JP2009139248A - 欠陥検出光学系および欠陥検出画像処理を搭載した表面欠陥検査装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ステージ上に搭載されたディスクの面板表面に光ビームを照射して面板表面を走査する照射光学系と、前記ディスクに照射された光ビームによる面板からの正反射光の光量を変化させる濃淡差を有する濃淡フィルタを備え、前記濃淡フィルタを透過した正反射光を受光する受光光学系と、前記フィルタを通過して得られた正反射光の光量変化より面板表面上の欠陥を識別する処理手段とを有する検査装置を提供する。
【選択図】図1
Description
(1)ディスクの表面に光ビームを照射する照射光学系と、前記ディスクに照射された光ビームによる前記ディスクからの正反射光を、濃淡差を有する第一のフィルタに通過させて受光する第一の受光光学系と、前記第一の受光光学系により得られた光量に基づき前記ディスク上の欠陥を検出する信号処理手段と、を備えることを特徴とする欠陥検査装置である。
(2)(1)の欠陥検査装置であって、さらに、前記ディスクに照射された光ビームによる前記ディスクからの正反射光を第二のフィルタに通過させて受光する第二の受光光学系を備え、前記第一のフィルタは前記正反射光に対してXZ面において略直交する方向に濃淡差を有するフィルタであり、前記第二のフィルタは前記正反射光に対してYZ面において略直交する方向に濃淡差を有するフィルタであることを特徴とする欠陥検査装置である。
(3)(1)の欠陥検査装置であって、さらに、前記ディスクに照射された光ビームによる前記ディスクからの正反射光を受光する第三の受光光学系を備え、前記信号処理手段では、前記第一の受光光学系により得られた光量から前記第三の受光光学系により得られた光量を減算処理して前記ディスク上の欠陥を検出することを特徴とする欠陥検査装置である。
(4)ディスク表面を検査して得られた欠陥のデータから欠陥種に応じた処理方法を行うことによってディスク表面の特徴のある欠陥を検出し、GUIによってユーザが設定した欠陥の凹凸量又は幅をしきい値としてその値以上の欠陥を出力することを特徴とする欠陥データ解析方法である。
(5)ディスク表面を検査して得られた欠陥のデータから欠陥種に応じた処理方法を行うことによってディスク表面の特徴のある欠陥を検出し、GUIによってユーザが設定した欠陥の凹凸量又は幅をしきい値としてその値以上の欠陥を出力することを特徴とする欠陥データ解析方法を搭載した欠陥検査装置である。
ビームスプリッタ104を透過した光ビームは集光レンズ105によって集光され、面板上にスポットSとして投光される。本手法ではスポットSの大きさによって検出分解能が決まるため、面板表面で対象とする欠陥サイズに応じたスポットサイズとなるように集光レンズ105は設定される。また集光したときの焦点が面板表面にくるように焦点位置の調整を行う。なお、ここでは主走査方向をθ方向とし、副走査方向をr方向として、ディスク1が光ビームによりr、θステージ500により螺旋走査されるものとする。
図2(a)のように幅T方向に対して透過率は対数変化する。このことから表面凹凸によって得られる強度変化は線形ではなく対数変化するため、得られる強度に対してもこれを考慮した処理が必要となる。一方、図2(b)は幅Tに対して透過率が線形となるように光学濃度を設計したNDフィルタである。この場合、表面凹凸によって得られる強度変化は線形となる。NDフィルタの製作方法としてはガラス基板上にコーティングする金属膜の厚さを設計した透過率になるよう段階的に変化させる。あるいはガラス基板の厚さを設計した透過率になるよう段階的に変化させる方法などが挙げられる。
ここでXは面板のr方向座標、Yは面板のθ方向座標である。u、vは極座標変換後の直交座標であり、R2は極座標変換後の最外周半径、R1は最内周半径である。ここで求まったx、yが小数のとき線形補間等を施し、対応する画素を作成する必要がある。
をとることにする。ここでそれぞれ絶対値をとっているのは直線として周囲濃度値より値が大きい直線と小さい直線の両方が存在するからである。この処理後取得データに対して強調された直線成分が残るよう2値化処理を行う。
