JP4253773B2 - 表面形状測定装置、及び表面形状測定方法 - Google Patents
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Description
本発明の第6の態様にかかる表面形状測定装置は、上述の測定装置であって、前記試料の自重による反り量を求め、自重による反り量を除いた前記試料の変形量を求めるものである。これにより、自重による反り量を除いた試料の変形量を正確に求めることができる。
本発明の第12の態様にかかる表面形状測定方法は、上述の測定方法であって、前記試料の自重による反り量を求め、自重による反り量を除いた前記試料の変形量を求めるものである。これにより、自重による反り量を除いた試料の変形量を正確に求めることができる。
12 センサヘッド、13 ステージ、15 処理装置、
16 Y駆動機構、17 X駆動機構、
21 光源、22 レンズ、23 スリット、24 レンズ、25 光センサ、
31 位置抽出部、32 変換部、33 フィルタ部、34 逆変換部、
35 形状測定部、36 反り量算出部、
41 センサヘッド制御部、42 記憶部、43 ステージ制御部、
Claims (12)
- 試料の表面形状を測定する表面形状測定装置であって、
前記試料に光を照射する光源と、前記光源からの光のうち前記試料で反射した反射光を受光する光センサとが設けられたセンサヘッドと、
前記センサヘッドと前記試料との相対位置を変化させて、前記試料における測定位置を変化させる駆動機構と、
前記光センサ上での前記反射光の入射位置を抽出する位置抽出部と、
前記試料上の複数の測定位置で抽出された前記反射光の入射位置から構成され、前記反射光の入射位置に前記測定位置が対応付けられた位置データを周波数領域のデータに変換する変換部と、
前記周波数領域のデータに対して、一定周波数以上の成分、又は所定の周波数帯の成分を遮断するようフィルタリングするフィルタ部と、
前記フィルタリングされた周波数領域のデータを、空間領域のデータに逆変換する逆変換部と、
前記逆変換部で逆変換された空間領域のデータの入射位置に基づいて、前記試料の表面形状を測定する形状測定部と、を備える表面形状測定装置。 - 前記フィルタ部でフィルタリングされる成分の周波数が前記試料に設けられているパターンの周期に基づいて設定されている請求項1に記載の表面形状測定装置。
- 前記位置抽出部が前記光センサ上での前記受光強度のピーク位置を前記入射位置として抽出し、
任意の前記相対位置での検出結果に対して、ピーク位置が複数存在する場合に、隣の相対位置でのピーク位置に最も近いピーク位置を入射位置として抽出する請求項1、又は2に記載の表面形状測定装置。 - 前記試料表面と前記センサヘッドとの距離に応じて、前記光センサ上での前記反射光の入射位置が変化する方向に前記反射光の通過を制限するスリットが前記センサヘッドに設けられていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の表面形状測定装置。
- 前記試料の端部において前記試料を支持するステージをさらに備え、
前記試料の裏面、及び表面に対して、算出された表面形状に基づいて、前記試料の自重による反り量を含んだ試料の変形量を求めることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の表面形状測定装置。 - 前記試料の自重による反り量を求め、自重による反り量を除いた前記試料の変形量を求める請求項5に記載の表面形状測定装置。
- 試料に光を照射する光源と、前記光源からの光のうち前記試料で反射した反射光を受光する光センサとが設けられたセンサヘッドと、
前記センサヘッドと前記試料との相対位置を変化させる駆動機構と、を備えた表面形状測定装置による表面形状測定方法であって、
前記センサヘッドと前記試料との相対位置を変化させて、前記試料における測定位置を変化させるステップと、
前記光センサ上での前記反射光の入射位置を抽出するステップと、
前記試料上の複数の測定位置で抽出された前記反射光の入射位置から構成され、前記反射光の入射位置に前記測定位置が対応付けられた位置データを周波数領域のデータに変換するステップと、
前記周波数領域のデータに対して、一定周波数以上の成分、又は所定の周波数帯の成分を遮断するようフィルタリングするステップと、
前記フィルタリングされた周波数領域のデータを、空間領域のデータに逆変換するステップと、
前記逆変換された空間領域のデータの入射位置に基づいて、前記試料の表面形状を測定する形状測定部と、を備える表面形状測定方法。 - 前記フィルタリングされる成分の周波数が前記試料に設けられているパターンの周期に基づいて設定されている請求項7に記載の表面形状測定方法。
- 前記位置抽出部が前記光センサ上での前記受光強度のピーク位置を前記入射位置として抽出し、
任意の前記相対位置での検出結果に対して、ピーク位置が複数存在する場合に、隣の相対位置でのピーク位置に最も近いピーク位置を入射位置として抽出する請求項7、又は8に記載の表面形状測定方法。 - 前記試料表面と前記センサヘッドとの距離に応じて、前記光センサ上での前記反射光の入射位置が変化する方向に前記反射光の通過を制限するスリットが前記センサヘッドに設けられていることを特徴とする請求項6乃至9のいずれかに記載の表面形状測定方法。
- 前記試料の端部において前記試料を支持するステージに前記試料が載置され、
前記試料の裏面、及び表面に対して、算出された表面形状に基づいて、前記試料の自重による反り量を求めることを特徴とする請求項7乃至10のいずれかに記載の表面形状測定方法。 - 前記試料の自重による反り量を求め、自重による反り量を除いた前記試料の変形量を求める請求項11に記載の表面形状測定方法。
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