対応部５０Ａは、作製目的の磁気ディスクのサーボゾーンを形成するための部位である。各ユーザデータゾーン対応部５０Ｂは、作製目的の磁気ディスクのサーボゾーン間に形成されるユーザデータゾーンに対応する部位である。

基材５１は、作製目的の磁気ディスクより大きなディスク形状を有する透明基板であり、サーボゾーン対応部５０Ａおよびユーザデータゾーン対応部５０Ｂにわたる。このような基材５１は例えばＳｉＯ₂よりなる。

遮光層５２は、サーボゾーン対応部５０Ａにおいて基材５１の側から光（レーザ）が照射された光の一部を遮光して、サーボゾーン対応部５０Ａにおける磁性材層５３の昇温を低減するための部位であり、例えばＡｌ，Ａｇよりなる。また、遮光層５２は、磁気ディスクに書き込むべき所定のサーボ情報に対応するパターン形状を有する。遮光層５２の厚さは、充分な遮光機能を得るうえでは例えば１０〜２０ｎｍで足り、マスター担体Ｘ５を使用して行う後述のフォーマット方法における転写工程にてサーボゾーン対応部５０Ａおよびユーザデータゾーン対応部５０Ｂとの間で良好な磁気的コントラストを得る観点より、好ましくは５０〜２００ｎｍである。

磁性材層５３は、軟磁性材料または強磁性材料よりなる。強磁性材料よりなる場合、磁性材層５３は、この層を構成する磁性膜の膜面に対して垂直な方向に磁化容易軸を有して磁化された垂直磁化膜である。また、磁性材層５３は、サーボゾーン対応部５０Ａにて凸パターン５３ａを有し、ユーザデータゾーン対応部５０Ｂでは平坦である。凸パターン５３ａは、磁気ディスクに書き込むべき所定のサーボ情報に対応するパターン形状を有する。磁性材層５３の厚さ、および、凸パターン５３ａの高さは、各々、例えば５０〜２００ｎｍである。

図２６は、マスター担体Ｘ５の製造方法の一例を表す。本方法においては、まず、図２６（ａ）に示すように、基材５１上に遮光層用の材料膜５２’を形成する。具体的には、例えばスパッタリング法により、上述の遮光層５２を構成するための材料を基材５１上に成膜する。次に、図２６（ｂ）に示すように、材料膜５２’上にレジストパターン５５を形成する。具体的には、スピンコーティング法により材料膜５２’上にレジスト膜（電子線レジスト膜またはフォトレジスト膜）を形成した後、当該レジスト膜に対して露光処理および現像処理を施すことにより、レジストパターン５５を形成する。次に、図２６（ｃ）に示すように、レジストパターン５５をマスクとして材料膜５２’に対してエッチング処理を施すことにより、所定のパターン形状を有する遮光層５２を形成する。次に、レジストパターン５５を除去した後、図２６（ｄ）に示すように磁性材層５３を形成する。具体的には、例えば所定の溶剤を作用させることによってレジストパターン５５を除去した後、例えばスパッタリング法により低反射層５２上および基材５１上にわたって所定の磁性材料を成膜することによって、磁性材層５３を形成する。磁性材層５３には、遮光層５２のパターン形状に対応して凸パターン５３ａが形成される。以上のようにして、マスター担体Ｘ５を製造することができる。

