JP4321950B2 - Substrate housing cover - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウェーハ、マスクガラス、液晶セル、記録媒体等の破損し易く汚染を嫌う精密基板を収納、保管、輸送したり、あるいは精密基板を加工・処理する加工装置に対する位置決めや加工装置間の搬送、貯蔵に使用される基板収納容器の蓋体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来の半導体部品の生産に関する半導体ウェーハ、マスクガラス等の精密基板は、半導体デバイスの厳しい価格競争に伴い、精密基板の歩留まり向上によるコストダウンを目的として精密基板の大口径化(例えば、300mmないし400mm以上)が急ピッチで検討されている。同時に、半導体回路は益々微細化が進められ、DRAMのデザインルール(加工最小線幅)も0.25μmから0.18μmあるいはそれ以下に移行しつつあり、精密基板の加工される工場はもとより、精密基板の運搬時等に使用される容器に関しても益々高度なクリーン度が要求されてきている。
【0003】
このような要求を実現する手段として、精密基板の各種処理加工に必要な局所環境(ミニエンバイロメント)のみを高度にクリーンな環境(米国連邦規格(Federal standard 209E)のクリーン度が1以下、必要に応じて0.01レベル)とするとともに、基板収納容器を標準化してその内部に複数枚の精密基板をクリーンな状態で気密収納し、幾つかのクリーンな局所環境間で基板収納容器を搬送し、歩留まりを向上させようという方法が提案されている。係る提案を受け、精密基板を汚染させることなく自動的に搬送することができ、しかも、加工装置に直接アクセスすることのできる基板収納容器の開発が鋭意進められている。
【0004】
この種の基板収納容器は、図6に部分的に示すように、図示しない精密基板を収納する容器本体1と、この容器本体1の開口の内周領域をガスケット9を介し気密状態に閉鎖する着脱自在の蓋体10とを備え、この蓋体10が局所環境内の図示しない加工装置に開閉操作される。
【0005】
容器本体1は、図6に示すように、各種合成樹脂を使用して略立方形に成形され、複数枚の精密基板を上下に並べて収納する。この容器本体1の底面左右両側部にはボトムレール2がそれぞれ形成され、底面の前部両側と後部中央とには、加工装置に対して位置決め手段として機能するVグループ(図示せず)がそれぞれ突出形成されており、この複数のVグループに図示しないボトムプレートが嵌合保持される。このボトムプレートは、基本的には平面略Y字に形成され、前部両側と後部中央とには、Vグループの周囲に嵌合する誘導部がそれぞれ形成されており、中央部には、加工装置固定用の貫通口が穿孔形成されている。
【0006】
容器本体1の左右両側面には同図に示すように、サイドレール3やマニュアルハンドル4がそれぞれ着脱自在に装着され、容器本体1の上面中心部には、図示しない搬送ロボットに把持されるロボティックフランジ5が着脱自在に装着されている。また、容器本体1の内部左右両側面には、棚状の支持部6が容器本体1と一体形成、又は別部品として着脱自在に装着され、この一対の支持部6間に複数枚の精密基板が所定のピッチで水平に整列支持される。容器本体1の開口正面は、段付きに傾斜形成されてフランジ7とされ、このフランジ7の内周面上下には、左右対象の位置に位置する係止穴8がそれぞれ凹み形成されている。
【0007】
蓋体10は、図6や図7に示すように、相互に対向嵌合する裏面プレート11と表面プレート14とを備え、これら裏面プレート11と表面プレート14の間には、外部から操作可能なラッチ機構17が内蔵されており、このラッチ機構17が容器本体1に蓋体10が嵌合する際、各係止穴8に出没可能な係止爪23を突出係合させ、基板収納容器の気密状態を確保する。蓋体10の外周面上下には、左右に位置する係止爪23用の出没孔12がそれぞれ穿孔形成されている。裏面プレート11には、棚状のリテーナ13が着脱自在に装着され、このリテーナ13が複数枚の精密基板の前部周縁を弾発的に支持する。また、表面プレート14は、上下の斜め左右に位置決め凹部15がそれぞれ凹み形成されるとともに、中央部の左右には操作口16がそれぞれ穿孔形成されている。
【0008】
加工装置は、外界から搬送されてきた基板収納容器と接続し、この基板収納容器から精密基板をロードしたり、基板収納容器との間で精密基板をアンロードするアクセス装置を備えている。このアクセス装置は、基板収納容器を位置決め搭載し、加工装置に対して接続操作するロードポートと、基板収納容器の蓋体10に対向してこれを開閉する蓋体開閉装置とから構成されている。ロードポートは、先端部が丸く形成されるとともに、容器本体1の各Vグループに嵌入して基盤収納容器を自動求心し、これを所定の位置に高精度に位置決めする複数本の位置決めピンと、ボトムプレートの貫通口に挿入されて基板収納容器を固定するL字押さえとを備え、位置決めユニットを前進させて基板収納容器を並行移動させ、蓋体開閉装置に蓋体10をシール可能に当接させるよう機能する。
【0009】
