JP4282369B2 - Precision substrate storage container - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、シリコンやガラスからなる半導体ウェーハやマスクガラス等の精密基板の収納、輸送、保管、加工等に使用される精密基板収納容器に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、半導体業界では生産量をより一層向上させるため、口径300mm以上の大口径のシリコンウェーハやガラスウェーハからなる精密基板が使用され始めている。この大口径の精密基板は、縦横いずれに支持しても自重で撓んでしまうので、破損しないよう精密基板収納容器に収納して安全に取り扱うことが求められる。
【0003】
この種の精密基板収納容器は、図示しないが、複数枚の精密基板を整列収納するフロントオープンボックスタイプの容器本体と、この容器本体の開口した正面を開閉する蓋体と、これら容器本体と蓋体との間に介在されてシールを形成するエンドレスのシールガスケットとから構成されている(特許文献1参照)。このような構成の精密基板収納容器は、使用に際しては、超純水やイソピルアルコール等からなる専用の洗浄液で洗浄され、表面の汚れが除去された後に精密基板が収納されて搬送や保管等に用いられる。
【0004】
ところで、精密基板収納容器の容器本体には、自動搬送、精密基板の識別、手動操作の便宜を図るため、別部品としてロボティックハンドル、ボトムプレート、一対のマニュアルハンドルが装着される。このため、容器本体の露出した表面には取付部が、別部品には被取付部がそれぞれ形成され、これら取付部と被取付部とが相互に嵌合することにより、ロボティックハンドル、ボトムプレート、一対のマニュアルハンドルが装着される。取付部と被取付部とは、例えば複数のL字形やU字形の係止片等を並べ備えた構造に成形されたり、あるいは一方が開口し、他方が閉塞した袋小路構造に成形される。
【0005】
【特許文献1】
特開2000−159288号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
従来の精密基板収納容器は、以上のように別部品に被取付部が単に形成されている関係上、洗浄して乾燥させる場合には、別部品の被取付部に洗浄液の水滴が残存して乾燥作業を遅延化させたり、あるいは残存した水滴が容器本体の内部に浸入して汚染を拡大させるという問題がある。
このような問題を解消するには、容器本体から別部品を取り外して個々に洗浄すれば良いが、そうすると、別部品の着脱という余分な作業が必要不可欠となり、作業性や生産性の悪化を招くこととなる。さらに、取付部や被取付部が袋小路等の複雑な構造で水切れ性の悪い場合、期待するほどの効果を得ることができない。
【0007】
本発明は、上記に鑑みなされたもので、別部品に液体が残存して乾燥作業を遅延させたり、あるいは残存した液体が容器本体に浸入して汚染を拡大させるおそれがなく、しかも、作業性等の悪化を招くことのない精密基板収納容器を提供することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明においては上記課題を解決するため、精密基板を収納するフロントオープンボックスの容器本体と、この容器本体の露出した上面に設けられる平面逆U字形の取付部と、この平面逆U字形の取付部に取り付けられ、把持用の把持板の裏面から一対の脚がそれぞれ伸長するロボティックハンドルと、容器本体の露出した下面に設けられる取付部と、この取付部に被取付部を介して取り付けられ、容器本体の下面後方にベース板を近接対向させるボトムプレートとを備え、洗浄液で洗浄して乾燥されるものであって、
平面逆U字形の取付部は、容器本体の上面に間隔をおいて対設され、容器本体の前後方向に伸びる一対のガイドレールと、この一対のガイドレールの前端部間に形成されて容器本体の開口したフロント側に位置し、ロボティックハンドルに接触して位置決め固定する突き当たり壁とを含み、一対のガイドレールを容器本体のリア側からフロント側に向かうに従い徐々に幅が狭まるよう傾斜配置し、各ガイドレールを断面逆L字形に屈曲形成してその洗浄液の残存しやすい表面には洗浄液の水切り性を向上させる平均表面粗さが70〜100μmのしぼを梨地状に形成し、
