JP4282369B2 - Precision substrate storage container - Google Patents

Precision substrate storage container Download PDF

Info

Publication number
JP4282369B2
JP4282369B2 JP2003137654A JP2003137654A JP4282369B2 JP 4282369 B2 JP4282369 B2 JP 4282369B2 JP 2003137654 A JP2003137654 A JP 2003137654A JP 2003137654 A JP2003137654 A JP 2003137654A JP 4282369 B2 JP4282369 B2 JP 4282369B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
container body
container
cleaning liquid
pair
precision substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2003137654A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2004342844A (en
Inventor
正人 細井
俊行 鎌田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Polymer Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Polymer Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Polymer Co Ltd filed Critical Shin Etsu Polymer Co Ltd
Priority to JP2003137654A priority Critical patent/JP4282369B2/en
Publication of JP2004342844A publication Critical patent/JP2004342844A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4282369B2 publication Critical patent/JP4282369B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Packaging Frangible Articles (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、シリコンやガラスからなる半導体ウェーハやマスクガラス等の精密基板の収納、輸送、保管、加工等に使用される精密基板収納容器に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、半導体業界では生産量をより一層向上させるため、口径300mm以上の大口径のシリコンウェーハやガラスウェーハからなる精密基板が使用され始めている。この大口径の精密基板は、縦横いずれに支持しても自重で撓んでしまうので、破損しないよう精密基板収納容器に収納して安全に取り扱うことが求められる。
【0003】
この種の精密基板収納容器は、図示しないが、複数枚の精密基板を整列収納するフロントオープンボックスタイプの容器本体と、この容器本体の開口した正面を開閉する蓋体と、これら容器本体と蓋体との間に介在されてシールを形成するエンドレスのシールガスケットとから構成されている(特許文献1参照)。このような構成の精密基板収納容器は、使用に際しては、超純水やイソピルアルコール等からなる専用の洗浄液で洗浄され、表面の汚れが除去された後に精密基板が収納されて搬送や保管等に用いられる。
【0004】
ところで、精密基板収納容器の容器本体には、自動搬送、精密基板の識別、手動操作の便宜を図るため、別部品としてロボティックハンドル、ボトムプレート、一対のマニュアルハンドルが装着される。このため、容器本体の露出した表面には取付部が、別部品には被取付部がそれぞれ形成され、これら取付部と被取付部とが相互に嵌合することにより、ロボティックハンドル、ボトムプレート、一対のマニュアルハンドルが装着される。取付部と被取付部とは、例えば複数のL字形やU字形の係止片等を並べ備えた構造に成形されたり、あるいは一方が開口し、他方が閉塞した袋小路構造に成形される。
【0005】
【特許文献1】
特開2000−159288号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
従来の精密基板収納容器は、以上のように別部品に被取付部が単に形成されている関係上、洗浄して乾燥させる場合には、別部品の被取付部に洗浄液の水滴が残存して乾燥作業を遅延化させたり、あるいは残存した水滴が容器本体の内部に浸入して汚染を拡大させるという問題がある。
このような問題を解消するには、容器本体から別部品を取り外して個々に洗浄すれば良いが、そうすると、別部品の着脱という余分な作業が必要不可欠となり、作業性や生産性の悪化を招くこととなる。さらに、取付部や被取付部が袋小路等の複雑な構造で水切れ性の悪い場合、期待するほどの効果を得ることができない。
【0007】
本発明は、上記に鑑みなされたもので、別部品に液体が残存して乾燥作業を遅延させたり、あるいは残存した液体が容器本体に浸入して汚染を拡大させるおそれがなく、しかも、作業性等の悪化を招くことのない精密基板収納容器を提供することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明においては上記課題を解決するため、精密基板を収納するフロントオープンボックスの容器本体と、この容器本体の露出した上面に設けられる平面逆U字形の取付部と、この平面逆U字形の取付部に取り付けられ、把持用の把持板の裏面から一対の脚がそれぞれ伸長するロボティックハンドルと、容器本体の露出した下面に設けられる取付部と、この取付部に被取付部を介して取り付けられ、容器本体の下面後方にベース板を近接対向させるボトムプレートとを備え、洗浄液で洗浄して乾燥されるものであって、
平面逆U字形の取付部は、容器本体の上面に間隔をおいて対設され、容器本体の前後方向に伸びる一対のガイドレールと、この一対のガイドレールの前端部間に形成されて容器本体の開口したフロント側に位置し、ロボティックハンドルに接触して位置決め固定する突き当たり壁とを含み、一対のガイドレールを容器本体のリア側からフロント側に向かうに従い徐々に幅が狭まるよう傾斜配置し、各ガイドレールを断面逆L字形に屈曲形成してその洗浄液の残存しやすい表面には洗浄液の水切り性を向上させる平均表面粗さが70〜100μmのしぼを梨地状に形成し、
ロボティックハンドルの各脚を断面L字形に屈曲形成してその自由端部をガイドレールの屈曲辺内にスライド可能に嵌合し、
取付部は、容器本体の下面後部に間隔をおいて対設され、容器本体の前後方向に指向する一対の保持レールを含み、各保持レールをL字形に屈曲形成してその洗浄液の残存しやすい表面には洗浄液の水切り性を向上させる平均表面粗さが70〜100μmのしぼを梨地状に形成し、各保持レールの短片を容器本体のフロント側に位置させ、
ボトムプレートのベース板両側部に被取付部の本体をそれぞれ張り出し形成し、各本体の前部外側からストッパ突起を前方に伸ばすとともに、各本体の前部内側からストッパ突起との間に切り欠き空間を形成する可撓性の首片を前方に伸ばしてこの首片の先端部外側には脱落防止突起を形成し、ストッパ突起と首片の脱落防止突起とに保持レールの短片を挟み持たせるようにしたことを特徴としている。
【0009】
ここで特許請求の範囲における精密基板には、少なくとも電気、電子、半導体の分野で使用される6インチや8インチの半導体ウェーハ(シリコンウェーハ等)、マスクガラス、液晶セル、石英ガラス、マスク基板等の基板が含まれ、単数複数を特に問わない。容器本体には、必要に応じて蓋体を取り付けたり、帯電処理を施すことができる。
【0010】
しぼ(texture)とは、デザイン模様として付けられる梨地の模様をいう。このしぼは、取付部やその付近の液体の残存しやすい領域、被取付部やその付近の液体の残存しやすい領域に形成される。さらに、精密基板収納容器は、少なくとも半導体の製造に使用されるキャリア、工程間搬送キャリア(FOUP)、出荷用のFOSBとして利用することができる。
【0011】
本発明によれば、容器本体と別部品の洗浄液の溜まりやすい領域に、撥水機能のしぼを形成するので、洗浄液の溜まりやすい領域が洗浄液に濡れにくく、洗浄液がはじかれることとなり、洗浄後の乾燥作業時に別部品等に洗浄液が溜まるのを抑制することができる。したがって、乾燥時間を短縮し、残った洗浄液が容器本体内に浸入して汚染を拡大させるのを防ぐことができる。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施形態を説明すると、本実施形態における精密基板収納容器は、図1ないし図7に示すように、口径300mmの半導体ウェーハを収納する透視可能な透明な容器本体1と、この容器本体1を開閉する蓋体10と、これら容器本体1と蓋体10との間に介在されてシールを形成する枠形のシールガスケット20と、容器本体1の露出した上下面にそれぞれ配設される複数の取付部30・30Aと、容器本体上面の取付部30に着脱自在に嵌合されるロボティックハンドル40と、容器本体下面の取付部30Aに着脱自在に嵌合されるボトムプレート50とを備え、複数の取付部30・30Aにおける洗浄液の残存しやすい表面領域に、所定の粗さのしぼ70をそれぞれ形成するようにしている。
【0013】
容器本体1は、図1に示すように、軽量性や成形性等に優れるポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリエーテルイミド等の合成樹脂を使用して正面のみ開口したフロントオープンボックスタイプに射出成形され、図示しない複数枚(例えば、13枚、25枚、26枚)の半導体ウェーハを上下方向に所定のピッチで整列収納するよう機能する。この容器本体1は、変形しないよう十分な強度、剛性、寸法安定性が確保され、AGV(Auto Guided Vehiole)からなる自動搬送装置の正常な動作を保障する。
【0014】
容器本体1の内部両側には、相対向する支持ユニット2がそれぞれ対設され、この一対の支持ユニット2の対向面には、複数の支持リブ3が所定のピッチで上下方向にそれぞれ並設されており、相対する複数の支持リブ3に半導体ウェーハの側部周縁が水平に支持される。また、容器本体1の正面周縁は外方向に徐々に拡大してフランジ4を形成し、容器本体1の外部両側には、フランジ4の後方近傍に位置する被係止部5がそれぞれ突設されるとともに、掴持操作用のマニュアルハンドル6がそれぞれ着脱自在に装着される。各マニュアルハンドル6は、例えばL字形やU字形等に形成され、係合爪と係合溝、あるいは凹凸構造等を用いて容器本体1の外部側面における取付部に被取付部を介して装着される。
【0015】
容器本体1の下面(底面)の前部両側と後部中央とには図2に示すように、図示しない加工装置の位置決めピンと嵌合する位置決め具7がそれぞれ一体的、あるいは着脱自在の別体として配設され、この複数の位置決め具7が精密基板収納容器を加工装置に位置決めし、この状態で精密基板収納容器から加工装置に半導体ウェーハがローディングされたり、アンローディングされることとなる。各位置決め具7は、耐磨耗性等に優れるポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド等を使用して平面略小判形に成形され、下方に向かうにしたがい徐々に広がる断面略逆V字形の溝が切り欠かれる。
【0016】
ここで加工装置とは、精密基板収納容器を位置決めして蓋体10を自動的に外したり、位置決めされた精密基板収納容器から半導体ウェーハをローディングし、別の工程内容器に移し替える装置、あるいは蓋体10が取り外された精密基板収納容器から半導体ウェーハをローディングし、半導体ウェーハに酸化膜形成、フォトレジスト塗布、露光、エッチング、洗浄、薄膜形成等の各種処理を行う装置に半導体ウェーハを供給する装置をいう。
【0017】
蓋体10は、図1に示すように、容器本体1の開口した正面に対応する嵌合可能な略矩形に形成され、容器本体1の開口を着脱自在に開閉するよう機能する。この蓋体10の内面(容器本体1の背面に対向する面)には、縦長のフロントリテーナ11が着脱自在に装着され、このフロントリテーナ11には、複数の支持リブが所定のピッチで上下方向に並設されており、この複数の支持リブに半導体ウェーハの前部周縁が水平に支持される。
【0018】
蓋体10の周縁部にはシールガスケット20が突起や溝等を介して着脱自在に嵌合され、このシールガスケット20が容器本体正面の内周部に圧接されることによりシール機能を発揮する。このシールガスケット20は、例えばポリオレフィン系やポリエステル系の各種熱可塑性エラストマー、フッ素ゴム、シリコーンゴム等を用いて成形される。好ましくは、半導体ウェーハを汚染させる有機成分の発生が少なく、JISのK6301Aの測定方法による硬度が80°以下となる材料を用いて成形される。また、蓋体10の左右両側部には、U字形の切り欠きを備えた係止片13がそれぞれ回転可能に軸支され、各係止片13の切り欠きが容器本体1の被係止部5に嵌合係止することにより、蓋体10が容器本体1の開口を閉鎖して被覆する。