蓋体開閉装置は、ロードポートの搭載面に対して略垂直な壁からなる接続壁と、この接続壁に形成されて外界の基板収納容器から加工装置に移し替えられる精密基板通過用の開口部と、この開口部をシールして内部環境が外界のパーティクルの侵入で汚染するのを防止する開閉可能なカバー部材とを備えている。このカバー部材は、蓋体を位置決め保持し、蓋体のラッチ機構17を回転可能な操作キーを介して施錠、解錠操作する操作装置と、蓋体10の各位置決め凹部15に嵌入する一対の位置決めピンと、蓋体10を真空吸着する吸着装置とから構成されている。
【0010】
上記において、局所環境で精密基板を処理加工する場合には、先ず、加工装置に基板収納容器が位置決めされ、この基板収納容器が蓋体開閉装置のカバー部材に当接するまで前進し、カバー部材の一対の位置決めピンと蓋体10の一対の位置決め凹部15とが嵌合するとともに、カバー部材の操作装置に蓋体10のラッチ機構17が解錠操作され、容器本体1のフランジ7から蓋体10が取り外し可能な状態となる。こうして蓋体10が取り外し可能な状態となったら、カバー部材が後退、下降して容器本体1から蓋体10が取り外され、加工装置の内部と容器本体1の基板収納領域とが連通する。この際、容器本体1のフランジ7が接続壁に押圧してシールされるので、外界のパーティクル等が内部環境に侵入することがない。そして、基板収納容器の内部から精密基板が加工装置にローディングされて取り込まれ、その後、精密基板に各種の処理加工が施される。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
従来における基板収納容器の蓋体は、以上のように構成されているので、以下の問題がある。先ず、基板収納容器の蓋体10は、使用前や繰り返し使用後に容器本体1とは別に洗浄槽の洗浄液で洗浄され、再度使用される。この洗浄の際、蓋体10は、中空構造に形成され、外周面に複数の出没孔12が、表面プレート14にはラッチ機構17の操作口16がそれぞれ穿孔形成されているので、内部に洗浄液(図7の矢印参照)が流入して洗浄されることとなる。
【0012】
しかしながら、従来の蓋体10は、出没孔12等の開口領域が狭いので、洗浄液が十分に流通・循環せず、その結果、多数の部品からなるラッチ機構17の洗浄が不充分となったり、連続使用時に汚れたままのラッチ機構17から汚染物が蓋体10を経由して容器本体1の内部に流出し、精密基板を汚染させるおそれがある。また、蓋体10の内部に洗浄液やその水滴が多量に残存するおそれが少なくなく、しかも、水滴の除去が非常に困難なので、乾燥作業の著しい遅延化を招くという問題がある。さらに、ラッチ機構17の耐久性に限界が生じたり、トラブルが発生した場合、蓋体10の内部を確認する必要があるが、表面プレート14が単に被覆されているだけなので、蓋体10の内部を観察することがきわめて困難である。
【0013】
本発明は、上記に鑑みなされたもので、蓋体の内部等を十分に洗浄することができ、基板汚染のおそれを有効に解消し、蓋体内部の洗浄液やその水滴等を容易に除去することのできる基板収納容器の蓋体を提供することを目的としている。
【0014】
【課題を解決するための手段】
本発明においては上記課題を解決するため、精密基板を収納する容器本体の開口した正面に蓋体を蓋体開閉装置により着脱するものであって、
蓋体は、裏面プレートに隙間を介して嵌め合わされる表面プレートと、これら裏面プレートと表面プレートの少なくともいずれか一方の外周部に設けられる出没孔と、裏面プレートと表面プレートとの間に内蔵され、出没孔から出没可能な係止爪を突出させてこれを容器本体の正面内周部の係止穴に嵌め入れるラッチ機構と、表面プレートに設けられる流体用の流通口とを含み、裏面プレートに、容器本体に収納された精密基板の周縁を支持するリテーナを装着し、表面プレートには、蓋体開閉装置の位置決めピンに挿入される位置決め凹部を凹み形成するとともに、ラッチ機構用の操作口を形成し、流通口を、ラッチ機構用の操作口を除く箇所に位置させるとともに、ラッチ機構用の観察窓に兼用可能とし、流通口の総面積を蓋体の総面積の0.5%〜80%としたことを特徴としている。
【0015】
なお、表面プレートの略外周部以外の領域を流通口とすることができる。
また、裏面プレートの内面から流通口内に位置する突起を露出状態に突出させ、この突起を位置決め及び又は保持用に用いることもできる。
【0016】
ここで、特許請求の範囲における容器本体は、透明でも非透明でも良いが、非透明の場合、容器本体の背面や側面等を透明のウインドに形成し、容器本体内の基板を観察可能とすると良い。流体は、洗浄液等の液体でも良いが、各種の気体とすることも可能である。また、流通口は、任意の面積を有する円形、矩形、小判形、三角形、台形、多角形、楕円形、菱形、口形、田字形、又はこれらを組み合わせた形状等とすることができ、しかも、単数複数いずれでも良い。この流通口には、実質的に同様の機能を有するなら、表面プレートの周縁部等に位置する各種形状の切り欠きが含まれる。
【0017】