ロボティックハンドルの各脚を断面L字形に屈曲形成してその自由端部をガイドレールの屈曲辺内にスライド可能に嵌合し、
取付部は、容器本体の下面後部に間隔をおいて対設され、容器本体の前後方向に指向する一対の保持レールを含み、各保持レールをL字形に屈曲形成してその洗浄液の残存しやすい表面には洗浄液の水切り性を向上させる平均表面粗さが70〜100μmのしぼを梨地状に形成し、各保持レールの短片を容器本体のフロント側に位置させ、
ボトムプレートのベース板両側部に被取付部の本体をそれぞれ張り出し形成し、各本体の前部外側からストッパ突起を前方に伸ばすとともに、各本体の前部内側からストッパ突起との間に切り欠き空間を形成する可撓性の首片を前方に伸ばしてこの首片の先端部外側には脱落防止突起を形成し、ストッパ突起と首片の脱落防止突起とに保持レールの短片を挟み持たせるようにしたことを特徴としている。
【0009】
ここで特許請求の範囲における精密基板には、少なくとも電気、電子、半導体の分野で使用される6インチや8インチの半導体ウェーハ(シリコンウェーハ等)、マスクガラス、液晶セル、石英ガラス、マスク基板等の基板が含まれ、単数複数を特に問わない。容器本体には、必要に応じて蓋体を取り付けたり、帯電処理を施すことができる。
【0010】
しぼ(texture)とは、デザイン模様として付けられる梨地の模様をいう。このしぼは、取付部やその付近の液体の残存しやすい領域、被取付部やその付近の液体の残存しやすい領域に形成される。さらに、精密基板収納容器は、少なくとも半導体の製造に使用されるキャリア、工程間搬送キャリア(FOUP)、出荷用のFOSBとして利用することができる。
【0011】
本発明によれば、容器本体と別部品の洗浄液の溜まりやすい領域に、撥水機能のしぼを形成するので、洗浄液の溜まりやすい領域が洗浄液に濡れにくく、洗浄液がはじかれることとなり、洗浄後の乾燥作業時に別部品等に洗浄液が溜まるのを抑制することができる。したがって、乾燥時間を短縮し、残った洗浄液が容器本体内に浸入して汚染を拡大させるのを防ぐことができる。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施形態を説明すると、本実施形態における精密基板収納容器は、図1ないし図7に示すように、口径300mmの半導体ウェーハを収納する透視可能な透明な容器本体1と、この容器本体1を開閉する蓋体10と、これら容器本体1と蓋体10との間に介在されてシールを形成する枠形のシールガスケット20と、容器本体1の露出した上下面にそれぞれ配設される複数の取付部30・30Aと、容器本体上面の取付部30に着脱自在に嵌合されるロボティックハンドル40と、容器本体下面の取付部30Aに着脱自在に嵌合されるボトムプレート50とを備え、複数の取付部30・30Aにおける洗浄液の残存しやすい表面領域に、所定の粗さのしぼ70をそれぞれ形成するようにしている。
【0013】
容器本体1は、図1に示すように、軽量性や成形性等に優れるポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリエーテルイミド等の合成樹脂を使用して正面のみ開口したフロントオープンボックスタイプに射出成形され、図示しない複数枚(例えば、13枚、25枚、26枚)の半導体ウェーハを上下方向に所定のピッチで整列収納するよう機能する。この容器本体1は、変形しないよう十分な強度、剛性、寸法安定性が確保され、AGV(Auto Guided Vehiole)からなる自動搬送装置の正常な動作を保障する。
【0014】
容器本体1の内部両側には、相対向する支持ユニット2がそれぞれ対設され、この一対の支持ユニット2の対向面には、複数の支持リブ3が所定のピッチで上下方向にそれぞれ並設されており、相対する複数の支持リブ3に半導体ウェーハの側部周縁が水平に支持される。また、容器本体1の正面周縁は外方向に徐々に拡大してフランジ4を形成し、容器本体1の外部両側には、フランジ4の後方近傍に位置する被係止部5がそれぞれ突設されるとともに、掴持操作用のマニュアルハンドル6がそれぞれ着脱自在に装着される。各マニュアルハンドル6は、例えばL字形やU字形等に形成され、係合爪と係合溝、あるいは凹凸構造等を用いて容器本体1の外部側面における取付部に被取付部を介して装着される。
【0015】
