JP7333224B2 - Substrate storage container - Google Patents

Substrate storage container Download PDF

Info

Publication number
JP7333224B2
JP7333224B2 JP2019147516A JP2019147516A JP7333224B2 JP 7333224 B2 JP7333224 B2 JP 7333224B2 JP 2019147516 A JP2019147516 A JP 2019147516A JP 2019147516 A JP2019147516 A JP 2019147516A JP 7333224 B2 JP7333224 B2 JP 7333224B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lid
opening
storage container
substrate storage
container body
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019147516A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2021028936A (en
Inventor
隆純 石川
統 小川
公徳 冨永
康大 藤本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Polymer Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Polymer Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Polymer Co Ltd filed Critical Shin Etsu Polymer Co Ltd
Priority to JP2019147516A priority Critical patent/JP7333224B2/en
Publication of JP2021028936A publication Critical patent/JP2021028936A/en
Priority to JP2023073494A priority patent/JP7514974B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7333224B2 publication Critical patent/JP7333224B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Packaging Frangible Articles (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

本開示は、基板収納容器に関する。 The present disclosure relates to substrate storage containers.

半導体製造工程で用いられる基板収納容器(FOUP)は、基板を収納する容器本体と、容器本体の開口した正面に着脱自在に取り付け可能な蓋体とを備える。蓋体は、容器本体の開口を容器本体と係止して閉鎖するための施錠手段を有し、蓋体の側面部には、施錠手段が進退自在に移動可能な施錠手段開口部が形成されている。 A substrate storage container (FOUP) used in a semiconductor manufacturing process includes a container body for storing substrates and a lid that can be detachably attached to an open front surface of the container body. The lid has locking means for locking and closing the opening of the container body with the container body, and a side portion of the lid is formed with a locking means opening through which the locking means can move forward and backward. ing.

この種の基板収納容器は、使用後に洗浄され、再度使用される。蓋体の洗浄に際しては、蓋体の内部に洗浄水が流入する。このとき洗浄水は、主に、蓋体の側面部に形成される4つの施錠手段開口部から蓋体の内部に流入する。また、洗浄後の乾燥に際しても、主に、4つの施錠手段開口部から洗浄水が流出する。 This type of substrate storage container is washed after use and reused. When cleaning the lid, cleaning water flows into the interior of the lid. At this time, the washing water mainly flows into the lid through four locking means openings formed in the side surface of the lid. Also, during drying after washing, washing water mainly flows out from the four locking means openings.

しかしながら、蓋体の洗浄及び乾燥に際しては、乾燥が不十分であると、洗浄水の一部が蓋体の内部に残る可能性がある。このような水残りは、乾燥時間を長くすれば防止可能であるが、近年では、洗浄乾燥工程のサイクルを向上させるために、乾燥時間の短縮が求められている。また、半導体製造工程では、使用するガス(塩素等)が蓋体の内部に流入・滞留し、金属部品を腐食させる可能性があるため、蓋体の通気性の改善も求められている。 However, when the lid is washed and dried, if the drying is insufficient, part of the washing water may remain inside the lid. Such residual water can be prevented by lengthening the drying time, but in recent years, shortening of the drying time is required in order to improve the cycle of the washing and drying process. In addition, in the semiconductor manufacturing process, the gases (such as chlorine) used in the lid may flow into and stay inside the lid, corroding metal parts.

そこで、蓋体の前面部に複数の流通口を形成し、これらの流通口を介して洗浄水などを流入・流出させる基板収納容器が提案されている(例えば、特許文献1参照)。 In view of this, a substrate storage container has been proposed in which a plurality of flow holes are formed in the front surface of the lid, and cleaning water or the like flows in and out through these flow holes (see, for example, Patent Document 1).

特許第4321950号公報Japanese Patent No. 4321950

しかしながら、上記のような従来技術では、蓋体の側面部の内側、特に蓋体を立てかけて乾燥する場合は蓋体の4つの側面部のうち下側の側面部の内側に水残りが発生しやすい。 However, in the conventional technology as described above, water remains on the inside of the side surface of the lid, especially on the inside of the lower side surface of the four side surfaces of the lid when the lid is stood upright for drying. Cheap.

そこで、1つの側面では、本発明は、蓋体の洗浄・乾燥に際し、蓋体の内部の水残りの発生を抑制できる基板収納容器の蓋体を提供することを目的とする。 Accordingly, in one aspect, an object of the present invention is to provide a lid for a substrate storage container that can suppress the occurrence of water residue inside the lid when the lid is washed and dried.