【0019】
なお、本実施形態では単に蓋体10を示すが、何らこれに限定されるものではない。例えば、蓋体10に、外部からの操作で動作するラッチ機構を内蔵し、蓋体10の装着時にラッチ機構の複数の係止爪を蓋体10の周縁部からそれぞれ突出させ、各係止爪を容器本体正面の内周面上下に穿孔した複数の係止穴に嵌入係止させ、容器本体1の正面を覆う蓋体10を固定するようにしても良い。
【0020】
取付部30は、図3に示すように、容器本体1の露出した上面中央付近に平面略逆U字形に形成される。この取付部30は、容器本体1の上面に間隔をおいて対設される一対のガイドレール31を備え、この一対のガイドレール31のフロント側間に、ストッパ機能を有する突き当たり壁32が一体形成される。一対のガイドレール31は、図3や図4に示すように、リア側からフロント側に向かうにしたがい徐々に幅が狭まるよう内側に向けて傾斜配置され、各ガイドレール31が断面逆L字形に形成される。このような構造の取付部30は、一対のガイドレール31間のリア側から嵌入されるロボティックハンドル40をフロント側にスライドさせ、突き当たり壁32にロボティックハンドル40を当接させて位置決め固定する。
【0021】
取付部30Aは、図6や図7に示すように、容器本体1の露出した下面の後部両側に形成される。この取付部30Aは、容器本体1の下面に間隔をおいて対設される一対の保持レール33を備え、各保持レール33がL字形に形成されており、各保持レール33のリア側が開口形成されるとともに、フロント側が閉塞形成される。このような構造の取付部30Aは、一対の保持レール33間のリア側から嵌入されるボトムプレート50をフロント側にスライドさせ、位置決め固定する。
【0022】
ロボティックハンドル40は、図4に示すように、図示しない天井搬送機に把持される平面矩形の把持板41と、断面L字形に形成されて把持板41の裏面両側部からそれぞれ伸長形成される一対の脚42とから断面略π字の別部品として成形され、被取付部である各脚42の自由端部がガイドレール31の屈曲辺内に嵌合される。
【0023】
ボトムプレート50は、図5に示すように、識別領域である容器本体1の下面後方に近接対向するベース板51と、このベース板51の後端部に立設されて容器本体1の背面の一部(識別領域)に対向する壁板59と、ベース板51と壁板59のいずれかに保持機構を介し選択的に支持されてRFIDシステムの応答器(図示せず)を嵌合収容するホルダ60とから別部品として構成される。このボトムプレート50は、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート等を用いて成形される。
【0024】
ボトムプレート50のベース板51は、図5に示すように、多角形の平板からなり、前端部中央から後方にかけて略半小判形の回避溝52が切り欠かれており、この回避溝52が容器本体1の後部の位置決め具7に後方から嵌合してボトムプレート50が位置決め具7に不当に干渉するのを規制する。このベース板51には、複数のキャップ孔53が所定の間隔で丸く穿孔され、この複数のキャップ孔53には、加工装置が半導体ウェーハの仕様(例えば、半導体ウェーハの枚数等)を識別するための図示しないキャップが必要に応じ、選択的に挿入される。ベース板51の左右両側部には、被取付部54がそれぞれ配設され、各被取付部54が容器本体1の取付部30Aに着脱自在に嵌合するよう機能する。
【0025】
被取付部54は、図2、図5、図7に示すように、例えばベース板51の側部に張り出し形成される本体55と、この本体55の前部外側から前方に伸びるストッパ突起56と、本体55の前部内側から前方にストッパ突起56よりも細長く伸びる可撓性の首片57と、この首片57の先端部外側に略三角形状に形成される脱落防止突起58と、ストッパ突起56と首片57との間に区画形成される切り欠き空間とから成形される。ストッパ突起56と脱落防止突起58とは、保持レール33の長片内側に位置して短片を挟持し、この挟持により容器本体1にボトムプレート50が強固に装着される。
【0026】
ボトムプレート50の壁板59は、横長の矩形に形成され、容器本体1に対向しない対向面にバーコード領域が形成される。このバーコード領域には、バーコードが貼着されたり、バーコードがポケットを介し着脱自在に挿入される。
【0027】
ホルダ60は、所定の熱可塑性樹脂を使用して中空の略半円柱形、断面略U字形等に形成され、背面や側部等に複数の水切り孔が所定の間隔で穿孔されており、この複数の水切り孔が洗浄時の水切り性を向上させたり、応答器の有無やその破損の有無を視覚的に把握させる。このホルダ60の内部には、応答器の脱落を規制する抜け落ち防止爪が突設される。ホルダ60の開口面の左右両側部には、単数複数のフランジ4がそれぞれ外方向に突設され、各フランジ4が保持機構に着脱自在に係止される。
【0028】
応答器は、一般的にはアンテナ、送受信器、及びメモリーを備えて円筒形に形成され、表面がガラスや合成樹脂等により被覆保護されており、ホルダ60に嵌合されて半導体ウェーハのロット、工程内の加工、あるいは処理経過を記憶するよう機能する。
【0029】
しぼ70は、図4や図7に示すように、複数の取付部30・30Aにおける洗浄液の残存しやすい領域、換言すれば、ガイドレール31と保持レール33の表面やその付近に、JIS B 0601−2001に基づく平均表面粗さ(Ra)が10a(10μm)〜100a(100μm)、好ましくは30a〜70a、より好ましくは50a(50μm)となるようそれぞれ梨地状に形成され、洗浄後の水切り性を向上させる。
【0030】
しぼ70の平均表面粗さ(Ra)が10a〜100aの範囲なのは、10a未満の場合には、洗浄後の水切り性を向上させることができないからである。逆に、100aを超える場合には、しぼ70の表面が擦れて脱離したり、しぼ70の凹凸部にパーティクルが付着しやすくなるからである。このようなしぼ70は、容器本体用の金型のキャビティに放電加工やサンドブラスト加工を施し、これを成形時に転写することにより、形成される。
【0031】
上記構成によれば、取付部30・30Aにおける洗浄液の残存しやすい領域に、撥水作用を営む粗面のしぼ70を形成するので、洗浄後の乾燥作業時にロボティックハンドル40やボトムプレート50の被取付部54に洗浄液の水滴が溜まるのをきわめて有効に抑制防止することができる。したがって、乾燥作業の迅速化を図ることができ、しかも、残存した水滴が容器本体1の内部に浸入して汚染を拡大させることがない。さらに、容器本体1から別部品であるロボティックハンドル40やボトムプレート50を取り外して個々に洗浄する必要がないので、別部品の着脱という余分な作業が不要となり、作業性や生産性の著しい向上を図ることができる。
【0032】
なお、上記実施形態では容器本体下面の取付部30Aに小型のボトムプレート50を着脱自在に嵌合したが、何らこれに限定されるものではない。例えば、ボトムプレート50を大型に形成してその両側部を容器本体1の下面両側部から露出させ、このボトムプレート50の両側部に容器本体1の側壁に対向する対向板をそれぞれ立て設け、各対向板にマニュアルハンドル6を着脱自在に取り付けても良い。
【0037】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、取付部における洗浄液の残存しやすい領域に、撥水作用を営む平均表面粗さが70〜100μmのしぼを梨地状に形成するので、洗浄後の乾燥作業時にロボティックハンドルやボトムプレートの被取付部に洗浄液の水滴が溜まるのを有効に抑制防止することができる。したがって、乾燥作業の迅速化を図ることができ、しかも、残存した水滴が容器本体の内部に浸入して汚染を拡大させることが少ない。また、容器本体から別部品であるロボティックハンドルやボトムプレートを取り外して個々に洗浄する必要がないので、別部品の着脱という余分な作業が不要となり、作業性や生産性の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る精密基板収納容器の実施形態を示す全体斜視説明図である。
【図2】本発明に係る精密基板収納容器の実施形態における容器本体を示す底面図である。
【図3】本発明に係る精密基板収納容器の実施形態における容器本体を示す平面図である。
【図4】本発明に係る精密基板収納容器の実施形態における取付部とロボティックハンドルとを示す模式断面説明図である。
【図5】本発明に係る精密基板収納容器の実施形態におけるボトムプレートを示す斜視説明図である。
【図6】本発明に係る精密基板収納容器の実施形態における容器本体からボトムプレートを取り外した状態を示す底面図である。
【図7】本発明に係る精密基板収納容器の実施形態における容器本体とボトムプレートとの関係を示す説明図である。
【符号の説明】
1 容器本体
6 マニュアルハンドル(別部品)
10 蓋体
30 取付部
30A 取付部
31 ガイドレール(取付部)
33 保持レール(取付部)
40 ロボティックハンドル(別部品)
42 脚(被取付部)
50 ボトムプレート(別部品)
54 被取付部
55 本体
56 ストッパ突起
57 首片
58 脱落防止突起
70 しぼ
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a precision substrate storage container used for storing, transporting, storing and processing precision substrates such as semiconductor wafers and mask glasses made of silicon or glass.
[0002]
[Prior art]
In recent years, in order to further improve the production volume in the semiconductor industry, a precision substrate made of a silicon wafer or a glass wafer having a large diameter of 300 mm or more has begun to be used. The large-diameter precision substrate is bent by its own weight regardless of whether it is supported vertically or horizontally, so that it is required to be stored safely in a precision substrate storage container so as not to be damaged.
[0003]
Although not shown, this type of precision substrate storage container includes a front open box type container body that aligns and stores a plurality of precision substrates, a lid body that opens and closes the front surface of the container body, and the container body and lid. It is comprised from the endless seal gasket which is interposed between the body and forms a seal | sticker (refer patent document 1). In use, the precision substrate storage container having such a structure is cleaned with a special cleaning liquid made of ultrapure water, isopropyl alcohol, etc., and after the surface is removed, the precision substrate is stored and transported or stored. Used for.
[0004]