容器本体1の下面(底面)の前部両側と後部中央とには図2に示すように、図示しない加工装置の位置決めピンと嵌合する位置決め具7がそれぞれ一体的、あるいは着脱自在の別体として配設され、この複数の位置決め具7が精密基板収納容器を加工装置に位置決めし、この状態で精密基板収納容器から加工装置に半導体ウェーハがローディングされたり、アンローディングされることとなる。各位置決め具7は、耐磨耗性等に優れるポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド等を使用して平面略小判形に成形され、下方に向かうにしたがい徐々に広がる断面略逆V字形の溝が切り欠かれる。
【0016】
ここで加工装置とは、精密基板収納容器を位置決めして蓋体10を自動的に外したり、位置決めされた精密基板収納容器から半導体ウェーハをローディングし、別の工程内容器に移し替える装置、あるいは蓋体10が取り外された精密基板収納容器から半導体ウェーハをローディングし、半導体ウェーハに酸化膜形成、フォトレジスト塗布、露光、エッチング、洗浄、薄膜形成等の各種処理を行う装置に半導体ウェーハを供給する装置をいう。
【0017】
蓋体10は、図1に示すように、容器本体1の開口した正面に対応する嵌合可能な略矩形に形成され、容器本体1の開口を着脱自在に開閉するよう機能する。この蓋体10の内面(容器本体1の背面に対向する面)には、縦長のフロントリテーナ11が着脱自在に装着され、このフロントリテーナ11には、複数の支持リブが所定のピッチで上下方向に並設されており、この複数の支持リブに半導体ウェーハの前部周縁が水平に支持される。
【0018】
蓋体10の周縁部にはシールガスケット20が突起や溝等を介して着脱自在に嵌合され、このシールガスケット20が容器本体正面の内周部に圧接されることによりシール機能を発揮する。このシールガスケット20は、例えばポリオレフィン系やポリエステル系の各種熱可塑性エラストマー、フッ素ゴム、シリコーンゴム等を用いて成形される。好ましくは、半導体ウェーハを汚染させる有機成分の発生が少なく、JISのK6301Aの測定方法による硬度が80°以下となる材料を用いて成形される。また、蓋体10の左右両側部には、U字形の切り欠きを備えた係止片13がそれぞれ回転可能に軸支され、各係止片13の切り欠きが容器本体1の被係止部5に嵌合係止することにより、蓋体10が容器本体1の開口を閉鎖して被覆する。
【0019】
なお、本実施形態では単に蓋体10を示すが、何らこれに限定されるものではない。例えば、蓋体10に、外部からの操作で動作するラッチ機構を内蔵し、蓋体10の装着時にラッチ機構の複数の係止爪を蓋体10の周縁部からそれぞれ突出させ、各係止爪を容器本体正面の内周面上下に穿孔した複数の係止穴に嵌入係止させ、容器本体1の正面を覆う蓋体10を固定するようにしても良い。
【0020】
取付部30は、図3に示すように、容器本体1の露出した上面中央付近に平面略逆U字形に形成される。この取付部30は、容器本体1の上面に間隔をおいて対設される一対のガイドレール31を備え、この一対のガイドレール31のフロント側間に、ストッパ機能を有する突き当たり壁32が一体形成される。一対のガイドレール31は、図3や図4に示すように、リア側からフロント側に向かうにしたがい徐々に幅が狭まるよう内側に向けて傾斜配置され、各ガイドレール31が断面逆L字形に形成される。このような構造の取付部30は、一対のガイドレール31間のリア側から嵌入されるロボティックハンドル40をフロント側にスライドさせ、突き当たり壁32にロボティックハンドル40を当接させて位置決め固定する。
【0021】
取付部30Aは、図6や図7に示すように、容器本体1の露出した下面の後部両側に形成される。この取付部30Aは、容器本体1の下面に間隔をおいて対設される一対の保持レール33を備え、各保持レール33がL字形に形成されており、各保持レール33のリア側が開口形成されるとともに、フロント側が閉塞形成される。このような構造の取付部30Aは、一対の保持レール33間のリア側から嵌入されるボトムプレート50をフロント側にスライドさせ、位置決め固定する。
【0022】
ロボティックハンドル40は、図4に示すように、図示しない天井搬送機に把持される平面矩形の把持板41と、断面L字形に形成されて把持板41の裏面両側部からそれぞれ伸長形成される一対の脚42とから断面略π字の別部品として成形され、被取付部である各脚42の自由端部がガイドレール31の屈曲辺内に嵌合される。
【0023】