但し、ρは画像の左上隅から直線に下ろした垂線の長さであり、θはx軸と垂線とがなす角である。このとき、1つの直線は、図12(b)で示すθ−ρパラメータ空間上の1点と等価である。対象2値画像で値が‘1’である各点(x、y)において、式(2)を満足する(θ、ρ)の組を計算し、それをプロットしたのが(b)のlP1〜lP2である。はただ1点で交わっており、その点の(θ、ρ)が(a)のP1〜P3が構成する直線を表している。言い換えれば、θ−ρパラメータ空間上で、最も交差回数の多い点(頻度最大の点θm、ρm)を選べば、(θm、ρm)が決定する直線が、2値画像上で最も支配的な直線成分であることになる。
L=l1+g1+l2
次に線分長さ判定よりL>lt、l2<ltとなっており、直線Lが最終的に直線であると判定される。
Cnの値を線分の始点PsからPeまで計算、累積加算してこれを線分長さLで除算すれば、平均的なコントラストCavが求められる。
致命欠陥判定としては求まったコントラスト値と実プロファイルによる高さ計測値との相関を図15のようにとることによって検出された線状欠陥のコントラストから致命欠陥判定が可能である。
但し、a、bは円の中心座標となる。中心座標(a、b)の求め方は点P1、P2、P3を中心とする半径rの円を描き、その円の交差回数の最も多い点が中心座標(a、b)となる。この処理を画像全体の‘1’画素に対して行えば、半径rとなる円の中心座標候補が挙げられる。
次に線分長さ判定よりrθL>rθlt、rθl4>rθlt、rθl5>rθlt、rθl3<rθlt、となっており、円弧rθL 、rθl4、rθl5が円弧であると判定される。
Cnの値を円弧の0°から180°まで計算、累積加算してこれを加算回数Nで除算すれば、平均的なコントラストCavが求められる。
致命欠陥判定としては求まったコントラスト値と実プロファイルによる高さ計測値との相関を図21のようにとることによって検出された線状欠陥のコントラストから致命欠陥判定が可能である。
Claims (9)
- ディスクの表面に光ビームを照射する照射光学系と、
前記ディスクに照射された光ビームによる前記ディスクからの正反射光を、濃淡差を有する第一のフィルタに通過させて受光する第一の受光光学系と、
前記第一の受光光学系により得られた光量に基づき前記ディスク上の欠陥を検出する信号処理手段と、
を備えることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1記載の欠陥検査装置であって、
前記第一のフィルタは光学濃度が線形な特性を示すフィルタであることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1又は2記載の欠陥検査装置であって、
さらに、前記ディスクに照射された光ビームによる前記ディスクからの正反射光を第二のフィルタに通過させて受光する第二の受光光学系を備え、
前記第一のフィルタは前記正反射光に対してXZ面において略直交する方向に濃淡差を有するフィルタであり、
前記第二のフィルタは前記正反射光に対してYZ面において略直交する方向に濃淡差を有するフィルタであることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項3記載の欠陥検査装置であって、
前記第二のフィルタは光学濃度が線形な特性を示すフィルタであることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1又は2記載の欠陥検査装置であって、
さらに、前記ディスクに照射された光ビームによる前記ディスクからの正反射光を受光する第三の受光光学系を備え、
前記信号処理手段では、前記第一の受光光学系により得られた光量から前記第三の受光光学系により得られた光量を減算処理して前記ディスク上の欠陥を検出する
ことを特徴とする欠陥検査装置。 - ディスク表面を検査して得られた欠陥のデータから欠陥種に応じた処理方法を行うことによってディスク表面の特徴のある欠陥を検出し、GUIによってユーザが設定した欠陥の凹凸量又は幅をしきい値としてその値以上の欠陥を出力することを特徴とする欠陥データ解析方法。
- 請求項6記載の欠陥データ解析方法であって、
前記欠陥は、線状欠陥と円弧状欠陥であることを特徴とする欠陥データ解析方法。 - ディスク表面を検査して得られた欠陥のデータから欠陥種に応じた処理方法を行うことによってディスク表面の特徴のある欠陥を検出し、GUIによってユーザが設定した欠陥の凹凸量又は幅をしきい値としてその値以上の欠陥を出力することを特徴とする欠陥データ解析方法を搭載した欠陥検査装置。
- 請求項8記載の欠陥検査装置であって、
前記欠陥は、線状欠陥と円弧状欠陥であることを特徴とする欠陥検査装置。
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