By the way, a robotic handle, a bottom plate, and a pair of manual handles are mounted as separate components on the container body of the precision substrate storage container for convenience of automatic transport, identification of the precision substrate, and manual operation. For this reason, a mounting part is formed on the exposed surface of the container body, and a mounting part is formed on another part, and the mounting part and the mounting part are fitted to each other, so that the robotic handle, the bottom plate A pair of manual handles are mounted. The attachment portion and the attachment portion are formed, for example, in a structure including a plurality of L-shaped or U-shaped locking pieces or the like, or formed in a bag path structure in which one is open and the other is closed.
[0005]
[Patent Document 1]
JP 2000-159288 A [0006]
[Problems to be solved by the invention]
Since the conventional precision substrate storage container simply has the mounting part formed on the separate part as described above, when cleaning and drying, water droplets of the cleaning liquid remain on the mounting part of the separate part. There is a problem that the drying operation is delayed or the remaining water drops enter the inside of the container body to increase the contamination.
In order to solve such problems, it is only necessary to remove the separate parts from the container body and clean them individually. However, if this is done, the extra work of attaching and detaching the separate parts becomes indispensable, leading to deterioration in workability and productivity. It will be. Furthermore, when the attachment portion and the attachment portion have a complicated structure such as a bag path and the water drainability is poor, an effect as expected cannot be obtained.
[0007]
The present invention has been made in view of the above, and there is no possibility that the liquid remains in another part and delays the drying operation, or the remaining liquid enters the container body and expands the contamination. It is an object of the present invention to provide a precision substrate storage container that does not cause such deterioration.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, a container body of a front open box that houses a precision substrate, a planar inverted U-shaped mounting portion provided on the exposed upper surface of the container body, and a planar inverted U-shaped mounting A robotic handle with a pair of legs extending from the back surface of the gripping plate for gripping, a mounting portion provided on the exposed lower surface of the container body, and a mounting portion attached to the mounting portion via a mounted portion A bottom plate that causes the base plate to face and oppose the lower surface of the container body, and is washed with a cleaning liquid and dried.
The plane inverted U-shaped attachment portion is formed between a pair of guide rails that are opposed to each other on the upper surface of the container body and extend in the front-rear direction of the container body, and a front end portion of the pair of guide rails. And a butting wall that contacts and fixes the robotic handle, and a pair of guide rails are inclined so that the width gradually decreases from the rear side of the container body toward the front side. In addition, each guide rail is bent to have an inverted L-shaped cross section, and on the surface where the cleaning liquid is likely to remain, a wrinkle having an average surface roughness of 70 to 100 μm is formed in a satin-like shape to improve the drainability of the cleaning liquid.
Each leg of the robotic handle is bent to have an L-shaped cross section, and its free end is slidably fitted into the bent side of the guide rail,
The mounting portion is provided at a distance from the lower rear portion of the container main body and includes a pair of holding rails oriented in the front-rear direction of the container main body. Each holding rail is bent into an L shape so that the cleaning liquid can easily remain. On the surface, a wrinkle with an average surface roughness of 70 to 100 μm that improves the drainability of the cleaning liquid is formed in a satin shape, and the short piece of each holding rail is positioned on the front side of the container body,
The body of the part to be attached is formed on both sides of the base plate of the bottom plate, and the stopper protrusion extends forward from the outside of the front of each body, and a notch space is formed between the front of each body and the stopper protrusion. The flexible neck piece forming the head is extended forward, a drop-out preventing projection is formed outside the tip of the neck piece, and the short piece of the holding rail is sandwiched between the stopper projection and the drop-out preventing projection of the neck piece. It is characterized in the thing.
[0009]
Here, the precision substrate in the claims includes at least a 6-inch or 8-inch semiconductor wafer (silicon wafer, etc.) used in the electric, electronic, and semiconductor fields, mask glass, liquid crystal cell, quartz glass, mask substrate, etc. There is no particular limitation on the singular number. The container body can be attached with a lid or subjected to a charging process as necessary .
[0010]
A texture refers to a satin pattern that is applied as a design pattern. The grain is formed in a region where the liquid in the attachment portion and the vicinity thereof is likely to remain, and in a region where the liquid in the attachment portion and the vicinity thereof is likely to remain. Furthermore, the precision substrate storage container can be used at least as a carrier used for manufacturing a semiconductor, an inter-process carrier (FOUP), and a shipping FOSB.
[0011]
