JP4275488B2 - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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Description
理室内に保持する保持手段と、加熱および加圧された前記所定の処理液の蒸気を前記処理室内に供給することによって、前記処理室内の温度および圧力を上昇させる加熱・加圧手段と、前記処理室内の雰囲気を前記処理室の外部に存在する外部雰囲気に開放する開放手段とを、備え、前記開放手段が、前記処理室内に存在する前記所定の処理液が前記外部雰囲気における沸点以上の状態である場合に、前記処理室内の雰囲気を開放する。
処理室内の雰囲気を不活性ガスに置換することができ、処理室内の処理液の蒸気を減少させることによって、処理液が基板に再付着することを防止することができる。
処理室内の純水の温度が摂氏100度以上の状態である場合に、処理室内の雰囲気を大気開放することにより、装置構成を簡素化することができる。
図1は、本発明に係る基板処理装置1の概略図である。第1の実施の形態における基板処理装置1は、LSIなどの電子部品を製造するための円形の半導体基板を被処理基板90としており、基板90に付着した純水(処理液)を乾燥させる乾燥装置としての機能を有する。なお、基板処理装置1は、半導体基板だけでなく、一般に、液晶表示装置の画面パネルを製造するための角形ガラス基板やフラットパネルディスプレイ用の種々の基板に対しても、付着した純水を乾燥させる装置として変形利用することができる。
基板の乾燥処理においてウォーターマークの発生を抑制するためには、先述のように基板90に付着した処理液をすばやく乾燥させることが重要である。そして、その手法としては、高温・低湿度の雰囲気において乾燥処理を行うことも有効である。
第2の実施の形態おける基板処理装置1aは、純水をチャンバ2aから排出することによって、純水の液面と基板90との相対位置を変更し、これによって基板90を高温・低湿度の雰囲気に曝すように構成していた。しかし、純水の液面と基板90との相対位置を変更して、基板90を適切な雰囲気中に曝す手法はこれに限られるものではなく、基板90を移動させることによっても実現することができる。
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
2,2a,2b チャンバ(処理室)
2c 処理槽
2d 排出溝(排出手段)
20,41 ヒータ
21 ドレイン(排出手段)
23 配管(排出手段)
3,3a 保持機構
4 蒸気供給部(加熱・加圧手段、蒸気供給手段)
5 窒素供給部
6,60,61,62,63 開閉バルブ
7 制御部
8 純水供給部
90 基板
Claims (9)
- 基板に付着した所定の処理液を乾燥させる基板処理装置であって、
基板の周辺雰囲気を外部と遮断する処理室と、
基板を前記処理室内に保持する保持手段と、
加熱および加圧された前記所定の処理液の蒸気を前記処理室内に供給することによって、前記処理室内の温度および圧力を上昇させる加熱・加圧手段と、
前記処理室内の雰囲気を前記処理室の外部に存在する外部雰囲気に開放する開放手段とを、備え、
前記開放手段が、
前記処理室内に存在する前記所定の処理液が前記外部雰囲気における沸点以上の状態である場合に、前記処理室内の雰囲気を開放することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記処理室内に不活性ガスを供給するガス供給手段をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置であって、
前記処理室が、前記処理室内を加熱する加熱手段を有することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記処理室が、前記所定の処理液を排出する排出手段を有することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記所定の処理液が純水であり、前記外部雰囲気が大気であって、
前記開放手段が、
前記処理室内の前記純水の温度が摂氏100度以上の状態である場合に、前記処理室内の雰囲気を開放することを特徴とする基板処理装置。 - 基板に付着した所定の処理液を乾燥させる基板処理方法であって、
基板の周辺雰囲気を外部と遮断する処理室内に基板を保持する保持工程と、
加熱および加圧された前記所定の処理液の蒸気を生成する生成工程と、
前記蒸気を前記処理室内に供給することにより、前記処理室内の温度および圧力を上昇させる加熱・加圧工程と、
前記処理室内に存在する前記所定の処理液が前記処理室の外部に存在する外部雰囲気における沸点以上の状態である場合に、前記処理室内の雰囲気を開放する開放工程と、
を有することを特徴とする基板処理方法。 - 請求項6に記載の基板処理方法であって、
前記処理室内に不活性ガスを供給するガス供給工程をさらに有することを特徴とする基板処理方法。 - 請求項6または7に記載の基板処理方法であって、
前記処理室から前記所定の処理液を排出する排出工程を有することを特徴とする基板処理方法。 - 請求項6ないし8のいずれかに記載の基板処理方法であって、
前記所定の処理液が純水であり、前記外部雰囲気が大気であって、
前記開放工程が、
前記処理室内の前記純水の温度が摂氏100度以上の状態である場合に、前記処理室内の雰囲気を開放する工程であることを特徴とする基板処理方法。
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