ボトムプレート50は、図5に示すように、識別領域である容器本体1の下面後方に近接対向するベース板51と、このベース板51の後端部に立設されて容器本体1の背面の一部(識別領域)に対向する壁板59と、ベース板51と壁板59のいずれかに保持機構を介し選択的に支持されてRFIDシステムの応答器(図示せず)を嵌合収容するホルダ60とから別部品として構成される。このボトムプレート50は、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート等を用いて成形される。
【0024】
ボトムプレート50のベース板51は、図5に示すように、多角形の平板からなり、前端部中央から後方にかけて略半小判形の回避溝52が切り欠かれており、この回避溝52が容器本体1の後部の位置決め具7に後方から嵌合してボトムプレート50が位置決め具7に不当に干渉するのを規制する。このベース板51には、複数のキャップ孔53が所定の間隔で丸く穿孔され、この複数のキャップ孔53には、加工装置が半導体ウェーハの仕様(例えば、半導体ウェーハの枚数等)を識別するための図示しないキャップが必要に応じ、選択的に挿入される。ベース板51の左右両側部には、被取付部54がそれぞれ配設され、各被取付部54が容器本体1の取付部30Aに着脱自在に嵌合するよう機能する。
【0025】
被取付部54は、図2、図5、図7に示すように、例えばベース板51の側部に張り出し形成される本体55と、この本体55の前部外側から前方に伸びるストッパ突起56と、本体55の前部内側から前方にストッパ突起56よりも細長く伸びる可撓性の首片57と、この首片57の先端部外側に略三角形状に形成される脱落防止突起58と、ストッパ突起56と首片57との間に区画形成される切り欠き空間とから成形される。ストッパ突起56と脱落防止突起58とは、保持レール33の長片内側に位置して短片を挟持し、この挟持により容器本体1にボトムプレート50が強固に装着される。
【0026】
ボトムプレート50の壁板59は、横長の矩形に形成され、容器本体1に対向しない対向面にバーコード領域が形成される。このバーコード領域には、バーコードが貼着されたり、バーコードがポケットを介し着脱自在に挿入される。
【0027】
ホルダ60は、所定の熱可塑性樹脂を使用して中空の略半円柱形、断面略U字形等に形成され、背面や側部等に複数の水切り孔が所定の間隔で穿孔されており、この複数の水切り孔が洗浄時の水切り性を向上させたり、応答器の有無やその破損の有無を視覚的に把握させる。このホルダ60の内部には、応答器の脱落を規制する抜け落ち防止爪が突設される。ホルダ60の開口面の左右両側部には、単数複数のフランジ4がそれぞれ外方向に突設され、各フランジ4が保持機構に着脱自在に係止される。
【0028】
応答器は、一般的にはアンテナ、送受信器、及びメモリーを備えて円筒形に形成され、表面がガラスや合成樹脂等により被覆保護されており、ホルダ60に嵌合されて半導体ウェーハのロット、工程内の加工、あるいは処理経過を記憶するよう機能する。
【0029】
しぼ70は、図4や図7に示すように、複数の取付部30・30Aにおける洗浄液の残存しやすい領域、換言すれば、ガイドレール31と保持レール33の表面やその付近に、JIS B 0601−2001に基づく平均表面粗さ(Ra)が10a(10μm)〜100a(100μm)、好ましくは30a〜70a、より好ましくは50a(50μm)となるようそれぞれ梨地状に形成され、洗浄後の水切り性を向上させる。
【0030】
しぼ70の平均表面粗さ(Ra)が10a〜100aの範囲なのは、10a未満の場合には、洗浄後の水切り性を向上させることができないからである。逆に、100aを超える場合には、しぼ70の表面が擦れて脱離したり、しぼ70の凹凸部にパーティクルが付着しやすくなるからである。このようなしぼ70は、容器本体用の金型のキャビティに放電加工やサンドブラスト加工を施し、これを成形時に転写することにより、形成される。
【0031】
上記構成によれば、取付部30・30Aにおける洗浄液の残存しやすい領域に、撥水作用を営む粗面のしぼ70を形成するので、洗浄後の乾燥作業時にロボティックハンドル40やボトムプレート50の被取付部54に洗浄液の水滴が溜まるのをきわめて有効に抑制防止することができる。したがって、乾燥作業の迅速化を図ることができ、しかも、残存した水滴が容器本体1の内部に浸入して汚染を拡大させることがない。さらに、容器本体1から別部品であるロボティックハンドル40やボトムプレート50を取り外して個々に洗浄する必要がないので、別部品の着脱という余分な作業が不要となり、作業性や生産性の著しい向上を図ることができる。