1つの側面では、半導体製造工程で用いられる基板収納容器であって、基板を収納する容器本体と、前記容器本体の開口した正面に着脱自在に取り付け可能な蓋体とを備え、前記蓋体は、側面部と、前記容器本体の開口を前記容器本体と係止して閉鎖するための施錠手段とを有し、前記側面部は、前記施錠手段が進退自在に移動可能な施錠手段開口部と、通気開口部とを有する、基板収納容器が提供される。 According to one aspect, a substrate storage container used in a semiconductor manufacturing process includes a container body for storing substrates, and a lid that can be detachably attached to an open front surface of the container body, wherein the lid is and locking means for locking and closing the opening of the container main body with the container main body, wherein the side face part includes a locking means opening in which the locking means can move back and forth. , and a vent opening.

1つの側面では、本発明によれば、蓋体の洗浄・乾燥に際し、蓋体の内部の水残りの発生を抑制できる。 According to one aspect, according to the present invention, it is possible to suppress the occurrence of water residue inside the lid during cleaning and drying of the lid.

一実施例の基板収納容器を示す分解概略斜視図である。It is an exploded schematic perspective view showing a substrate storage container of one embodiment. 蓋体の斜視図である。It is a perspective view of a lid. 蓋体の正面図である。It is a front view of a lid. 蓋体の平面図である。It is a top view of a lid. 蓋体の側面図である。It is a side view of a lid. 通気開口部の第2実施例を示す蓋体の要部平面図である。FIG. 11 is a plan view of the essential parts of the lid showing a second embodiment of the ventilation opening; 通気開口部の第3実施例を示す蓋体の要部平面図である。FIG. 11 is a plan view of the main part of the lid showing a third embodiment of the ventilation opening;

以下、添付図面を参照しながら各実施例について詳細に説明する。なお、本実施例の蓋体は、少なくとも前面が透明部材で形成されているため、図面では、蓋体の内部部材が透視された図としている。 Each embodiment will be described in detail below with reference to the accompanying drawings. Since at least the front surface of the lid of this embodiment is made of a transparent member, the drawings show the internal members of the lid as seen through.

図1は、一実施例の基板収納容器1を示す分解概略斜視図であり、図2は、蓋体20の斜視図であり、図3は、蓋体20の正面図であり、図4は、蓋体20の平面図であり、図5は、蓋体20の側面図である。 1 is an exploded schematic perspective view showing a substrate storage container 1 of one embodiment, FIG. 2 is a perspective view of a lid 20, FIG. 3 is a front view of the lid 20, and FIG. , are plan views of the lid 20, and FIG. 5 is a side view of the lid 20. FIG.

(基板収納容器)
図1に示すように、基板収納容器1は、基板Wを収納する容器本体10と、容器本体10の開口11を閉止する蓋体20と、を備えている。
(Substrate storage container)
As shown in FIG. 1 , the substrate storage container 1 includes a container body 10 that stores substrates W, and a lid 20 that closes an opening 11 of the container body 10 .

(容器本体)
容器本体10は、箱状体であり、開口11が正面に形成されたフロントオープン型である。開口11は、外側に広がるように段差をつけて屈曲形成され、その段差部の面がシール面12として、開口11の正面の内周縁に形成されている。なお、容器本体10は、300mm径や450mm径の基板Wの挿入操作を行い易いことから、フロントオープン型が好ましいが、開口11が下面に形成されたボトムオープン型であってもよい。
(container body)
The container body 10 is a box-shaped body, and is a front open type with an opening 11 formed in the front. The opening 11 is bent with a step so as to expand outward, and the surface of the step is formed as a seal surface 12 on the inner peripheral edge of the front surface of the opening 11 . Note that the container body 10 is preferably of a front open type because it is easy to insert a substrate W having a diameter of 300 mm or 450 mm, but may be of a bottom open type in which the opening 11 is formed on the bottom surface.

容器本体10の内部の左右両側には、支持体13が配置されている。支持体13は、基板Wの載置及び位置決めをする機能を有している。支持体13には、複数の溝が高さ方向に形成され、いわゆる溝ティースを構成している。そして、基板Wは、同じ高さの左右2か所の溝ティースに載置されている。支持体13の材料は、容器本体10と同様のものであってもよいが、耐熱性や、洗浄性、摺動性を高めるために、異なる材料が用いられてもよい。 Supports 13 are arranged on both left and right sides inside the container body 10 . The support 13 has the function of placing and positioning the substrate W. As shown in FIG. A plurality of grooves are formed in the support 13 in the height direction to form so-called grooved teeth. The substrate W is placed on two grooved teeth on the left and right that are at the same height. The material of the support 13 may be the same as that of the container body 10, but a different material may be used in order to improve heat resistance, washability, and slidability.