According to the present invention, the water repellent function is formed in a region where the cleaning liquid separate from the container main body tends to accumulate, so that the region where the cleaning liquid easily accumulates is difficult to get wet with the cleaning liquid, and the cleaning liquid is repelled. It is possible to prevent the cleaning liquid from accumulating in another part or the like during the drying operation. Therefore, it is possible to shorten the drying time and prevent the remaining cleaning liquid from entering the container body and expanding the contamination.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIGS. 1 to 7, a precision substrate storage container according to the present embodiment is a transparent transparent material that stores a semiconductor wafer having a diameter of 300 mm. The container body 1, the lid body 10 that opens and closes the container body 1, the frame-shaped seal gasket 20 that is interposed between the container body 1 and the lid body 10 to form a seal, and the container body 1 is exposed. A plurality of attachment portions 30 and 30A respectively disposed on the upper and lower surfaces, a robotic handle 40 that is detachably fitted to the attachment portion 30 on the upper surface of the container body, and a detachable fit on the attachment portion 30A on the lower surface of the container body. The bottom plate 50 is combined with each other, and the wrinkles 70 having a predetermined roughness are respectively formed on the surface regions where the cleaning liquid easily remains in the plurality of attachment portions 30 and 30A.
[0013]
As shown in FIG. 1, the container body 1 is injection-molded into a front open box type that is open only on the front surface using a synthetic resin such as polycarbonate, cycloolefin polymer, polyetherimide, etc. that is excellent in lightness and moldability, A plurality of semiconductor wafers (for example, 13, 25, and 26) (not shown) function so as to be aligned and stored at a predetermined pitch in the vertical direction. The container body 1 has sufficient strength, rigidity, and dimensional stability so as not to be deformed, and ensures the normal operation of an automatic transfer device made of AGV (Auto Guided Vehicle).
[0014]
Opposite support units 2 are provided on opposite sides of the inside of the container body 1, and a plurality of support ribs 3 are arranged in parallel in a vertical direction on the opposing surfaces of the pair of support units 2. The peripheral edge of the semiconductor wafer is horizontally supported by a plurality of opposing support ribs 3. Further, the front peripheral edge of the container main body 1 is gradually enlarged outward to form flanges 4, and locked portions 5 located in the vicinity of the rear of the flange 4 are respectively provided on both outer sides of the container main body 1. At the same time, the manual handle 6 for gripping operation is detachably mounted. Each manual handle 6 is formed in, for example, an L shape, a U shape, or the like, and is attached to an attachment portion on the outer side surface of the container body 1 via an attachment portion using an engagement claw and an engagement groove, or an uneven structure. The
[0015]
As shown in FIG. 2, positioning tools 7 fitted to positioning pins of a processing apparatus (not shown) are integrally or detachably provided on both sides of the front and bottom of the bottom surface (bottom surface) of the container body 1. The plurality of positioning tools 7 position the precision substrate storage container to the processing apparatus, and in this state, the semiconductor wafer is loaded or unloaded from the precision substrate storage container to the processing apparatus. Each positioning tool 7 is formed into a substantially flat oval shape using polypropylene, polycarbonate, polybutylene terephthalate, polyether ether ketone, polyether imide, etc., which have excellent wear resistance, and gradually spreads downward. A groove having a substantially V-shaped cross section is cut out.
[0016]
Here, the processing apparatus is an apparatus that positions the precision substrate storage container and automatically removes the lid 10, loads a semiconductor wafer from the positioned precision substrate storage container, and transfers it to another in-process container, or The semiconductor wafer is loaded from the precision substrate storage container with the lid 10 removed, and the semiconductor wafer is supplied to an apparatus that performs various processes such as oxide film formation, photoresist coating, exposure, etching, cleaning, and thin film formation on the semiconductor wafer. Refers to the device.
[0017]
As shown in FIG. 1, the lid body 10 is formed in a substantially rectangular shape that can be fitted to the front surface of the container body 1 and functions to open and close the opening of the container body 1 detachably. A longitudinally long front retainer 11 is detachably mounted on the inner surface of the lid 10 (the surface facing the back of the container body 1). A plurality of support ribs are vertically attached to the front retainer 11 at a predetermined pitch. The front peripheral edge of the semiconductor wafer is horizontally supported by the plurality of support ribs.
[0018]
A seal gasket 20 is detachably fitted to the peripheral edge portion of the lid body 10 through protrusions, grooves, and the like, and the seal gasket 20 exerts a sealing function by being pressed against the inner peripheral portion of the front surface of the container body. The seal gasket 20 is formed using, for example, various polyolefin-based or polyester-based thermoplastic elastomers, fluorine rubber, silicone rubber, or the like. Preferably, molding is performed using a material that generates less organic components that contaminate the semiconductor wafer and has a hardness of 80 ° or less according to the measurement method of JIS K6301A. Further, locking pieces 13 having U-shaped cutouts are rotatably supported on the left and right side portions of the lid body 10, and the cutouts of the respective lock pieces 13 are locked portions of the container body 1. The lid body 10 closes and covers the opening of the container body 1 by being fitted and locked to 5.