【0032】
なお、上記実施形態では容器本体下面の取付部30Aに小型のボトムプレート50を着脱自在に嵌合したが、何らこれに限定されるものではない。例えば、ボトムプレート50を大型に形成してその両側部を容器本体1の下面両側部から露出させ、このボトムプレート50の両側部に容器本体1の側壁に対向する対向板をそれぞれ立て設け、各対向板にマニュアルハンドル6を着脱自在に取り付けても良い。
【0037】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、取付部における洗浄液の残存しやすい領域に、撥水作用を営む平均表面粗さが70〜100μmのしぼを梨地状に形成するので、洗浄後の乾燥作業時にロボティックハンドルやボトムプレートの被取付部に洗浄液の水滴が溜まるのを有効に抑制防止することができる。したがって、乾燥作業の迅速化を図ることができ、しかも、残存した水滴が容器本体の内部に浸入して汚染を拡大させることが少ない。また、容器本体から別部品であるロボティックハンドルやボトムプレートを取り外して個々に洗浄する必要がないので、別部品の着脱という余分な作業が不要となり、作業性や生産性の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る精密基板収納容器の実施形態を示す全体斜視説明図である。
【図2】本発明に係る精密基板収納容器の実施形態における容器本体を示す底面図である。
【図3】本発明に係る精密基板収納容器の実施形態における容器本体を示す平面図である。
【図4】本発明に係る精密基板収納容器の実施形態における取付部とロボティックハンドルとを示す模式断面説明図である。
【図5】本発明に係る精密基板収納容器の実施形態におけるボトムプレートを示す斜視説明図である。
【図6】本発明に係る精密基板収納容器の実施形態における容器本体からボトムプレートを取り外した状態を示す底面図である。
【図7】本発明に係る精密基板収納容器の実施形態における容器本体とボトムプレートとの関係を示す説明図である。
【符号の説明】
1 容器本体
6 マニュアルハンドル(別部品)
10 蓋体
30 取付部
30A 取付部
31 ガイドレール(取付部)
33 保持レール(取付部)
40 ロボティックハンドル(別部品)
42 脚(被取付部)
50 ボトムプレート(別部品)
54 被取付部
55 本体
56 ストッパ突起
57 首片
58 脱落防止突起
70 しぼ[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a precision substrate storage container used for storing, transporting, storing and processing precision substrates such as semiconductor wafers and mask glasses made of silicon or glass.
[0002]
[Prior art]
In recent years, in order to further improve the production volume in the semiconductor industry, a precision substrate made of a silicon wafer or a glass wafer having a large diameter of 300 mm or more has begun to be used. The large-diameter precision substrate is bent by its own weight regardless of whether it is supported vertically or horizontally, so that it is required to be stored safely in a precision substrate storage container so as not to be damaged.