なお、本実施例では、一例として、基板収納容器1は、FOUP(Front Opening Unified Pod)であるが、FOSB(Front Opening Shipping Box)のような他の用途で用いられる容器であってもよい。FOSBの場合、支持体13が、溝ティースの奥側に、例えば、「く」字状や直線状をした基板保持部を有することで、フロントリテーナ30と基板保持部とで基板Wを保持するようなものであってもよい。これらの支持体13やリアリテーナは、容器本体10にインサート成形や嵌合などにより設けられている。ただし、変形例では、容器本体10の内部の後方(奥側)には、リアリテーナ(図示せず)が配置されてもよい。この場合、リアリテーナは、蓋体20が閉止された場合に、後述するフロントリテーナ30と対となって、基板Wを保持してもよい。これらの支持体13やリアリテーナは、容器本体10にインサート成形や嵌合などにより設けられている。 In this embodiment, as an example, the substrate storage container 1 is a FOUP (Front Opening Unified Pod), but it may be a container used for other purposes such as a FOSB (Front Opening Shipping Box). In the case of FOSB, the substrate W is held by the front retainer 30 and the substrate holding portion by having the support 13, for example, a "<"-shaped or straight substrate holding portion on the far side of the groove teeth. It may be something like The support 13 and the rear retainer are provided in the container body 10 by insert molding, fitting, or the like. However, in a modified example, a rear retainer (not shown) may be arranged at the rear (deep side) inside the container body 10 . In this case, the rear retainer may be paired with a front retainer 30 described later to hold the substrate W when the lid body 20 is closed. The support 13 and the rear retainer are provided in the container body 10 by insert molding, fitting, or the like.

基板Wは、この支持体13に支持されて容器本体10に収納される。なお、基板Wの一例としては、シリコンウェーハが挙げられるが特に限定されず、例えば、石英ウェーハ、ガリウムヒ素ウェーハ、ガラスウェーハ、樹脂ウェーハなどであってもよい。 The substrate W is supported by the support 13 and housed in the container body 10 . An example of the substrate W includes a silicon wafer, but is not particularly limited, and may be, for example, a quartz wafer, a gallium arsenide wafer, a glass wafer, a resin wafer, or the like.

容器本体10の天井中央部には、ロボティックフランジ14が着脱自在に設けられている。清浄な状態で基板Wを収容した基板収納容器1は、工場内の搬送ロボットで、ロボティックフランジ14を把持されて、基板Wを加工する工程ごとの加工装置に搬送される。 A robotic flange 14 is detachably provided at the center of the ceiling of the container body 10 . The substrate storage container 1 containing the substrates W in a clean state is gripped by the robotic flange 14 by a transport robot in the factory and transported to the processing apparatus for each process for processing the substrates W. FIG.

また、容器本体10の両側部の外面中央部には、作業者に握持されるマニュアルハンドル15がそれぞれ着脱自在に装着されている。 Manual handles 15 to be gripped by an operator are detachably attached to the central portion of the outer surface of both sides of the container body 10 .

容器本体10の底面には、例えば、チェックバルブ機能を有する給気弁18と排気弁19とが設けられている。これらは、蓋体20によって閉止された基板収納容器1の内部に、給気弁18から窒素ガスなどの不活性気体やドライエアーを供給し、排気弁19から排出することで、基板収納容器1の内部の気体を置換したり、気密状態を維持したりする。なお、給気弁18及び排気弁19は、基板Wを底面へ投影した位置から外れた位置にあるのが好ましいが、給気弁18及び排気弁19の数量や位置は、図示したものに限らない。また、給気弁18及び排気弁19は、気体を濾過するフィルタを有している。なお、給気弁18と排気弁19の少なくともいずれか一方は、チェックバルブの形態に代えて、双方向弁の形態であってもよい。 The bottom surface of the container body 10 is provided with, for example, an air supply valve 18 and an exhaust valve 19 having check valve functions. Inert gas such as nitrogen gas or dry air is supplied from the supply valve 18 to the inside of the substrate storage container 1 closed by the lid 20, and discharged from the exhaust valve 19, whereby the substrate storage container 1 is It replaces the gas inside the , and maintains an airtight state. It is preferable that the air supply valve 18 and the exhaust valve 19 are positioned outside the position where the substrate W is projected onto the bottom surface. do not have. In addition, the air supply valve 18 and the exhaust valve 19 have filters for filtering gas. At least one of the intake valve 18 and the exhaust valve 19 may be in the form of a two-way valve instead of the form of a check valve.