[0019]
In the present embodiment, the lid body 10 is simply shown, but the present invention is not limited to this. For example, a latch mechanism that operates by an external operation is built in the lid body 10, and when the lid body 10 is mounted, a plurality of latching claws of the latch mechanism protrude from the peripheral edge of the lid body 10, May be fitted and locked in a plurality of locking holes perforated above and below the inner peripheral surface of the front surface of the container body, and the lid body 10 covering the front surface of the container body 1 may be fixed.
[0020]
As shown in FIG. 3, the attachment portion 30 is formed in a substantially planar U-shape in the vicinity of the exposed upper surface center of the container body 1. The mounting portion 30 includes a pair of guide rails 31 that are opposed to each other on the upper surface of the container body 1, and an abutting wall 32 having a stopper function is integrally formed between the front sides of the pair of guide rails 31. Is done. As shown in FIGS. 3 and 4, the pair of guide rails 31 are inclined inward so that the width gradually decreases from the rear side toward the front side, and each guide rail 31 has an inverted L-shaped cross section. It is formed. The mounting portion 30 having such a structure slides the robotic handle 40 inserted from the rear side between the pair of guide rails 31 to the front side, and makes the robotic handle 40 abut against the abutting wall 32 to fix the positioning. .
[0021]
As shown in FIGS. 6 and 7, the attachment portions 30 </ b> A are formed on both sides of the rear portion of the exposed lower surface of the container body 1. The mounting portion 30A includes a pair of holding rails 33 that are opposed to each other on the lower surface of the container body 1, and each holding rail 33 is formed in an L shape, and the rear side of each holding rail 33 is formed with an opening. At the same time, the front side is closed. The mounting portion 30 </ b> A having such a structure slides and fixes the bottom plate 50 inserted from the rear side between the pair of holding rails 33 to the front side.
[0022]
As shown in FIG. 4, the robotic handle 40 has a flat rectangular gripping plate 41 gripped by a ceiling transporter (not shown), and is formed in an L-shaped cross section so as to extend from both sides of the back surface of the gripping plate 41. It is molded as a separate part having a substantially π-shaped cross section from the pair of legs 42, and the free end portion of each leg 42, which is a mounted portion, is fitted into the bent side of the guide rail 31.
[0023]
As shown in FIG. 5, the bottom plate 50 is provided with a base plate 51 that is close to and opposed to the rear surface of the lower surface of the container body 1, which is an identification area, and a rear end portion of the base plate 51. An RFID system responder (not shown) is fitted and accommodated by selectively supporting a wall plate 59 facing a part (identification region) and either the base plate 51 or the wall plate 59 via a holding mechanism. It is configured as a separate part from the holder 60. The bottom plate 50 is formed using polypropylene, polycarbonate, polybutylene terephthalate, or the like.
[0024]
As shown in FIG. 5, the base plate 51 of the bottom plate 50 is formed of a polygonal flat plate, and a substantially semi-oval-shaped avoiding groove 52 is cut out from the center of the front end portion to the rear. The bottom plate 50 is prevented from improperly interfering with the positioning tool 7 by being fitted to the rear positioning tool 7 from the rear. A plurality of cap holes 53 are formed in the base plate 51 in a round shape at a predetermined interval, and a processing apparatus identifies the specifications of the semiconductor wafer (for example, the number of semiconductor wafers, etc.) in the plurality of cap holes 53. The cap (not shown) is selectively inserted as necessary. At the left and right side portions of the base plate 51, attached portions 54 are disposed, respectively, and each attached portion 54 functions so as to be detachably fitted to the attaching portion 30A of the container body 1.
[0025]
As shown in FIGS. 2, 5, and 7, the mounted portion 54 includes, for example, a main body 55 that projects from the side portion of the base plate 51, and a stopper protrusion 56 that extends forward from the outer front portion of the main body 55. A flexible neck piece 57 extending from the front inner side of the main body 55 to the front and longer than the stopper projection 56, a drop-off prevention projection 58 formed in a substantially triangular shape outside the tip of the neck piece 57, and a stopper projection 56 and a notch space defined between the neck piece 57 and the neck piece 57. The stopper projection 56 and the drop-off prevention projection 58 are positioned inside the long piece of the holding rail 33 to sandwich the short piece, and the bottom plate 50 is firmly attached to the container body 1 by this clamping.
[0026]
The wall plate 59 of the bottom plate 50 is formed in a horizontally long rectangle, and a barcode area is formed on the facing surface that does not face the container body 1. In this bar code area, a bar code is attached, or the bar code is detachably inserted through a pocket.
[0027]