本発明によれば、蓋体を洗浄液やドライエアー等の流体で洗浄すると、流体は、蓋体の一部の出没孔から内部を通過し、残部の出没孔から流れ出て蓋体を洗浄する。この際、単数複数の流通口が流入口、流出口としてそれぞれ機能するので、流体を十分に流通、循環させ、蓋体の内部等を洗浄することができる。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施形態を説明すると、本実施形態における基板収納容器の蓋体は、図1ないし図3に示すように、容器本体1の開口の内周領域を枠状のガスケット9を介しシール状態に閉鎖する着脱自在の蓋体10を、断面略U字状で略箱形の裏面プレート11と、この裏面プレート11の開口表面に隙間を介して螺着被覆される表面プレート14と、裏面プレート11の外周部の上下左右にそれぞれ穿孔形成される複数の出没孔12と、裏面プレート11と表面プレート14との間に内蔵され、各出没孔12から出没可能な係止爪23を突出させてこれを容器本体1の内周領域の係止穴8に係合させる一対のラッチ機構17と、表面プレート14の略四隅部にそれぞ穿孔形成される複数の流通口30とから構成している。
【0019】
容器本体1は、図1に示すように、十分な強度・剛性を有するポリカーボネートやアクリル樹脂等の各種合成樹脂を使用して透明の略立方形に成形され、円形を呈した複数枚の精密基板(図示せず)を上下に並べて収納する。この容器本体1の底面左右両側部には、前後方向に伸びるボトムレール2がそれぞれ一体的に形成され、底面の前部両側と後部中央とには、加工装置に対して位置決め手段として機能するVグループ(図示せず)がそれぞれ突出形成されており、この複数のVグループに図示しないボトムプレートが嵌合保持される。このボトムプレートは、基本的には平面略Y字に形成され、左右に分かれた前部両側と後部中央とには、Vグループの周囲に嵌合する誘導部がそれぞれ形成されており、中央部には、加工装置固定用の貫通口が穿孔形成されている。
【0020】
容器本体1の左右両側面には同図に示すように、別部品であるサイドレール3やマニュアルハンドル4がそれぞれ着脱自在に装着され、容器本体1の上面中心部には、図示しない搬送ロボットに把持されるロボティックフランジ5が着脱自在に装着されている。また、容器本体1の内部左右両側面には、相対向する棚状の支持部6がそれぞれ一体形成、あるいは着脱自在に装着され、この一対の支持部6間に複数枚の精密基板が所定のピッチで水平に整列支持される。容器本体1の全開口正面は、段付きに傾斜形成されて外側に徐々に拡開する傾斜面に形成され、この傾斜面が蓋体10の閉鎖時にガイド機能を発揮して蓋体10を円滑、迅速に嵌合させる。容器本体1の開口部の内周面上下には、左右に位置する係止穴8がそれぞれ凹み形成されている。
【0021】
なお、ボトムプレート、サイドレール3、及びマニュアルハンドル4は、容器本体1同様、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポリエーテルエーテルケトン、ポリブチレンテレフタレート等の熱可塑性樹脂、これら熱可塑性樹脂をベースとした導電性樹脂とのアロイ化技術、炭素繊維や金属繊維等の導電性添加物の添加により帯電防止性が付与された熱可塑性樹脂を用いて形成される。また、熱可塑性樹脂に導電性ポリマーの皮膜を塗布したり、コーティングして導電性を付与することも可能である。また、ボトムプレートは、複数のVグループに嵌合保持されるものでも良いが、容器本体1の底面に一体形成され、容器本体1の底面を形成するものでも良い。
【0022】
蓋体10は、図1ないし図3に示すように、相互に対向嵌合する裏面プレート11と表面プレート14とを備え、これら略矩形の裏面プレート11と表面プレート14の間の中空部には、外部から操作可能な一対のラッチ機構17が内蔵されており、この一対のラッチ機構17が容器本体1に蓋体10が嵌合する際、各係止穴8に出没可能な係止爪23を突出係合させ、基板収納容器の気密状態を確保する。蓋体10を形成する裏面プレート11と表面プレート14とは、容器本体1同様、ポリカーボネート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリブチレンテレフタレート等の熱可塑性樹脂、あるいは熱可塑性樹脂に帯電防止性の付与された材料を使用して形成されている。また、蓋体10、換言すれば、裏面プレート11の外周面上下には、左右に位置する係止爪23用の出没孔12がそれぞれ長方形状に穿孔形成されている。
【0023】
裏面プレート11の中央部には、棚状のリテーナ13が着脱自在に装着され、このリテーナ13が複数枚の精密基板の前部周縁を弾発的に支持する。また、表面プレート14は、上下斜め左右の対角線上に位置決め凹部15がそれぞれ凹み形成され、この一対の位置決め凹部15にカバー部材の位置決めピンがそれぞれ挿入される。表面プレート14の中央部左右には、図示しない操作装置の操作キーに貫通される操作口16がそれぞれ穿孔形成されている。
【0024】
各ラッチ機構17は、図3に部分的に示すように、裏面プレート11の内面側方に軸支され、操作キーに係合される回転プレート18と、この回転プレート18に連結されて上下方向にスライドする一対の連結プレート21と、各連結プレート21の先端部に軸着されて出没孔12から出没する揺動可能な係止爪23とから構成されている。各回転プレート18は、基本的には断面略凸字に形成され、中心の突部表面には、表面プレート14の操作口16に対向するキー溝19が凹み形成されており、このキー溝19に操作キーが嵌挿されて正逆方向に90°回転する。この回転プレート18の表面外周には、一対の係合ピン20が180°ずれてそれぞれ突出形成されている。