内部の気体の置換は、収納した基板W上の不純物質を吹き飛ばしたり、内部の湿度を低くしたりするなどの目的で行われ、搬送中の基板収納容器1の内部の清浄性を保つ。気体の置換は、排気弁19側においてガスを検知することで、確実に行われているか確認することができる。そして、内部の気体を置換する時や、蓋体20を容器本体10に取り付けて、閉止する時に、基板収納容器1の内部は陽圧になり、逆に、蓋体20を容器本体10から取り外す時に、基板収納容器1の内部は陰圧となる。 The replacement of the internal gas is carried out for the purpose of blowing off impurities on the accommodated substrates W, lowering the internal humidity, etc., and keeping the inside of the substrate storage container 1 clean during transportation. By detecting the gas on the side of the exhaust valve 19, it can be confirmed whether the gas replacement is performed reliably. When the gas inside is replaced, or when the lid 20 is attached to the container body 10 and closed, the pressure inside the substrate storage container 1 becomes positive, and conversely, the lid 20 is removed from the container body 10. At times, the inside of the substrate storage container 1 becomes negative pressure.

(蓋体)
蓋体20は、容器本体10の開口11の正面に取り付けられる、略矩形状のものである。蓋体20は、図1~図5に示すように、蓋部本体21と、この蓋部本体21に設置されて施錠する一対の施錠機構24(施錠手段の一例)とを備え、容器本体10の開口正面部に着脱自在に嵌合される。
(Lid body)
The lid 20 has a substantially rectangular shape and is attached to the front of the opening 11 of the container body 10 . As shown in FIGS. 1 to 5, the lid body 20 includes a lid body 21 and a pair of locking mechanisms 24 (an example of locking means) installed on the lid body 21 for locking. is detachably fitted in the opening front part of the.

蓋部本体21は、蓋部本体21の前面部21aを構成する表面プレート22と、蓋部本体21の後面部21b及び4つの側面部21c~21fを構成する裏面プレート23とを備える。 The lid main body 21 includes a front plate 22 forming a front surface 21a of the lid main body 21, and a back plate 23 forming a rear surface 21b and four side surfaces 21c to 21f of the lid main body 21.

蓋部本体21の前面部21aには、施錠機構24を操作するための一対の施錠操作孔21gが形成されている。 A pair of locking operation holes 21g for operating the locking mechanism 24 are formed in the front surface portion 21a of the lid body 21. As shown in FIG.

蓋部本体21の4つの側面部21c~21fのうち上側の側面部21c及び下側の側面部21dには、それぞれ、施錠機構24の係止爪25が出没するための一対の出没孔21h(施錠手段開口部の一例)が形成されている。 A pair of holes 21h ( An example of a locking means opening) is formed.

蓋部本体21の後面部21bの裏面側(蓋体20の内部側)には、複数の補強リブ21i、21jが立設されている。補強リブ21iは、後面部21bの裏面に放射状に立設され、後面部21bを補強している。また、補強リブ21j(リブの一例)は、後面部21bの裏面周縁部と側面部21c~21fの裏面との間に亘って立設され、主に、側面部21c~21fを補強している。なお、変形例では、補強リブ21iは、省略されてもよい。 A plurality of reinforcing ribs 21i and 21j are erected on the rear surface side of the rear surface portion 21b of the lid body 21 (the inner side of the lid body 20). The reinforcing ribs 21i are radially erected on the rear surface of the rear surface portion 21b to reinforce the rear surface portion 21b. In addition, the reinforcing rib 21j (an example of the rib) is provided upright between the rear surface peripheral edge portion of the rear surface portion 21b and the rear surface of the side surface portions 21c to 21f, and mainly reinforces the side surface portions 21c to 21f. . Note that, in a modified example, the reinforcing ribs 21i may be omitted.

各施錠機構24は、蓋部本体21で回転可能に支持され、施錠操作キー(図示せず)に係合される回転プレート26と、回転プレート26に連結され、回転プレート26の回転に応じて上下方向にスライドする一対の連結プレート27と、各連結プレート27の先端部に設けられ、連結プレート27のスライドに応じて出没孔21hから出没する係止爪25とを備える。そして、出没孔21hから突出する係止爪25が、容器本体10に形成された係止孔10aに嵌入することで、施錠機構24が施錠状態となり、蓋体20の取り外しが規制される。 Each locking mechanism 24 is rotatably supported by the lid body 21 and is connected to a rotating plate 26 that is engaged with a locking operation key (not shown). It has a pair of connecting plates 27 that slide in the vertical direction, and locking claws 25 that are provided at the tip of each connecting plate 27 and protrude from the recess 21h as the connecting plates 27 slide. Then, the locking claw 25 protruding from the retractable hole 21h is fitted into the locking hole 10a formed in the container body 10, whereby the locking mechanism 24 is locked and removal of the lid 20 is restricted.

また、蓋部本体21は、後面部21bの中央部に、基板Wの前部周縁を水平に保持する弾性のフロントリテーナ30が着脱自在に装着又は一体形成されている。 In addition, an elastic front retainer 30 for horizontally holding the front peripheral edge of the substrate W is detachably attached or integrally formed in the central portion of the rear surface portion 21 b of the lid portion main body 21 .