The holder 60 is formed into a hollow substantially semi-cylindrical shape, a substantially U-shaped cross section, etc. using a predetermined thermoplastic resin, and a plurality of drain holes are drilled at predetermined intervals on the back surface, side portions, etc. A plurality of drain holes improve drainage performance during cleaning, and allow visual recognition of the presence or absence of a responder and its breakage. Inside the holder 60, a drop-out preventing claw for restricting drop-out of the responder is provided. A plurality of flanges 4 project outward from the left and right sides of the opening surface of the holder 60, and each flange 4 is detachably locked to the holding mechanism.
[0028]
The transponder is generally formed into a cylindrical shape including an antenna, a transceiver, and a memory, and the surface is covered and protected by glass, synthetic resin, etc. It functions to store the processing in the process or the processing progress.
[0029]
As shown in FIG. 4 and FIG. 7, the crease 70 is provided on the surface of the guide rail 31 and the holding rail 33 and in the vicinity thereof in the region where the cleaning liquid tends to remain in the plurality of attachment portions 30 and 30A. -The surface roughness (Ra) based on 2001 is 10a (10 [mu] m) to 100a (100 [mu] m), preferably 30a to 70a, more preferably 50a (50 [mu] m). To improve.
[0030]
The reason why the average surface roughness (Ra) of the grain 70 is in the range of 10a to 100a is that when it is less than 10a, drainage after washing cannot be improved. On the other hand, when it exceeds 100a, the surface of the grain 70 is rubbed and detached, or particles are likely to adhere to the uneven part of the grain 70. Such a grain 70 is formed by applying electric discharge machining or sand blasting to a cavity of a container body mold and transferring it at the time of molding.
[0031]
According to the above configuration, the rough surface grain 70 that performs water repellency is formed in the region where the cleaning liquid tends to remain in the attachment portions 30 and 30A, so that the robotic handle 40 and the bottom plate 50 can be removed during the drying operation after cleaning. Accumulation of water droplets of the cleaning liquid on the attached portion 54 can be suppressed and prevented very effectively. Accordingly, the drying operation can be speeded up, and the remaining water droplets do not enter the inside of the container body 1 to increase the contamination. Furthermore, since it is not necessary to remove the robotic handle 40 and the bottom plate 50, which are separate parts, from the container body 1 and clean them individually, the extra work of attaching / detaching separate parts is unnecessary, and the workability and productivity are significantly improved. Can be achieved.
[0032]
In the above-described embodiment, the small bottom plate 50 is detachably fitted to the attachment portion 30A on the lower surface of the container body. However, the present invention is not limited to this. For example, the bottom plate 50 is formed in a large size and both side portions thereof are exposed from both side portions of the lower surface of the container main body 1, and opposing plates facing the side walls of the container main body 1 are provided on both side portions of the bottom plate 50, respectively. The manual handle 6 may be detachably attached to the counter plate.
[0037]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the wrinkle having an average surface roughness of 70 to 100 μm that performs water repellency is formed in a satin finish in the region where the cleaning liquid tends to remain in the mounting portion. It is possible to effectively suppress and prevent water droplets of the cleaning liquid from accumulating on the attachment parts of the robotic handle and the bottom plate. Accordingly, the drying operation can be speeded up, and the remaining water droplets are less likely to enter the inside of the container body to increase the contamination. In addition, there is no need to remove the robotic handle and bottom plate, which are separate parts, from the container body and clean them individually, eliminating the need for extra work of attaching and detaching separate parts, which improves workability and productivity. it can.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an overall perspective view showing an embodiment of a precision substrate storage container according to the present invention.
FIG. 2 is a bottom view showing a container body in an embodiment of a precision substrate storage container according to the present invention.
FIG. 3 is a plan view showing a container body in the embodiment of the precision substrate storage container according to the present invention.
FIG. 4 is a schematic cross-sectional explanatory view showing a mounting portion and a robotic handle in an embodiment of a precision substrate storage container according to the present invention.
FIG. 5 is a perspective explanatory view showing a bottom plate in an embodiment of the precision substrate storage container according to the present invention.
FIG. 6 is a bottom view showing a state in which the bottom plate is removed from the container main body in the embodiment of the precision substrate storage container according to the present invention.
FIG. 7 is an explanatory view showing the relationship between the container body and the bottom plate in the embodiment of the precision substrate storage container according to the present invention.
[Explanation of symbols]
1 Container body 6 Manual handle (separate parts)
10 Lid 30 Mounting part 30A Mounting part 31 Guide rail (Mounting part)
33 Holding rail (mounting part)
40 Robotic handle (separate parts)
42 legs (attachment)
50 Bottom plate (separate parts)
54 Mounted portion 55 Main body 56 Stopper projection 57 Neck piece 58 Fall-off prevention projection 70 Shrinkage