【0025】
各連結プレート21は、基本的には蓋体10の上下方向に伸びる板状に形成され、裏面プレート11の内面に複数のガイドピン22を介しスライド可能に支持されている。この連結プレート21の末端部は、湾曲形成され、円弧状の連結溝が切り欠き形成されており、この連結溝に回転プレート18の係合ピン20が貫通して連結されている。
なお、回転プレート18と連結プレート21とは、回転プレート18に略円周状の溝を形成するとともに、連結プレート21に突起を設け、これら溝と突起とを係合させて連結しても良い。
【0026】
各係止爪23は、断面略T字状に形成され、一端部が表面プレート14の内面外周に軸支されている。この係止爪23は、上下方向の端部が連結プレート21の先端部に軸着され、他の他端部には、容器本体1の係止穴8に嵌入するローラ24が回転可能に軸支されており、連結プレート21の上下方向へのスライドに伴い、弧を描きながら出没孔12から突出して蓋体10をロックしたり、出没孔12内に退没して蓋体10を取り外し可能な状態とする。
【0027】
複数の流通口30は、図2や図3に示すように、基板収納容器の機能を損なわない箇所、換言すれば、表面プレート14の略四隅部にそれぞれ丸く穿孔形成され、洗浄液の流入口、流出口として機能するとともに、各ラッチ機構17を構成する連結プレート21やガイドピン22を外部から把握可能な観察窓として機能する。複数の流通口30を表面プレート14の略四隅部にそれぞれ穿孔形成するのは、標準化された基板収納容器に使用される蓋体10の表面には、蓋体開閉装置との間にシールゾーンが必要とされ、SEMI規格では蓋体10表面における四辺の周端部内側にそれぞれ9mm幅の蓋体形状に沿う枠状のシールゾーンが必要とされるからである。また、蓋体10の位置決め凹部15、操作口16、パージポート部付近に、流通口30を穿孔形成すると、蓋体10の機能を害するおそれが少なくないからである。
【0028】
複数の流通口30の総面積は、蓋体10の総面積の0.5%〜80%以下、より好ましくは、4%〜50%以下とされる。これは、複数の流通口30の総面積が蓋体10の総面積の0.5%未満では、サイクルの短縮に必要な洗浄性と乾燥性を得られなくなるおそれがあるからである。逆に80%を超えると、蓋体10の強度低下を招くからである。複数の流通口30の総面積が好ましくは4%以上なのは、自然放置した状態の乾燥に好適であるという理由に基づく。また、複数の流通口30の総面積が好ましくは50%以下なのは、表面プレート14の固定、補強リブの存在等を考慮したものである。
なお、流通口30は、流入口、流出口として洗浄液等の循環性を向上させる機能を有するので、少なくとも2個存在するのが好ましい。
【0029】
以下、具体的な数値をあげて流通口30を説明すると、口径300mmの精密基板を整列収納する基板収納容器の蓋体10の場合には、蓋体10の表面積は366mm×308mmとして計算される。このとき、直径約20mmの大きさ(蓋体10の表面積の0.5%)の流通口30が2個必要となる。このように流通口30が比較的小さい場合、洗浄液やドライエアーが効率良く循環するよう、2個の流通口30を流入口、流出口としてそれぞれホース等を接続し、液体や気体を給排気するのが有効である。但し、この場合には、2個の流通口30に接続するための専用設備が必要である。好ましい例としては、表面プレート14の略四隅部に、直径40mm程度の流通口30をそれぞれ丸く穿孔形成する例があげられる。その他の部分については、従来例と同様であるので説明を省略する。
【0030】
上記構成において、使用前や繰り返し使用後の蓋体10を洗浄槽の洗浄液で洗浄すると、洗浄液は、蓋体10の一部の出没孔12から内部を通過し、残部の出没孔12から外部に流出して蓋体10を洗浄する。この際、一部の流通口30が流入口として、残部の流通口30が流出口としてそれぞれ機能し、比較的多量の洗浄液(図2の矢印参照)を十分に流通、循環させ、蓋体10内部の洗浄に資する。
【0031】
上記構成によれば、蓋体10に小さい出没孔12の他に、複数の流通口30を穿孔形成しているので、洗浄液を十分に流通・循環させることができる。したがって、多数の部品からなるラッチ機構17を十分に洗浄することができ、連続使用時に汚れたままのラッチ機構17から汚染物が蓋体10を経由して容器本体1の内部に流出し、精密基板を汚染させるおそれがない。また、蓋体10の内部に洗浄液やその水滴が多量に残存するおそれが実に少なく、しかも、水滴の除去が比較的簡単なので、乾燥作業の著しい円滑化、短縮化、迅速化、容易化を図ることができる。具体的には、乾燥時間を従来の1/4以下に短縮でき、繰り返し使用時の作業性の大幅な向上が大いに期待できる。さらに、ラッチ機構17の耐久性に限界が生じたり、トラブルが発生した場合でも、蓋体10の内部を確認することが可能なので、きわめて容易にメンテナンスすることができる。
【0032】
次に、図4や図5は本発明の第2の実施形態を示すもので、この場合には、表面プレート14の略外周部以外の領域、すなわち略中央部に単一の流通口30を大きく区画形成し、裏面プレート11の内面の上下左右等から流通口30内に位置する複数の突起31を表面プレート14側に向けて露出状態に突出させ、この複数の突起31を位置決め凹部15として用いたり、蓋体吸着用やガスパージ用等の保持部32として用いるようにしている。その他の部分については、上記実施形態と同様であるので説明を省略する。