フロントリテーナ30は、支持体13の溝ティース及び基板保持部などと同様に、ウェーハが直接接触する部位であるため、洗浄性や摺動性が良好な材料が用いられている。フロントリテーナ30も、蓋体20にインサート成形や嵌合などで設けることができる。 The front retainer 30, like the grooved teeth of the support 13 and the substrate holding portion, is a portion that comes into direct contact with the wafer, and therefore is made of a material with good cleaning and sliding properties. The front retainer 30 can also be provided in the lid body 20 by insert molding, fitting, or the like.

これらの容器本体10及び蓋体20の材料としては、例えば、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、液晶ポリマーなどの熱可塑性樹脂が挙げられる。この熱可塑性樹脂は、導電性カーボン、導電繊維、金属繊維、導電性高分子などからなる導電剤、各種の帯電防止剤、紫外線吸収剤などが更に適宜添加されてもよい。 Examples of materials for the container body 10 and lid 20 include thermoplastic resins such as polycarbonate, cycloolefin polymer, polyetherimide, polyethersulfone, polyetheretherketone, and liquid crystal polymer. Conductive agents such as conductive carbon, conductive fibers, metal fibers, and conductive polymers, various antistatic agents, ultraviolet absorbers, and the like may be added to the thermoplastic resin as appropriate.

(通気開口部)
つぎに、本開示の要部である通気開口部21m、21nについて、図2~図5を参照して説明する。
(ventilation opening)
Next, the ventilation openings 21m and 21n, which are essential parts of the present disclosure, will be described with reference to FIGS. 2 to 5. FIG.

蓋体20は、側面部21c~21fの少なくともいずれかに、通気開口部21m、21nを有する。蓋体20の側面部21c、21dに設けられる場合は、側面部21c、21dには、施錠機構24の係止爪25が出没する出没孔21hだけでなく、通気開口部21m、21nが設けられることになる。通気開口部21m、21nは、出没孔21hと同様に、蓋体20の内外を連通させる。したがって、蓋体20の洗浄に際しては、蓋体20の側面部21c、21dに形成される4つの出没孔21hに加え、通気開口部21m、21nからも蓋体20の内部に向けて洗浄水が流入し、また、洗浄後の乾燥に際しても、4つの出没孔21hに加え、通気開口部21m、21nからも洗浄水が流出することになる。 The lid 20 has ventilation openings 21m and 21n on at least one of the side portions 21c to 21f. When provided on the side portions 21c and 21d of the lid body 20, the side portions 21c and 21d are provided with not only a retracting hole 21h through which the locking claw 25 of the locking mechanism 24 retracts, but also ventilation openings 21m and 21n. It will be. The ventilation openings 21m and 21n allow the inside and outside of the lid 20 to communicate with each other in the same manner as the retraction hole 21h. Therefore, when cleaning the lid 20, cleaning water flows into the lid 20 from the ventilation openings 21m and 21n in addition to the four holes 21h formed in the side surfaces 21c and 21d of the lid 20. Also, during drying after washing, washing water flows out from the ventilation openings 21m and 21n in addition to the four inlet/outlet holes 21h.

このような通気開口部21m、21nによれば、蓋体20の内外を連通させる開口面積が増加するので、蓋体20の洗浄に際して洗浄水の流入及び流出を促進できるだけでなく、蓋体20の通気性も向上させることができる。また、通気開口部21m、21nは、蓋体20の前面部21aではなく、側面部21c~21fのいずれかに形成されるので、蓋体20の側面部21c~21fの内側に水残りが発生することを抑制できる。特に、蓋体20を立てかけて乾燥する場合は、通気開口部21m、21nが形成される側面部21c~21fを下側にすれば、蓋体20の内部に残った洗浄水を速やかに流出させることができる。 With such ventilation openings 21m and 21n, the area of the opening that communicates the inside and outside of the lid 20 is increased. Breathability can also be improved. In addition, since the ventilation openings 21m and 21n are formed in one of the side portions 21c to 21f instead of the front portion 21a of the lid 20, water remains inside the side portions 21c to 21f of the lid 20. can be suppressed. In particular, when the lid 20 is stood upright to dry, if the side portions 21c to 21f where the ventilation openings 21m and 21n are formed are placed downward, the cleaning water remaining inside the lid 20 can be quickly drained. be able to.