Claims (1)

精密基板を収納するフロントオープンボックスの容器本体と、この容器本体の露出した上面に設けられる平面逆U字形の取付部と、この平面逆U字形の取付部に取り付けられ、把持用の把持板の裏面から一対の脚がそれぞれ伸長するロボティックハンドルと、容器本体の露出した下面に設けられる取付部と、この取付部に被取付部を介して取り付けられ、容器本体の下面後方にベース板を近接対向させるボトムプレートとを備え、洗浄液で洗浄して乾燥される精密基板収納容器であって、
平面逆U字形の取付部は、容器本体の上面に間隔をおいて対設され、容器本体の前後方向に伸びる一対のガイドレールと、この一対のガイドレールの前端部間に形成されて容器本体の開口したフロント側に位置し、ロボティックハンドルに接触して位置決め固定する突き当たり壁とを含み、一対のガイドレールを容器本体のリア側からフロント側に向かうに従い徐々に幅が狭まるよう傾斜配置し、各ガイドレールを断面逆L字形に屈曲形成してその洗浄液の残存しやすい表面には洗浄液の水切り性を向上させる平均表面粗さが70〜100μmのしぼを梨地状に形成し、
ロボティックハンドルの各脚を断面L字形に屈曲形成してその自由端部をガイドレールの屈曲辺内にスライド可能に嵌合し、
取付部は、容器本体の下面後部に間隔をおいて対設され、容器本体の前後方向に指向する一対の保持レールを含み、各保持レールをL字形に屈曲形成してその洗浄液の残存しやすい表面には洗浄液の水切り性を向上させる平均表面粗さが70〜100μmのしぼを梨地状に形成し、各保持レールの短片を容器本体のフロント側に位置させ、
ボトムプレートのベース板両側部に被取付部の本体をそれぞれ張り出し形成し、各本体の前部外側からストッパ突起を前方に伸ばすとともに、各本体の前部内側からストッパ突起との間に切り欠き空間を形成する可撓性の首片を前方に伸ばしてこの首片の先端部外側には脱落防止突起を形成し、ストッパ突起と首片の脱落防止突起とに保持レールの短片を挟み持たせるようにしたことを特徴とする精密基板収納容器。
A container body of a front open box for storing a precision substrate, a planar inverted U-shaped attachment portion provided on the exposed upper surface of the container body, and a planar inverted U-shaped attachment portion. A robotic handle with a pair of legs extending from the back side, a mounting part provided on the exposed lower surface of the container body, and a mounting plate attached to the mounting part via a mounted part, with the base plate close to the rear surface of the container body A precision substrate storage container provided with a bottom plate to be opposed to the substrate and cleaned by a cleaning liquid and dried.
The plane inverted U-shaped attachment portion is formed between a pair of guide rails that are opposed to each other on the upper surface of the container body and extend in the front-rear direction of the container body, and a front end portion of the pair of guide rails. And a butting wall that contacts and fixes the robotic handle, and a pair of guide rails are inclined so that the width gradually decreases from the rear side of the container body toward the front side. In addition, each guide rail is bent to have an inverted L-shaped cross section, and on the surface where the cleaning liquid is likely to remain, a wrinkle having an average surface roughness of 70 to 100 μm is formed in a satin-like shape to improve the drainability of the cleaning liquid.
Each leg of the robotic handle is bent to have an L-shaped cross section, and its free end is slidably fitted into the bent side of the guide rail,
The mounting portion is provided at a distance from the lower rear portion of the container main body and includes a pair of holding rails oriented in the front-rear direction of the container main body. Each holding rail is bent into an L shape so that the cleaning liquid can easily remain. On the surface, a wrinkle with an average surface roughness of 70 to 100 μm that improves the drainability of the cleaning liquid is formed in a satin shape, and the short piece of each holding rail is positioned on the front side of the container body,
The body of the part to be attached is formed on both sides of the base plate of the bottom plate, and the stopper protrusion extends forward from the outside of the front of each body, and a notch space is formed between the front of each body and the stopper protrusion. The flexible neck piece forming the head is extended forward, a drop-out preventing projection is formed outside the tip of the neck piece, and the short piece of the holding rail is sandwiched between the stopper projection and the drop-out preventing projection of the neck piece. A precision substrate storage container characterized by that.
JP2003137654A 2003-05-15 2003-05-15 Precision substrate storage container Expired - Lifetime JP4282369B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003137654A JP4282369B2 (en) 2003-05-15 2003-05-15 Precision substrate storage container