[0003]
Although not shown, this type of precision substrate storage container includes a front open box type container body that aligns and stores a plurality of precision substrates, a lid body that opens and closes the front surface of the container body, and the container body and lid. It is comprised from the endless seal gasket which is interposed between the body and forms a seal | sticker (refer patent document 1). In use, the precision substrate storage container having such a structure is cleaned with a special cleaning liquid made of ultrapure water, isopropyl alcohol, etc., and after the surface is removed, the precision substrate is stored and transported or stored. Used for.
[0004]
By the way, a robotic handle, a bottom plate, and a pair of manual handles are mounted as separate components on the container body of the precision substrate storage container for convenience of automatic transport, identification of the precision substrate, and manual operation. For this reason, a mounting part is formed on the exposed surface of the container body, and a mounting part is formed on another part, and the mounting part and the mounting part are fitted to each other, so that the robotic handle, the bottom plate A pair of manual handles are mounted. The attachment portion and the attachment portion are formed, for example, in a structure including a plurality of L-shaped or U-shaped locking pieces or the like, or formed in a bag path structure in which one is open and the other is closed.
[0005]
[Patent Document 1]
JP 2000-159288 A [0006]
[Problems to be solved by the invention]
Since the conventional precision substrate storage container simply has the mounting part formed on the separate part as described above, when cleaning and drying, water droplets of the cleaning liquid remain on the mounting part of the separate part. There is a problem that the drying operation is delayed or the remaining water drops enter the inside of the container body to increase the contamination.
In order to solve such problems, it is only necessary to remove the separate parts from the container body and clean them individually. However, if this is done, the extra work of attaching and detaching the separate parts becomes indispensable, leading to deterioration in workability and productivity. It will be. Furthermore, when the attachment portion and the attachment portion have a complicated structure such as a bag path and the water drainability is poor, an effect as expected cannot be obtained.
[0007]
The present invention has been made in view of the above, and there is no possibility that the liquid remains in another part and delays the drying operation, or the remaining liquid enters the container body and expands the contamination. It is an object of the present invention to provide a precision substrate storage container that does not cause such deterioration.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, a container body of a front open box that houses a precision substrate, a planar inverted U-shaped mounting portion provided on the exposed upper surface of the container body, and a planar inverted U-shaped mounting A robotic handle with a pair of legs extending from the back surface of the gripping plate for gripping, a mounting portion provided on the exposed lower surface of the container body, and a mounting portion attached to the mounting portion via a mounted portion A bottom plate that causes the base plate to face and oppose the lower surface of the container body, and is washed with a cleaning liquid and dried.
The plane inverted U-shaped attachment portion is formed between a pair of guide rails that are opposed to each other on the upper surface of the container body and extend in the front-rear direction of the container body, and a front end portion of the pair of guide rails. And a butting wall that contacts and fixes the robotic handle, and a pair of guide rails are inclined so that the width gradually decreases from the rear side of the container body toward the front side. In addition, each guide rail is bent to have an inverted L-shaped cross section, and on the surface where the cleaning liquid is likely to remain, a wrinkle having an average surface roughness of 70 to 100 μm is formed in a satin-like shape to improve the drainability of the cleaning liquid.
Each leg of the robotic handle is bent to have an L-shaped cross section, and its free end is slidably fitted into the bent side of the guide rail,
The mounting portion is provided at a distance from the lower rear portion of the container main body and includes a pair of holding rails oriented in the front-rear direction of the container main body. Each holding rail is bent into an L shape so that the cleaning liquid can easily remain. On the surface, a wrinkle with an average surface roughness of 70 to 100 μm that improves the drainability of the cleaning liquid is formed in a satin shape, and the short piece of each holding rail is positioned on the front side of the container body,
The body of the part to be attached is formed on both sides of the base plate of the bottom plate, and the stopper protrusion extends forward from the outside of the front of each body, and a notch space is formed between the front of each body and the stopper protrusion. The flexible neck piece forming the head is extended forward, a drop-out preventing projection is formed outside the tip of the neck piece, and the short piece of the holding rail is sandwiched between the stopper projection and the drop-out preventing projection of the neck piece. It is characterized in the thing.
[0009]
Here, the precision substrate in the claims includes at least a 6-inch or 8-inch semiconductor wafer (silicon wafer, etc.) used in the electric, electronic, and semiconductor fields, mask glass, liquid crystal cell, quartz glass, mask substrate, etc. There is no particular limitation on the singular number. The container body can be attached with a lid or subjected to a charging process as necessary .