通気開口部21m、21nは、4つの側面部21c~21fのうち上側の側面部21c及び下側の側面部21dの少なくともいずれか一方側に設けられることが好ましい。このようにすると、蓋体20を立てかけて乾燥する場合に下側になりやすい上側の側面部21c又は下側の側面部21dに通気開口部21m、21nが形成されるので、蓋体20を立てかけて乾燥する際の水抜け効率を向上させることができる。また、上側の側面部21c及び下側の側面部21dには、出没孔21hが設けられるので、出没孔21hと共に側面部21c、21dの開口面積を拡張し、水抜け効率及び通気性をさらに向上させることができる。 The ventilation openings 21m and 21n are preferably provided on at least one side of the upper side portion 21c and the lower side portion 21d among the four side portions 21c to 21f. With this configuration, the ventilation openings 21m and 21n are formed in the upper side surface portion 21c or the lower side surface portion 21d, which tends to be on the lower side when the lid 20 is stood upright for drying. It is possible to improve the efficiency of water drainage when drying by drying. In addition, since the upper side surface portion 21c and the lower side surface portion 21d are provided with retractable holes 21h, the opening areas of the side surface portions 21c and 21d are expanded together with the retractable holes 21h, and the drainage efficiency and air permeability are further improved. can be made

通気開口部21m、21nは、4つの側面部21c~21fのうち上側の側面部21c及び下側の側面部21dそれぞれに、及び/又は、左側の側面部21e及び右側の側面部21fそれぞれに、設けられることが好ましい。換言すると、通気開口部21m、21nは、4つの側面部21c~21fのうち対向する少なくとも2つの側面部21c~21fに設けることが好ましい。このようにすると、空気が蓋体20の内外を直線的に通り抜けるので、蓋体20の通気性をさらに向上させることができる。 The ventilation openings 21m and 21n are provided on the upper side surface 21c and the lower side surface 21d of the four side surfaces 21c to 21f, and/or on the left side surface 21e and the right side surface 21f. It is preferably provided. In other words, the ventilation openings 21m and 21n are preferably provided in at least two opposing side portions 21c to 21f among the four side portions 21c to 21f. In this way, the air passes straight through the inside and outside of the lid 20, so that the ventilation of the lid 20 can be further improved.

通気開口部21m、21nが設けられる1つの側面部21c~21fの通気開口部21m、21nによる開口率は、30~80%であることが好ましい。換言すると、4つの側面部21c~21fのうち通気開口部21m、21nが設けられる1つの側面部21c~21fの面積をS1とし、該1つの側面部21c~21fにおける通気開口部21m、21nの開口面積をS2としたとき、S2/S1は、0.3から0.8の間であることが好ましい。その理由は、S2/S1が0.3未満だと、蓋体20の水抜け効率や通気性を十分に改善されず、逆に、S2/S1が0.8を超えると、蓋体20の強度が低下してしまうからである。 It is preferable that the opening ratio of the ventilation openings 21m and 21n of one of the side portions 21c to 21f provided with the ventilation openings 21m and 21n is 30 to 80%. In other words, S1 is the area of one of the four side portions 21c to 21f in which the ventilation openings 21m and 21n are provided, and the area of the ventilation openings 21m and 21n in the one side portion 21c to 21f is defined as S1. S2/S1 is preferably between 0.3 and 0.8, where S2 is the opening area. The reason is that if S2/S1 is less than 0.3, the drainage efficiency and air permeability of the lid 20 are not sufficiently improved. This is because the strength is lowered.

本実施例の通気開口部21m、21nは、開口形状が矩形であり、1つの側面部21c~21fに複数設けられる。具体的に説明すると、上側の側面部21c及び下側の側面部21dは、一対の出没孔21hの間に、出没孔21hよりも幅広な1つの通気開口部21mと、出没孔21hよりも幅狭な2つの通気開口部21nとを有する。このようにすると、同じ開口面積を1つの通気開口部で実現する場合に比べ、強度の低下を抑制することができる。 The ventilation openings 21m and 21n of this embodiment are rectangular in shape, and are provided in plurality on one side surface 21c to 21f. Specifically, the upper side surface portion 21c and the lower side surface portion 21d are provided between a pair of the insertion/removal holes 21h with one ventilation opening 21m wider than the insertion/removal hole 21h and a ventilation opening 21m wider than the insertion/removal hole 21h. It has two narrow ventilation openings 21n. In this way, compared with the case where the same opening area is realized by one ventilation opening, the decrease in strength can be suppressed.

通気開口部21m、21nは、前述した補強リブ21jを避けた位置に形成されている。このようにすると、補強リブ21jによる補強効果を維持しつつ、必要な開口面積を確保できる。 The ventilation openings 21m and 21n are formed at positions avoiding the reinforcing ribs 21j. In this way, the required opening area can be ensured while maintaining the reinforcing effect of the reinforcing ribs 21j.

以上、各実施例について詳述したが、特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された範囲内において、種々の変形及び変更が可能である。また、前述した実施例の構成要素を全部又は複数を組み合わせることも可能である。 Although each embodiment has been described in detail above, it is not limited to a specific embodiment, and various modifications and changes are possible within the scope described in the claims. It is also possible to combine all or more of the constituent elements of the above-described embodiments.