図２７は、マスター担体Ｘ５を使用して行う磁気記録媒体１００（図７に示す）のフォーマット方法を表す。本フォーマット方法においては、まず、初期磁化工程において、図２７（ａ）に示すように、磁気記録媒体１００に対して第１方向に初期磁化磁界Ｈ１を印加することによって記録磁性層１０２を第１方向に初期磁化する。図の簡潔化の観点より、図２７においては、磁気記録媒体１００について、基板１０１および記録磁性層１０２以外を省略する。次に、重ね合わせ工程において、図２７（ｂ）に示すように、マスター担体Ｘ５と磁気記録媒体１００とを、磁性材層５３の凸パターン５３ａと記録磁性層１０２とが対向するように重ね合わせる。次に、転写工程において、図２７（ｃ）に示すよう
に、マスター担体Ｘ５とともに磁気記録媒体１００に対して第１方向とは逆の第２方向に転写磁界Ｈ２を印加することによって、記録磁性層１０２において凸パターン５３ａに対向する箇所を第２方向に磁化して記録磁性層１０２にサーボ情報を記録し、且つ、記録磁性層１０２においてユーザデータゾーン対応部５０Ｂに対向する箇所を第２方向に磁化する。本工程を経ることによって、磁気記録媒体１００にサーボゾーン１０２Ａおよびユーザデータゾーン１０２Ｂが生ずることとなる。次に、マスター担体Ｘ５の透明な基材５１の側から磁性材層５３に向けて光（レーザ）を照射することによって、図２７（ｄ）に示すように、磁気記録媒体１００のユーザデータゾーン１０２Ｂの磁化方向を非一様化する。

マスター担体Ｘ５の基材５１側から磁性材層５３に向けて光照射を行うと、サーボゾーン対応部５０Ａでは遮光層５２が存在するため、サーボゾーン対応部５０Ａよりもユーザデータゾーン対応部５０Ｂの方が、磁性材層５３に対する光照射密度は高い。そのため、磁性材層５３は、サーボゾーン対応部５０Ａよりもユーザデータゾーン対応部５０Ｂにて、多くの光エネルギを吸収して高温となる。磁性材層５３に蓄積された熱エネルギは、磁気記録媒体１００の記録磁性層１０２に伝達され、記録磁性層１０２におけるユーザデータゾーン１０２Ｂは、サーボゾーン１０２Ａよりも、昇温する。その結果、ユーザデータゾーン１０２Ｂにて非一様磁化が生ずることとなる。本工程では、既に記録されているサーボ情報が破壊されないようにサーボゾーン１０２Ａでの昇温を抑えつつ、ユーザデータゾーン１０２Ｂの第２方向の一様磁化を熱揺らぎにより撹乱させて、当該ユーザデータゾーン１０２Ｂにて非一様磁化が生ずるように、照射光の強度および波長を調整する。また、本工程では、光照射ととともに、転写磁界Ｈ２より弱い磁界を第１方向に印加してもよい。

このようなフォーマット過程を経た磁気記録媒体１００の記録磁性層１０２ないし記録面には、例えば図９に示すように、サーボ情報が記録されているサーボゾーン１０２Ａ、および、磁化方向が非一様であるユーザデータゾーン１０２Ｂが形成される。したがって、所定のライトヘッド素子を備える磁気ヘッド（図示略）により、記録磁性層１０２のユーザデータゾーン１０２Ｂに所定のデータを記録して情報トラック１１０を形成すると、ユーザデータゾーン１０２Ｂにおける情報トラック１１０と情報トラック１１０の間には、例えば図１０に示すように、磁化方向が非一様であるトラック間部１１１が生ずることとなる。トラック間部１１１の磁化状態が非一様であるため、トラック間部１１１に由来して媒体表面付近に形成される非信号磁界は、トラック間部の磁化方向が一様である例えば上述の磁気ディスク２００の表面付近に形成される非信号磁界よりも、弱い。このように、マスター担体Ｘ５を使用して行う上述のようなフォーマット方法を採用すると、再生時にリードヘッド素子に対して作用する非信号磁界の弱い垂直磁気記録媒体を得ることができるのである。このような垂直磁気記録媒体は、良好な再生特性を得るうえで好適である。

マスター担体Ｘ５においては、図２８に示すように、遮光層５２および磁性材層５３の間に断熱層５４を設けてもよい。断熱層５４は、遮光層５２よりも熱伝導性の低い材料からなる。断熱層５４の構成材料としては、例えばＳｉＯ₂を採用することができる。遮光
層５２の厚さが１０〜２０ｎｍである場合、マスター担体Ｘ５を使用して行う上述のフォーマット方法における転写工程にてサーボゾーン対応部５０Ａおよびユーザデータゾーン対応部５０Ｂとの間で良好な磁気的コントラストを得る観点より、断熱層５４の厚さは例えば４０〜１９０ｎｍである。