【0033】
本実施形態においても上記実施形態と同様の作用効果が期待でき、しかも、表面プレート14を枠状に形成して大きな流通口30を区画形成するので、洗浄性や乾燥作業の作業性の著しい向上が大いに期待できる。さらに、流通口30の開口領域が実に広いので、連結プレート21の磨耗状況等を簡単に把握することができ、メンテナンスや部品交換がますます容易となり、これを通じ、精密基板の汚染防止にも大いに資することが可能になる。
【0034】
なお、上記実施形態では枠状のガスケット9を単に示したが、このガスケット9は耐熱性、耐薬品性等に優れるフッ素ゴム等で形成すると良い。また、裏面プレート11を断面略U字状の略箱形に形成し、この裏面プレート11の開口表面に表面プレート14を隙間を介して螺着被覆したが、表面プレート14を断面略U字状の略箱形に形成することも可能である。また、ラッチ機構17の構成は、同様の機能を期待できるのであれば、適宜変更することが可能である。例えば、回転プレート18の外周部に複数の連結溝をそれぞれ形成するとともに、各連結プレート21の末端部に係合ピン20を突出形成し、これらを実質的に連結し、回転プレート18の回転に基づいて各連結プレート21を上下方向にスライドさせることもできる。さらに、突起31は、単数でも良いし、形状を適宜変更することも可能である。
【0035】
【実施例】
以下、本発明に係る基板収納容器の蓋体の実施例を比較例と共に説明する。
蓋体の乾燥時間の確認試験
実施例の蓋体10と比較例の蓋体10を用意し、これらについて乾燥時間の確認試験を実施し、その結果を表1にまとめて検討・評価した。確認試験は、先ず、純水中に蓋体10を浸漬して取り出し、この蓋体10を保持して複数の出没孔12を図3のように上下方向に向けた。そして、蓋体10内部の純水が蓋体10の流通口30から連続して滴下しなくなったら、60℃に保温された乾燥機中に蓋体10を表面プレート14が上方向を向くよう水平にセットし、蓋体10内部の乾燥時間を測定した。
【0036】
なお、蓋体10内部の乾燥状態は、5分毎に乾燥機から蓋体10を取り出し、表面プレート14をその都度取り外し、蓋体10内部の乾燥状態、すなわち、水滴の有無を把握することにより確認した。水滴が残存している場合には、表面プレート14を再度取り付け、水滴を除去できるまで試験を続行し、水滴が見られなくなった時間を乾燥時間とした。ここで乾燥時間とは、乾燥機にセットした時間の累計をいい、乾燥状態の確認時間を含まない。
【0037】
実施例1の蓋体10
表面プレート14の略四隅部に直径40mmの流通口30をそれぞれ丸く穿孔形成し、この複数の流通口30の面積を蓋体10表面の面積の約5%とした(図2参照)。
実施例2の蓋体10
表面プレート14の略外周部以外の領域、すなわち略中央部に単一の流通口30を大きく区画形成し、この流通口30の面積を蓋体10表面の面積の約47%とした(図4参照)。
比較例の蓋体10
表面プレート14に流通口30を有しない従来の蓋体10を使用した(図7参照)。
なお、ラッチ機構17については、実施例、比較例共に図3の構造のものを用いた。
【0038】
【表1】
【0039】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、蓋体の内部等を十分に洗浄することができ、基板汚染のおそれを有効に解消することができるという効果がある。すなわち、蓋体に出没孔の他に、流通口を形成しているので、洗浄液を十分に流通・循環させることができる。したがって、多数の部品からなるラッチ機構を十分に洗浄することができ、連続使用時に汚れたままのラッチ機構から汚染物が蓋体を経由して容器本体の内部に流出し、精密基板を汚染させるおそれが少ない。また、流体が洗浄液の場合には、蓋体内部の洗浄液やその水滴を容易に除去することができ、しかも、流通口を大きく形成する場合、蓋体内部を簡易に把握することが可能になる。また、流通口の総面積が蓋体の総面積の0.5%未満ではないので、サイクルの短縮に必要な洗浄性と乾燥性を得られなくなるおそれが少ない。さらに、80%を超えることもないので、蓋体の強度低下を招くことも少ない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る基板収納容器の蓋体の実施形態を示す分解斜視説明図である。
【図2】本発明に係る基板収納容器の蓋体の実施形態における蓋体を示す正面図である。
【図3】図1のIII‐III線断面図である。
【図4】本発明に係る基板収納容器の蓋体の第2の実施形態における蓋体を示す正面図である。
【図5】図4のV‐V線断面図である。
【図6】従来の基板収納容器を示す分解斜視説明図である。
【図7】図6のVII‐VII線断面図である。
【符号の説明】
1 容器本体
7 フランジ(開口面)
8 係止穴
10 蓋体
11 裏面プレート
12 出没孔
14 表面プレート
15 位置決め凹部
17 ラッチ機構
18 回転プレート
19 キー溝
21 連結プレート
23 係止爪
30 流通口
31 突起