例えば、通気開口部の開口形状は、前記実施例のような矩形の通気開口部21m、21nに限定されないことは勿論である。例えば、図6に示す円形の通気開口部21pや、図7に示すスリット形状の通気開口部21qであってもよい。また、1つの側面部21c~21fに形成する通気開口部の数は、前記実施例の3つに限定されず、2つ以下であってもよい。また、図6及び図7に示すように、4つ以上であってもよい。この場合、他の実施例に比べ、蓋の剛性を効率的に高めることができる。 For example, the opening shape of the ventilation openings is not limited to the rectangular ventilation openings 21m and 21n as in the above embodiment. For example, a circular ventilation opening 21p shown in FIG. 6 or a slit-shaped ventilation opening 21q shown in FIG. 7 may be used. Also, the number of ventilation openings formed in one side surface portion 21c to 21f is not limited to three in the above embodiment, and may be two or less. Moreover, as shown in FIGS. 6 and 7, the number may be four or more. In this case, compared to other embodiments, the rigidity of the lid can be efficiently increased.

1 基板収納容器
10 容器本体
10a 係止孔
11 開口
12 シール面
13 支持体
14 ロボティックフランジ
15 マニュアルハンドル
18 給気弁
19 排気弁
20 蓋体
21 蓋部本体
21a 前面部
21b 後面部
21c 側面部
21d 側面部
21e 側面部
21f 側面部
21g 施錠操作孔
21h 出没孔(施錠手段開口部)
21i 補強リブ
21j 補強リブ(リブ)
21m 通気開口部
21n 通気開口部
21p 通気開口部
21q 通気開口部
22 表面プレート
23 裏面プレート
24 施錠機構(施錠手段)
25 係止爪
26 回転プレート
27 連結プレート
30 フロントリテーナ
W 基板
1 Substrate storage container 10 Container main body 10a Locking hole 11 Opening 12 Seal surface 13 Support member 14 Robotic flange 15 Manual handle 18 Air supply valve 19 Exhaust valve 20 Lid 21 Lid main body 21a Front surface 21b Rear surface 21c Side surface 21d Side portion 21e Side portion 21f Side portion 21g Locking operation hole 21h Escape hole (locking means opening)
21i reinforcing rib 21j reinforcing rib (rib)
21m ventilation opening 21n ventilation opening 21p ventilation opening 21q ventilation opening 22 front plate 23 rear plate 24 locking mechanism (locking means)
25 locking claw 26 rotating plate 27 connecting plate 30 front retainer W substrate

Claims (6)

半導体製造工程で用いられる基板収納容器であって、
基板を収納する容器本体と、
前記容器本体の開口した正面に着脱自在に取り付け可能な蓋体とを備え、
前記蓋体は、側面部と、前記容器本体の開口を前記容器本体と係止して閉鎖するための施錠手段とを有し、
前記側面部は、前記施錠手段が進退自在に移動可能な施錠手段開口部と、通気開口部とを有し、
前記蓋体は、前記側面部の裏面にリブを有し、
前記通気開口部は、前記リブを避けた位置に形成される、基板収納容器。
A substrate storage container used in a semiconductor manufacturing process,
a container body for housing the substrate;
a lid detachably attachable to the open front of the container body,
The lid has a side portion and locking means for locking and closing the opening of the container body with the container body,
The side portion has a locking means opening in which the locking means can move back and forth, and a ventilation opening,
The lid has ribs on the back surface of the side surface,
The substrate storage container , wherein the ventilation opening is formed at a position avoiding the rib .
前記通気開口部は、前記側面部における上側及び下側の少なくともいずれか一方側に設けられる、請求項1に記載の基板収納容器。 2. The substrate storage container according to claim 1, wherein said ventilation opening is provided on at least one of an upper side and a lower side of said side surface portion. 前記通気開口部は、前記側面部における上側及び下側のそれぞれに、及び/又は、前記側面部における左側及び右側のそれぞれに、設けられる、請求項1に記載の基板収納容器。 2. The substrate storage container according to claim 1, wherein said ventilation openings are provided on each of upper and lower sides of said side surface and/or on left and right sides of said side surface. 前記側面部における前記通気開口部が設けられる一の側の面積をS1とし、該一の側における前記通気開口部の開口面積をS2としたとき、S2/S1は、0.3から0.8の間である、請求項1から3のうちのいずれか1項に記載の基板収納容器。 S2/S1 is 0.3 to 0.8, where S1 is the area of one side of the side surface where the ventilation opening is provided, and S2 is the opening area of the ventilation opening on the one side. The substrate storage container according to any one of claims 1 to 3, which is between 前記通気開口部の開口形状は、丸又は矩形若しくはスリット形状である、請求項1から4のうちのいずれか1項に記載の基板収納容器。 5. The substrate storage container according to any one of claims 1 to 4, wherein an opening shape of said ventilation opening is circular, rectangular, or slit-shaped. 前記通気開口部は、前記側面部における少なくとも一の側に、複数設けられる、請求項1から5のうちのいずれか1項に記載の基板収納容器。
The substrate storage container according to any one of claims 1 to 5, wherein a plurality of said ventilation openings are provided on at least one side of said side surface portion.
JP2019147516A 2019-08-09 2019-08-09 Substrate storage container Active JP7333224B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019147516A JP7333224B2 (en) 2019-08-09 2019-08-09 Substrate storage container
JP2023073494A JP7514974B2 (en) 2019-08-09 2023-04-27 Substrate storage container