マスター担体Ｘ５が断熱層５４を具備する場合、マスター担体Ｘ５を使用して行う上述のフォーマット方法の光照射工程において、サーボゾーン対応部５０Ａに遮光層５２が存在するためにサーボゾーン対応部５０Ａよりもユーザデータゾーン対応部５０Ｂの方が磁性材層５３に対する光照射密度は高く、加えて、サーボゾーン１０２Ａにおいて遮光層５２から磁性材層５３の凸パターン５３ａへの熱伝導を阻むことができる。そのため、磁性材層５３は、サーボゾーン対応部５０Ａよりもユーザデータゾーン対応部５０Ｂにて、昇温しやすい。したがって、断熱層５４を有するマスター担体Ｘ５は、マスター担体Ｘ５を使用して行う上述の光照射工程においてユーザデータゾーン１０２Ｂをより高温に加熱するうえで好適である。

以上のまとめとして、本発明の構成およびそのバリエーションを以下に付記として列挙する。

（付記１）垂直磁気異方性を有する記録磁性層を備える磁気記録媒体に対して磁気転写法により書き込みを行うための磁気転写用マスター担体であって、
前記記録磁性層にサーボ情報を記録するための第１磁性材パターンを有するサーボゾーン対応部と、
前記記録磁性層にダミー信号を形成するための第２磁性材パターンを有するユーザデータゾーン対応部と、を備える磁気転写用マスター担体。
（付記２）前記第２磁性材パターンはランダムパターンを含む、付記１に記載の磁気転写用マスター担体。
（付記３）前記磁気記録媒体は磁気ディスクであり、前記第２磁性材パターンは複数の線パターンを含み、当該複数の線パターンは、前記磁気ディスクの周方向に対応する方向に各々が延び且つ前記磁気ディスクの径方向に対応する方向に並列する、付記１に記載の磁気転写用マスター担体。
（付記４）前記磁気記録媒体は磁気ディスクであり、前記第２磁性材パターンは複数の線パターンを含み、当該複数の線パターンは、前記磁気ディスクの径方向に対応する方向に各々が延び且つ前記磁気ディスクの周方向に対応する方向に並列する、付記１に記載の磁気転写用マスター担体。
（付記５）垂直磁気異方性を有する記録磁性層を備える磁気記録媒体をフォーマットするための方法であって、
前記磁気記録媒体に対して第１方向に磁界を印加することによって前記記録磁性層を前記第１方向に初期磁化するための初期磁化工程と、
前記記録磁性層にサーボ情報を記録するための第１磁性材パターンを有するサーボゾーン対応部、および、前記記録磁性層にダミー信号を形成するための第２磁性材パターンを有するユーザデータゾーン対応部、を含む磁気転写用マスター担体と、前記磁気記録媒体とを、前記第１および第２磁性材パターンと前記記録磁性層とが対向するように重ね合わせるための、重ね合わせ工程と、
前記磁気転写用マスター担体とともに前記磁気記録媒体に対して前記第１方向とは逆の第２方向に転写磁界を印加することにより、前記記録磁性層において前記第１磁性材パターンに対向する箇所を第２方向に磁化して当該記録磁性層にサーボ情報を記録し、且つ、前記記録磁性層において前記第２磁性材パターンに対向する箇所を第２方向に磁化して当該記録磁性層にダミー信号を形成するための、転写工程と、を含む磁気記録媒体フォーマット方法。
（付記６）垂直磁気異方性を有する記録磁性層を備える磁気記録媒体をフォーマットするための方法であって、
前記記録磁性層に対して第１方向に磁界を印加することによって当該記録磁性層を前記第１方向に初期磁化するための初期磁化工程と、
サーボゾーン対応部およびユーザデータゾーン対応部を含み、当該サーボゾーン対応部およびユーザデータゾーン対応部にわたって広がる第１面ならびに当該第１面とは反対の第２面を有する透光性基材と、前記サーボゾーン対応部および前記ユーザデータゾーン対応部にわたって前記透光性基材における前記第１面の側に設けられ且つサーボ情報を記録するための凸パターンを前記サーボゾーン対応部において有する磁性材層と、を備える磁
気転写用マスター担体と、前記磁気記録媒体とを、前記磁性材層および前記記録磁性層が対向するように重ね合わせるための、重ね合わせ工程と、
前記磁気転写用マスター担体とともに前記磁気記録媒体に対して前記第１方向とは逆の第２方向に転写磁界を印加することにより、前記記録磁性層において前記凸パターンに対向する箇所を前記第２方向に磁化して当該記録磁性層にサーボ情報を記録するための、転写工程と、
前記透光性基材を介して前記磁性材層に向けて光を照射することにより、前記記録磁性層において前記ユーザデータゾーン対応部に対向する箇所を、前記記録磁性層において前記サーボゾーン対応部に対向する箇所よりも高温に加熱するための、光照射工程と、を含む磁気記録媒体フォーマット方法。