[0010]
A texture refers to a satin pattern that is applied as a design pattern. The grain is formed in a region where the liquid in the attachment portion and the vicinity thereof is likely to remain, and in a region where the liquid in the attachment portion and the vicinity thereof is likely to remain. Furthermore, the precision substrate storage container can be used at least as a carrier used for manufacturing a semiconductor, an inter-process carrier (FOUP), and a shipping FOSB.
[0011]
According to the present invention, the water repellent function is formed in a region where the cleaning liquid separate from the container main body tends to accumulate, so that the region where the cleaning liquid easily accumulates is difficult to get wet with the cleaning liquid, and the cleaning liquid is repelled. It is possible to prevent the cleaning liquid from accumulating in another part or the like during the drying operation. Therefore, it is possible to shorten the drying time and prevent the remaining cleaning liquid from entering the container body and expanding the contamination.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIGS. 1 to 7, a precision substrate storage container according to the present embodiment is a transparent transparent material that stores a semiconductor wafer having a diameter of 300 mm. The container body 1, the
[0013]
As shown in FIG. 1, the container body 1 is injection-molded into a front open box type that is open only on the front surface using a synthetic resin such as polycarbonate, cycloolefin polymer, polyetherimide, etc. that is excellent in lightness and moldability, A plurality of semiconductor wafers (for example, 13, 25, and 26) (not shown) function so as to be aligned and stored at a predetermined pitch in the vertical direction. The container body 1 has sufficient strength, rigidity, and dimensional stability so as not to be deformed, and ensures the normal operation of an automatic transfer device made of AGV (Auto Guided Vehicle).
[0014]
[0015]
As shown in FIG. 2,
[0016]
Here, the processing apparatus is an apparatus that positions the precision substrate storage container and automatically removes the
[0017]
As shown in FIG. 1, the
[0018]
A
[0019]
In the present embodiment, the
[0020]
As shown in FIG. 3, the
[0021]
As shown in FIGS. 6 and 7, the
[0022]
As shown in FIG. 4, the
[0023]
As shown in FIG. 5, the
[0024]
As shown in FIG. 5, the
[0025]
As shown in FIGS. 2, 5, and 7, the mounted
[0026]
The
[0027]
The
[0028]
The transponder is generally formed into a cylindrical shape including an antenna, a transceiver, and a memory, and the surface is covered and protected by glass, synthetic resin, etc. It functions to store the processing in the process or the processing progress.
[0029]
As shown in FIG. 4 and FIG. 7, the
[0030]
The reason why the average surface roughness (Ra) of the
[0031]
According to the above configuration, the
[0032]
In the above-described embodiment, the
[0037]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the wrinkle having an average surface roughness of 70 to 100 μm that performs water repellency is formed in a satin finish in the region where the cleaning liquid tends to remain in the mounting portion. It is possible to effectively suppress and prevent water droplets of the cleaning liquid from accumulating on the attachment parts of the robotic handle and the bottom plate. Accordingly, the drying operation can be speeded up, and the remaining water droplets are less likely to enter the inside of the container body to increase the contamination. In addition, there is no need to remove the robotic handle and bottom plate, which are separate parts, from the container body and clean them individually, eliminating the need for extra work of attaching and detaching separate parts, which improves workability and productivity. it can.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an overall perspective view showing an embodiment of a precision substrate storage container according to the present invention.
FIG. 2 is a bottom view showing a container body in an embodiment of a precision substrate storage container according to the present invention.
FIG. 3 is a plan view showing a container body in the embodiment of the precision substrate storage container according to the present invention.
FIG. 4 is a schematic cross-sectional explanatory view showing a mounting portion and a robotic handle in an embodiment of a precision substrate storage container according to the present invention.
FIG. 5 is a perspective explanatory view showing a bottom plate in an embodiment of the precision substrate storage container according to the present invention.
FIG. 6 is a bottom view showing a state in which the bottom plate is removed from the container main body in the embodiment of the precision substrate storage container according to the present invention.