32 保持部[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention stores, stores and transports precision substrates that are susceptible to damage, such as semiconductor wafers, mask glass, liquid crystal cells, and recording media, or is positioned between processing devices for processing and processing precision substrates. It is related with the cover body of the substrate storage container used for conveyance of this, and storage.
[0002]
[Prior art]
Precision substrates such as semiconductor wafers and mask glass related to the production of conventional semiconductor components have a large diameter (for example, 300 mm to 400 mm) for the purpose of cost reduction by improving yield of precision substrates due to severe price competition of semiconductor devices. The above is being studied at a rapid pitch. At the same time, semiconductor circuits are becoming increasingly finer and DRAM design rules (minimum processing line width) are shifting from 0.25 μm to 0.18 μm or less. A higher degree of cleanliness is also required for containers used for transporting substrates.
[0003]
As a means to realize such a requirement, only a local environment (mini-environment) required for various processing of precision substrates is required to have a cleanness of a highly clean environment (Federal standard 209E) of 1 or less. (Standard level is 0.01), and the substrate storage container is standardized, and a plurality of precision substrates are stored in an airtight state in a clean state, and the substrate storage container is transported between several clean local environments. However, a method for improving the yield has been proposed. In response to such a proposal, development of a substrate storage container that can automatically convey a precision substrate without contaminating it and that can directly access a processing apparatus has been intensively advanced.
[0004]
As shown in part in FIG. 6, this type of substrate storage container closes the container main body 1 for storing a precision substrate (not shown) and the inner peripheral region of the opening of the container main body 1 in an airtight state via a gasket 9. The
[0005]
As shown in FIG. 6, the container body 1 is formed into a substantially cubic shape using various synthetic resins, and stores a plurality of precision substrates side by side.