（付記７）前記転写工程では、前記記録磁性層において前記ユーザデータゾーン対応部に対向する箇所の磁化方向を前記第２方向に反転させ、且つ、前記光照射工程では、前記転写磁界より低強度の磁界を前記第１方向に印加しつつ前記光を照射する、付記６に記載の磁気記録媒体フォーマット方法。
（付記８）前記透光性基材の前記第１面は、前記サーボ情報に対応する凸パターンを前記サーボゾーン対応部において有する、付記６または７に記載の磁気記録媒体フォーマット方法。
（付記９）前記凸パターンの最短ピッチをＰとし、前記透光性基材の屈折率をｎとし、前記光照射工程における前記光の波長をλとすると、当該λは、λ≦Ｐ×ｎを満たす、付記６から８のいずれか一つに記載の磁気記録媒体フォーマット方法。
（付記１０）前記磁気転写用マスター担体は、更に、前記サーボ情報に対応するパターン形状を有して前記サーボゾーン対応部における前記透光性基材および前記磁性材層の間に設けられた遮光層を備える、付記６または７に記載の磁気記録媒体フォーマット方法。
（付記１１）前記磁気転写用マスター担体は、更に、前記遮光層および前記磁性材層の間に設けらた断熱層を備える、付記１０に記載の磁気記録媒体フォーマット方法。
（付記１２）前記磁気転写用マスター担体は、更に、前記ユーザデータゾーン対応部における前記透光性基材および前記磁性材層の間に設けられた低反射層を更に備える、付記６から１１に記載の磁気記録媒体フォーマット方法。
（付記１３）垂直磁気異方性を有する記録磁性層を備える磁気記録媒体に対して磁気転写法によりサーボ情報を書き込むための、サーボゾーン対応部とユーザデータゾーン対応部とを含む磁気転写用マスター担体であって、
前記サーボゾーン対応部および前記ユーザデータゾーン対応部にわたって広がり且つ前記サーボゾーン対応部において前記サーボ情報に対応する凸パターンを有する第１面、並びに当該第１面とは反対の第２面、を有する透光性基材と、
前記サーボゾーン対応部および前記ユーザデータゾーン対応部にわたって前記透光性基材における前記第１面の側に設けられ、且つ、前記サーボゾーン対応部において前記サーボ情報に対応する凸パターンを有する、磁性材層と、を備える磁気転写用マスター担体。（付記１４）前記第１面は、前記ユーザデータゾーン対応部における前記サーボゾーン対応部との境界において、熱緩衝用の凸パターンを有する、付記１３に記載の磁気転写用マスター担体。
（付記１５）前記ユーザデータゾーン対応部における前記透光性基材および前記磁性材層の間に介在する低反射層を更に備える、付記１３または１４に記載の磁気転写用マスター担体。
（付記１６）垂直磁気異方性を有する記録磁性層を備える磁気記録媒体に対して磁気転写法によりサーボ情報を書き込むための、サーボゾーン対応部とユーザデータゾーン対応部とを含む磁気転写用マスター担体であって、
前記サーボゾーン対応部および前記ユーザデータゾーン対応部にわたって広がる第１面、並びに当該第１面とは反対の第２面、を有する透光性基材と、
前記サーボゾーン対応部および前記ユーザデータゾーン対応部にわたって前記透光性基材における前記第１面の側に設けられ、且つ、前記サーボゾーン対応部において前記サー
ボ情報に対応する凸パターンを有する、磁性材層と、
前記ユーザデータゾーン対応部における前記透光性基材および前記磁性材層の間に介在する低反射層と、を備える磁気転写用マスター担体。
（付記１７）垂直磁気異方性を有する記録磁性層を備える磁気記録媒体に対して磁気転写法によりサーボ情報を書き込むための、サーボゾーン対応部とユーザデータゾーン対応部とを含む磁気転写用マスター担体であって、
前記サーボゾーン対応部および前記ユーザデータゾーン対応部にわたって広がる第１面、並びに当該第１面とは反対の第２面、を有する透光性基材と、
前記サーボゾーン対応部および前記ユーザデータゾーン対応部にわたって前記透光性基材における前記第１面の側に設けられ、且つ、前記サーボゾーン対応部において前記サーボ情報に対応する凸パターンを有する、磁性材層と、
前記サーボ情報に対応するパターン形状を有して前記サーボゾーン対応部における前記透光性基材および前記磁性材層の間に設けられた遮光層と、を備える磁気転写用マスター担体。
（付記１８）前記遮光層および前記磁性材層の間に設けられた断熱層を更に備える、付記１７に記載の磁気転写用マスター担体。