FIG. 7 is an explanatory view showing the relationship between the container body and the bottom plate in the embodiment of the precision substrate storage container according to the present invention.
[Explanation of symbols]
1
10
33 Holding rail (mounting part)
40 Robotic handle (separate parts)
42 legs (attachment)
50 Bottom plate (separate parts)
54
Claims (1)
平面逆U字形の取付部は、容器本体の上面に間隔をおいて対設され、容器本体の前後方向に伸びる一対のガイドレールと、この一対のガイドレールの前端部間に形成されて容器本体の開口したフロント側に位置し、ロボティックハンドルに接触して位置決め固定する突き当たり壁とを含み、一対のガイドレールを容器本体のリア側からフロント側に向かうに従い徐々に幅が狭まるよう傾斜配置し、各ガイドレールを断面逆L字形に屈曲形成してその洗浄液の残存しやすい表面には洗浄液の水切り性を向上させる平均表面粗さが70〜100μmのしぼを梨地状に形成し、
ロボティックハンドルの各脚を断面L字形に屈曲形成してその自由端部をガイドレールの屈曲辺内にスライド可能に嵌合し、
取付部は、容器本体の下面後部に間隔をおいて対設され、容器本体の前後方向に指向する一対の保持レールを含み、各保持レールをL字形に屈曲形成してその洗浄液の残存しやすい表面には洗浄液の水切り性を向上させる平均表面粗さが70〜100μmのしぼを梨地状に形成し、各保持レールの短片を容器本体のフロント側に位置させ、
ボトムプレートのベース板両側部に被取付部の本体をそれぞれ張り出し形成し、各本体の前部外側からストッパ突起を前方に伸ばすとともに、各本体の前部内側からストッパ突起との間に切り欠き空間を形成する可撓性の首片を前方に伸ばしてこの首片の先端部外側には脱落防止突起を形成し、ストッパ突起と首片の脱落防止突起とに保持レールの短片を挟み持たせるようにしたことを特徴とする精密基板収納容器。 A container body of a front open box for storing a precision substrate, a planar inverted U-shaped attachment portion provided on the exposed upper surface of the container body, and a planar inverted U-shaped attachment portion. A robotic handle with a pair of legs extending from the back side, a mounting part provided on the exposed lower surface of the container body, and a mounting plate attached to the mounting part via a mounted part, with the base plate close to the rear surface of the container body A precision substrate storage container provided with a bottom plate to be opposed to the substrate and cleaned by a cleaning liquid and dried.
The plane inverted U-shaped attachment portion is formed between a pair of guide rails that are opposed to each other on the upper surface of the container body and extend in the front-rear direction of the container body, and a front end portion of the pair of guide rails. And a butting wall that contacts and fixes the robotic handle, and a pair of guide rails are inclined so that the width gradually decreases from the rear side of the container body toward the front side. In addition, each guide rail is bent to have an inverted L-shaped cross section, and on the surface where the cleaning liquid is likely to remain, a wrinkle having an average surface roughness of 70 to 100 μm is formed in a satin-like shape to improve the drainability of the cleaning liquid.
Each leg of the robotic handle is bent to have an L-shaped cross section, and its free end is slidably fitted into the bent side of the guide rail,
The mounting portion is provided at a distance from the lower rear portion of the container main body and includes a pair of holding rails oriented in the front-rear direction of the container main body. Each holding rail is bent into an L shape so that the cleaning liquid can easily remain. On the surface, a wrinkle with an average surface roughness of 70 to 100 μm that improves the drainability of the cleaning liquid is formed in a satin shape, and the short piece of each holding rail is positioned on the front side of the container body,
The body of the part to be attached is formed on both sides of the base plate of the bottom plate, and the stopper protrusion extends forward from the outside of the front of each body, and a notch space is formed between the front of each body and the stopper protrusion. The flexible neck piece forming the head is extended forward, a drop-out preventing projection is formed outside the tip of the neck piece, and the short piece of the holding rail is sandwiched between the stopper projection and the drop-out preventing projection of the neck piece. A precision substrate storage container characterized by that.
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