[0006]
As shown in the figure, side rails 3 and
[0007]
As shown in FIGS. 6 and 7, the
[0008]
The processing apparatus is connected to a substrate storage container transported from the outside world, and includes an access device for loading a precision substrate from the substrate storage container and unloading the precision substrate with the substrate storage container. This access device includes a load port that positions and mounts a substrate storage container and performs connection operation with respect to a processing apparatus, and a lid opening / closing device that opens and closes the
[0009]
The lid opening / closing device includes a connection wall composed of a wall substantially perpendicular to the mounting surface of the load port, and an opening for passing a precision substrate formed on the connection wall and transferred from the substrate storage container in the outside world to the processing device. And an openable / closable cover member that seals the opening and prevents the internal environment from being contaminated by the intrusion of particles from the outside. The cover member positions and holds the lid, and an operation device that locks and unlocks the
[0010]
In the above, when processing and processing a precision substrate in a local environment, first, the substrate storage container is positioned in the processing apparatus and moved forward until the substrate storage container contacts the cover member of the lid opening / closing device. The pair of positioning pins and the pair of
[0011]
[Problems to be solved by the invention]
Since the conventional lid of the substrate storage container is configured as described above, it has the following problems. First, the
[0012]
However, since the
[0013]
The present invention has been made in view of the above, and can sufficiently clean the inside of the lid body, effectively eliminates the possibility of substrate contamination, and easily removes the cleaning liquid inside the lid body and its water droplets. An object of the present invention is to provide a lid for a substrate storage container.
[0014]
[Means for Solving the Problems]
In the present invention, in order to solve the above-mentioned problem, the container main body for storing the precision substrate is provided.Open frontThe lid is attached to and detached from the lid opening / closing device,
The lid is built in between the back plate and the front plate, the front plate fitted into the back plate through a gap, the intrusion hole provided in the outer periphery of at least one of the back plate and the front plate. The locking claw that can be retracted and protruded from the intrusion hole is projected onto the container body.Front inner peripheryA retainer that supports the peripheral edge of the precision substrate housed in the container body is attached to the back plate. Forms a positioning recess to be inserted into the positioning pin of the lid opening / closing device and forms an operation port for the latch mechanism,The distribution port is positioned at a place other than the operation port for the latch mechanism and can be used as an observation window for the latch mechanism, and the total area of the distribution port is 0.5% to 80% of the total area of the lid.It is characterized by that.
[0015]
The surface plateOther than the outer periphery ofDistribution portIt can be.
Also,Back plateFrom the insideDistribution portIt is also possible to project the protrusion located at the exposed position and to use this protrusion for positioning and / or holding.
[0016]
Here, the container body in the claims may be transparent or non-transparent, but in the case of non-transparency, the back and side surfaces of the container body are formed in a transparent window,It is preferable that the substrate in the container body can be observed. The fluid isA liquid such as a cleaning liquid may be used, but various gases may be used. In addition, the distribution port can be a circle, rectangle, oval, triangle, trapezoid, polygon, ellipse, rhombus, mouth shape, square shape, or a combination of these having an arbitrary area, Any of singular and plural may be used. If this distribution port has substantially the same function, it includes notches of various shapes located at the periphery of the surface plate and the like.
[0017]
According to the present invention, when the lid is washed with a fluid such as a cleaning liquid or dry air, the fluid passes through the inside of the part of the cover body and flows out of the remaining part of the cover and cleans the cover body. At this time, the plurality of flow ports function as an inlet and an outlet, respectively, so that the fluid can be sufficiently circulated and circulated to clean the inside of the lid.
[0018]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIGS. 1 to 3, a lid body of a substrate storage container according to the present embodiment frames an inner peripheral region of an opening of a container body 1. A
[0019]
As shown in FIG. 1, the container body 1 is formed into a transparent substantially cubic shape using various synthetic resins such as polycarbonate and acrylic resin having sufficient strength and rigidity, and a plurality of precision substrates having a circular shape. (Not shown) are stored one above the other.
[0020]
As shown in the figure, side rails 3 and
[0021]
The bottom plate, the side rail 3 and the
[0022]
As shown in FIG. 1 to FIG. 3, the
[0023]
A shelf-
[0024]
As shown in part in FIG. 3, each
[0025]
Each connecting
The rotating
[0026]
Each locking
[0027]
As shown in FIG. 2 and FIG. 3, the plurality of
[0028]
The total area of the plurality of
In addition, since the
[0029]
Hereinafter, the
[0030]
In the above configuration, when the
[0031]
According to the above configuration, since the plurality of
[0032]
Next, FIGS. 4 and 5 show a second embodiment of the present invention. In this case, a
[0033]
Also in this embodiment, the same effect as the above embodiment can be expected, and the
[0034]
In the above-described embodiment, the frame-like gasket 9 is simply shown. However, the gasket 9 may be formed of fluororubber or the like having excellent heat resistance and chemical resistance. Further, the
[0035]
【Example】
Examples of the lid of the substrate storage container according to the present invention will be described below together with comparative examples.