本発明の第１の実施形態に係る磁気転写用マスター担体の平面図である。 図１の部分拡大図であって、磁気転写用マスター担体の周方向に延びる図である。 第１の実施形態に係る磁気転写用マスター担体の部分断面図である。 第１の実施形態に係る磁気転写用マスター担体における第２磁性材パターンの２つの変形例を表す。（ａ）および（ｂ）は、各々、磁気転写用マスター担体の周方向に延びる部分拡大図である。 第１の実施形態に係る磁気転写用マスター担体の製造方法を表す。 図１の実施形態に係る磁気転写用マスター担体を使用して行う垂直磁気記録媒体のフォーマット方法を表す。 垂直磁気記録媒体の一例である磁気ディスクの積層構成を表す。 本発明に係るフォーマット過程を経た図７の垂直磁気記録媒体の記録面の構成を表す。 本発明に係るフォーマット過程を経た図７の垂直磁気記録媒体の部分断面図である。 図９の垂直磁気記録媒体に対してユーザデータを記録した後の状態を表す。 本発明の第２の実施形態に係る磁気転写用マスター担体の平面図である。 第２の実施形態に係る磁気転写用マスター担体の部分断面図である。 第２の実施形態の磁気転写用マスター担体の製造方法を表す。 第２の実施形態の磁気転写用マスター担体を使用して行う垂直磁気記録媒体のフォーマット方法を表す。 第２の実施形態に係る磁気転写用マスター担体の変形例を表す。 本発明の第３の実施形態に係る磁気転写用マスター担体の平面図である。 第３の実施形態に係る磁気転写用マスター担体の部分断面図である。 第３の実施形態に係る磁気転写用マスター担体の製造方法を表す。 第３の実施形態に係る磁気転写用マスター担体を使用して行う垂直磁気記録媒体のフォーマット方法を表す。 本発明の第４の実施形態に係る磁気転写用マスター担体の平面図である。 第４の実施形態に係る磁気転写用マスター担体の部分断面図である。 第４の実施形態に係る磁気転写用マスター担体の製造方法を表す。 第４の実施形態に係る磁気転写用マスター担体を使用して行う垂直磁気記録媒体のフォーマット方法を表す。 本発明の第５の実施形態に係る磁気転写用マスター担体の平面図である。 第５の実施形態に係る磁気転写用マスター担体の部分断面図である。 第５の実施形態に係る磁気転写用マスター担体の製造方法を表す。 第５の実施形態に係る磁気転写用マスター担体を使用して行う垂直磁気記録媒体のフォーマット方法を表す。 本発明の第５の実施形態に係る磁気転写用マスター担体の変形例を表す。 垂直磁気記録媒体の一例の平面図である。 垂直磁気記録媒体の一例の積層構成を表す。 磁気ディスクの製造過程において従来の磁気転写法によりサーボ情報を記録する場合の一連の工程を表す。 データ記録後の従来の垂直磁気記録媒体の部分断面図である。