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003137654A JP4282369B2 (en) 2003-05-15 2003-05-15 Precision substrate storage container

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004342844A JP2004342844A (en) 2004-12-02
JP4282369B2 true JP4282369B2 (en) 2009-06-17

Family

ID=33527270

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003137654A Expired - Lifetime JP4282369B2 (en) 2003-05-15 2003-05-15 Precision substrate storage container

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4282369B2 (en)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7357256B2 (en) 2005-03-31 2008-04-15 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Wafer pod with working sheet holder
JP4519056B2 (en) * 2005-10-27 2010-08-04 信越ポリマー株式会社 Precision substrate storage container
JP4681485B2 (en) 2006-03-30 2011-05-11 東京エレクトロン株式会社 Wafer case operation method, wafer case transfer method, and wafer case transfer holding part
JP4915993B2 (en) * 2006-09-13 2012-04-11 信越ポリマー株式会社 Identification component holding member and substrate storage container
JP4852023B2 (en) * 2007-11-19 2012-01-11 信越ポリマー株式会社 Retainer and substrate storage container
CN103227116B (en) * 2013-03-29 2016-01-20 日月光半导体制造股份有限公司 Its optical module of light-permeable shell and manufacture method thereof and application
JP6083748B2 (en) * 2013-07-01 2017-02-22 信越ポリマー株式会社 Substrate storage container
JP6067123B2 (en) * 2013-08-22 2017-01-25 ミライアル株式会社 Substrate storage container
JP7333224B2 (en) * 2019-08-09 2023-08-24 信越ポリマー株式会社 Substrate storage container

Also Published As

Publication number Publication date
JP2004342844A (en) 2004-12-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4233392B2 (en) Substrate storage container
JP3556519B2 (en) Substrate storage container identification structure and substrate storage container identification method
EP2306504B1 (en) Support body and substrate storage container
JP3370279B2 (en) Precision substrate storage container
US7523829B2 (en) Precision substrate storage container
JP4282369B2 (en) Precision substrate storage container
JP2000306988A (en) Substrate container
US8365919B2 (en) Substrate storage container
KR19990029386A (en) Transport container
KR20060082078A (en) Substrate containing case
US6220438B1 (en) Container for transporting precision substrates
JP4825241B2 (en) Substrate storage container
JP4159946B2 (en) Substrate storage container
JP2004111830A (en) Substrate housing container
JP4090115B2 (en) Substrate storage container
JP4372313B2 (en) Substrate storage container
JP4175939B2 (en) Precision substrate storage container
JP2023095916A (en) Substrate storage container
JP2002110776A (en) Precision board storing vessel
JP5435584B2 (en) Substrate storage container
JP4357048B2 (en) Precision substrate storage container
JP4274682B2 (en) Precision substrate storage container
JP7127245B2 (en) Substrate storage container
JP4204375B2 (en) Storage container
JP2007052217A (en) Storage container for pellicle

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050909

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080509

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080520

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080630

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080729

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080909

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20081209

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090119

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20090212

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090317

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090317

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120327

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120327

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150327

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250