Confirmation test of lid drying time
The
[0036]
In addition, the dry state inside the
[0037]
Circulating
A
A
As the
[0038]
[Table 1]
[0039]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to sufficiently clean the inside of the lid body and the like, which can effectively eliminate the possibility of substrate contamination.That is, since the circulation port is formed in addition to the hole in the lid, the cleaning liquid can be sufficiently circulated and circulated. Therefore, the latch mechanism composed of a large number of parts can be sufficiently cleaned, and contaminants can flow out from the latch mechanism that remains dirty during continuous use through the lid to the inside of the container body to contaminate the precision substrate. There is little fear.In addition, when the fluid is a cleaning liquid, the cleaning liquid and water droplets inside the lid can be easily removed, and when the flow port is formed large, the inside of the lid can be easily grasped. .In addition, since the total area of the circulation port is not less than 0.5% of the total area of the lid, there is little possibility that the cleaning property and drying property necessary for shortening the cycle cannot be obtained. In addition, since it does not exceed 80%, the strength of the lid is hardly lowered.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an exploded perspective view showing an embodiment of a lid of a substrate storage container according to the present invention.
FIG. 2 is a front view showing the lid in the embodiment of the lid of the substrate storage container according to the present invention.
3 is a cross-sectional view taken along line III-III in FIG.
FIG. 4 is a front view showing a lid in a second embodiment of a lid of a substrate storage container according to the present invention.
5 is a cross-sectional view taken along line VV in FIG.
FIG. 6 is an exploded perspective view showing a conventional substrate storage container.
7 is a cross-sectional view taken along line VII-VII in FIG.
[Explanation of symbols]
1 Container body
7 Flange (opening surface)
8 Locking hole
10 Lid
11 Back plate
12 Intrusion hole
14 Surface plate
15 Positioning recess
17 Latch mechanism
18 Rotating plate
19 Keyway
21 Connecting plate
23 Claw
30 Distribution port
31 protrusion
32 Holding part
Claims (3)
蓋体は、裏面プレートに隙間を介して嵌め合わされる表面プレートと、これら裏面プレートと表面プレートの少なくともいずれか一方の外周部に設けられる出没孔と、裏面プレートと表面プレートとの間に内蔵され、出没孔から出没可能な係止爪を突出させてこれを容器本体の正面内周部の係止穴に嵌め入れるラッチ機構と、表面プレートに設けられる流体用の流通口とを含み、裏面プレートに、容器本体に収納された精密基板の周縁を支持するリテーナを装着し、表面プレートには、蓋体開閉装置の位置決めピンに挿入される位置決め凹部を凹み形成するとともに、ラッチ機構用の操作口を形成し、流通口を、ラッチ機構用の操作口を除く箇所に位置させるとともに、ラッチ機構用の観察窓に兼用可能とし、流通口の総面積を蓋体の総面積の0.5%〜80%としたことを特徴とする基板収納容器の蓋体。A lid of a substrate storage container in which a lid is attached to and detached from a front surface of a container body that stores a precision substrate by a lid opening and closing device,
The lid is built in between the back plate and the front plate, the front plate fitted into the back plate through a gap, the intrusion hole provided in the outer periphery of at least one of the back plate and the front plate. The rear plate includes a latch mechanism for projecting a latching claw that can be projected and retracted from the projection hole and fitting the latching claw into a locking hole in the front inner periphery of the container body, and a fluid circulation port provided in the front plate. In addition, a retainer for supporting the peripheral edge of the precision substrate housed in the container body is mounted, and a positioning recess to be inserted into the positioning pin of the lid opening / closing device is formed in the surface plate, and an operation port for the latch mechanism is formed. forming a total area of the flow port, with is located in a region other than the operation hole of the latch mechanism, to allow also used as an observation window for the latch mechanism, the lid of the total area of the flow port Lid substrate storage container, characterized in that it has 0.5% to 80%.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000175640A JP4321950B2 (en) | 2000-06-12 | 2000-06-12 | Substrate housing cover |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000175640A JP4321950B2 (en) | 2000-06-12 | 2000-06-12 | Substrate housing cover |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001354249A JP2001354249A (en) | 2001-12-25 |
JP4321950B2 true JP4321950B2 (en) | 2009-08-26 |
Family
ID=18677491
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000175640A Expired - Lifetime JP4321950B2 (en) | 2000-06-12 | 2000-06-12 | Substrate housing cover |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4321950B2 (en) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7344030B2 (en) * | 2003-11-07 | 2008-03-18 | Entegris, Inc. | Wafer carrier with apertured door for cleaning |
JP4809714B2 (en) * | 2006-05-12 | 2011-11-09 | ミライアル株式会社 | Thin plate storage container |
JP5184198B2 (en) * | 2008-05-01 | 2013-04-17 | 信越ポリマー株式会社 | Substrate storage container |
JP6084019B2 (en) * | 2012-11-28 | 2017-02-22 | 信越ポリマー株式会社 | Cover for substrate storage container and substrate storage container |
JP6915037B2 (en) * | 2017-02-27 | 2021-08-04 | ミライアル株式会社 | Board storage container |
-
2000
- 2000-06-12 JP JP2000175640A patent/JP4321950B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001354249A (en) | 2001-12-25 |
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Legal Events
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120612 Year of fee payment: 3 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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