符号の説明

Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３，Ｘ４，Ｘ５，３００ マスター担体
１０Ａ，２０Ａ，３０Ａ，４０Ａ，５０Ａ サーボゾーン対応部
１０Ｂ，２０Ｂ，３０Ｂ，４０Ｂ，５０Ｂ ユーザデータゾーン対応部
１１，２１，３１，４１，５１ 基材
１２，１３ 磁性材パターン
２２，３３，４３，５３ 磁性材層
３２，４２ 低反射層
５２ 遮光層
５４ 断熱層
１００ 磁気記録媒体
１０１，２０１ 基板
１０２，２０２ 記録磁性層
１０２Ａ，２０２Ａ サーボゾーン
１０２Ｂ，２０２Ｂ ユーザデータゾーン

Claims (2)

1. 垂直磁気異方性を有する記録磁性層を備える磁気記録媒体をフォーマットするための方法であって、
   前記記録磁性層に対して第１方向に磁界を印加することによって当該記録磁性層を前記第１方向に初期磁化するための初期磁化工程と、
   サーボゾーン対応部およびユーザデータゾーン対応部を含み、当該サーボゾーン対応部およびユーザデータゾーン対応部にわたって広がる第１面ならびに当該第１面とは反対の第２面を有する透光性基材と、前記サーボゾーン対応部および前記ユーザデータゾーン対応部にわたって前記透光性基材における前記第１面の側に設けられ且つサーボ情報を記録するための凸パターンを前記サーボゾーン対応部において有する磁性材層と、前記サーボ情報に対応するパターン形状を有して前記サーボゾーン対応部における前記透光性基材および前記磁性材層の間に設けられた遮光層と、を備える磁気転写用マスター担体と、前記磁気記録媒体とを、前記磁性材層および前記記録磁性層が対向するように重ね合わせるための、重ね合わせ工程と、
   前記磁気転写用マスター担体とともに前記磁気記録媒体に対して前記第１方向とは逆の第２方向に転写磁界を印加することにより、前記記録磁性層において前記凸パターンに対向する箇所を前記第２方向に磁化して当該記録磁性層にサーボ情報を記録するための、転写工程と、
   前記透光性基材を介して前記磁性材層に向けて光を照射することにより、前記記録磁性層において前記ユーザデータゾーン対応部に対向する第１箇所を、前記記録磁性層において前記サーボゾーン対応部に対向する第２箇所よりも高温に加熱して、前記第１箇所の磁化方向を非一様化するための、光照射工程と、を含む磁気記録媒体フォーマット方法。
2. 垂直磁気異方性を有する記録磁性層を備える磁気記録媒体に対して磁気転写法によりサーボ情報を書き込むための、サーボゾーン対応部とユーザデータゾーン対応部とを含む磁気転写用マスター担体であって、
   前記サーボゾーン対応部および前記ユーザデータゾーン対応部にわたって広がる第１面、並びに当該第１面とは反対の第２面、を有する透光性基材と、
   前記サーボゾーン対応部および前記ユーザデータゾーン対応部にわたって前記透光性基材における前記第１面の側に設けられ、且つ、前記サーボゾーン対応部において前記サーボ情報に対応する凸パターンを有する、磁性材層と、
   前記サーボ情報に対応するパターン形状を有して前記サーボゾーン対応部における前記透光性基材および前記磁性材層の間に設けられた遮光層と、を備える磁気転写用マスター担体。

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