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019147516A JP7333224B2 (en) 2019-08-09 2019-08-09 Substrate storage container

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023073494A Division JP7514974B2 (en) 2019-08-09 2023-04-27 Substrate storage container

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021028936A JP2021028936A (en) 2021-02-25
JP7333224B2 true JP7333224B2 (en) 2023-08-24

Family

ID=74666936

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019147516A Active JP7333224B2 (en) 2019-08-09 2019-08-09 Substrate storage container
JP2023073494A Active JP7514974B2 (en) 2019-08-09 2023-04-27 Substrate storage container

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023073494A Active JP7514974B2 (en) 2019-08-09 2023-04-27 Substrate storage container

Country Status (1)

Country Link
JP (2) JP7333224B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2023067877A1 (en) 2021-10-19 2023-04-27

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004079818A1 (en) 2003-03-04 2004-09-16 Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. Precision substrate storage container
JP2004342844A (en) 2003-05-15 2004-12-02 Shin Etsu Polymer Co Ltd Precise substrate storing container
JP2005306411A (en) 2004-04-20 2005-11-04 Shin Etsu Polymer Co Ltd Storage container
JP2005320028A (en) 2004-05-07 2005-11-17 Shin Etsu Polymer Co Ltd Retainer and substrate storing container
WO2005112107A1 (en) 2004-05-17 2005-11-24 Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. Substrate storage container and method of positioning the container
WO2014196011A1 (en) 2013-06-03 2014-12-11 ミライアル株式会社 Substrate storing container

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7021323B1 (en) 2000-06-01 2006-04-04 Dainichi Shoji Kabushiki Kaisha Dust-incompatible article transfer container cleaner

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004079818A1 (en) 2003-03-04 2004-09-16 Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. Precision substrate storage container
JP2004342844A (en) 2003-05-15 2004-12-02 Shin Etsu Polymer Co Ltd Precise substrate storing container
JP2005306411A (en) 2004-04-20 2005-11-04 Shin Etsu Polymer Co Ltd Storage container
JP2005320028A (en) 2004-05-07 2005-11-17 Shin Etsu Polymer Co Ltd Retainer and substrate storing container
WO2005112107A1 (en) 2004-05-17 2005-11-24 Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. Substrate storage container and method of positioning the container
WO2014196011A1 (en) 2013-06-03 2014-12-11 ミライアル株式会社 Substrate storing container

Also Published As

Publication number Publication date
JP2023095916A (en) 2023-07-06
JP7514974B2 (en) 2024-07-11
JP2021028936A (en) 2021-02-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7108004B2 (en) Substrate container valve assembly
TWI450046B (en) Purge system for a substrate container
JP6679906B2 (en) EFEM
JP2023095916A (en) Substrate storage container
JP3960787B2 (en) Precision substrate storage container
JP6367153B2 (en) Substrate storage container
KR20200028992A (en) Substrate storage container
JP2005005525A (en) Substrate container
JP6231012B2 (en) Substrate storage container
JPH11297807A (en) Fine substrate transportation container
JP7143560B2 (en) Substrate storage container
JP6679907B2 (en) Load port device and method for introducing cleaning gas into container in load port device
JP4849471B2 (en) Waterproof plug for substrate storage container, substrate storage container, and method for cleaning substrate storage container
JP2011187712A (en) Substrate housing container, and conveyance facility
JP4282369B2 (en) Precision substrate storage container
JP6553498B2 (en) Substrate storage container
TW201946196A (en) Substrate accommodating container
TW201630668A (en) Substrate storing container
JP4321950B2 (en) Substrate housing cover
US20190393062A1 (en) Substrate Storage Container and Gas Replacement Unit
JP6165653B2 (en) Substrate storage container
JP6376383B2 (en) Substrate storage container
JP4274682B2 (en) Precision substrate storage container
TWI856142B (en) Substrate storage container
WO2022208602A1 (en) Substrate container

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190814

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220412

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230227

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230307

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230427

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230725

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230814

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7333224

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150