JP4249809B2 - 半導体デバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、柔軟性に優れた半導体デバイスの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
現在、様々な携帯型の電子機器が普及している。これらの電子機器では、DRAM(Dynamic Random Accesess Memory)等の半導体チップがプリント配線基板に実装された状態で使用されている。
【0003】
DRAM等の半導体チップは基板上に形成されたものである。従来は、基板に単結晶シリコンのウエハを用いる。以下にCMOS DRAMのプロセスフローを参照にして、単結晶シリコンのウエハが用いられる理由を説明する。
【0004】
図6〜図8は、従来例に係るCMOS DRAMのプロセスフローを断面図で示すものである。CMOSを形成するためには、基板上にP型領域とN型領域とを形成する必要がある。図6(a)は、P-型の単結晶シリコンウエハ80の所定の領域に、N型不純物を注入して拡散させることで、シリコンウエハ80にP-領域とN-領域81とを形成する工程を示すものである。
【0005】
図6(b)は、形成された領域間又は素子間をSiO2膜で分離する分離領域82を形成する工程を示すものである。尚、表面リークを防止するため、分離領域82の下部にはボロンが注入されたP+チャンネルストッパー83が形成されている。
【0006】
分離領域82を形成に続いて、DRAMのMOSキャパシタ部を形成する。図6(c)は、MOSキャパシタを形成する部分以外をレジスト84でマスクし、MOSキャパシタ形成部に、最初P型不純物のボロンをイオン注入してP+層85aを形成し、次にN型不純物のヒ素をイオン注入してN+層85bを形成する工程を示す。P+層85aとN+層85bからなるP+−N+接合層は、後に形成するMOSキャパシタの容量を増加させるものである。
【0007】
さらに図7を参照にして、キャパシタ部の形成について説明する。N+−P+層接合層85上にポリシリコン86を形成する工程を図7(a)に示す。従来は、ポリシリコン層を700〜900℃の高温で積層する。半導体チップの基板に単結晶シリコンウエハが採用される理由の1つは、このような高温に耐熱性を有するからである。
【0008】
キャパシタ部を形成後、MOSトランジスタ部を形成する。図7(b)はトランジスタを形成する領域にボロンB+をイオン注入してチャンネル層を形成するチャンネルドープ工程を示すものである。尚、応答の速いトランジスタを得るには優れたキャリア移動度のチャンネル層が要求される。この要求を満たすには良質のシリコン層が必要となる。このことが半導体チップを単結晶シリコンウエハ上に形成する理由の1つである。
【0009】
続いてトランジスタ部の形成について説明する。図7(c)は、トランジスタ領域の所定位置にゲート電極を形成し、ソース、ドレイン領域を形成する工程を示すものである。通常ゲート電極には、N+ポリシリコンを使用する。しかしながら配線としてのポリシリコン膜が高抵抗である場合は、ポリシリコン上に例えばMoSixやWSiを積層させるポリサイド87を使用する場合もある。ソース、ドレイン領域の形成にはSiO288が積層されたポリサイド87をマスクとして、N-領域81にP型不純物のボロンを、P-領域80にN型不純物のヒ素をそれぞれイオン注入し、P+ソース・ドレイン領域89、N+ソース領域・ドレイン領域90を形成する。
【0010】
以上の工程でDRAMの回路要素が完成する。次に各構成要素を電気的に接続する配線工程について説明する。図8(a)は、回路要素が完成した基板にリン92を含有するSiO2であるPSG(リンガラス)を層間絶縁膜91として積層させ、電極を形成する位置にコンタクトホール93を開孔する工程を示したものである。
【0011】
層間絶縁膜91には、PSGの代わりにリンとボロンを含有するSiO2であるBPSGを用いてもよい。層間絶縁膜91を形成後、コンタクトホール93を開孔する前に、基板全体をリフローさせて層間絶縁膜91を平坦化する。これは、層間絶縁膜91の段差によって層間絶縁膜91上の配線層が断線することを未然に防止するためである。このリフローは、700〜900℃で実行される。半導体チップが単結晶シリコン基板上に形成される理由の1つは、このような高温に耐熱性を有するからである。
【0012】
図8(b)は、コンタクトホールに電極94を形成する工程を示すものである。電極の材料には、Al又はAl−Si−Cu合金が用いられる。配線層を形成後、チップ表面にはチップを保護するためのSiO2膜又はSiN膜がパッシベーション膜として形成される(図示せず)。
【0013】
上述したようにシリコンウエハに形成された半導体チップは、プリント配線基板に実装される。チップを高密度で実装することで電子機器の小型化を実現する為、様々なチップ実装技術が提案されてきた。日経エレクトロニクス 1996年6月3日号で開示された半導体チップの実装技術の推移を図9に示す。
【0014】
半導体チップの実装技術は、図9(b)に示される半導体チップ95の電極とリード線96とをワイヤボンデング97で接続して、パッケージするQFP(Quad Flat Package),図9(c)で示される半導体チップ95からテープ98で電極を引き出すTCP(Tape Carrier Package)が提案されている。尚、図9(a)は、図9(b)〜(e)に対応する縮尺である。
【0015】
さらに実装密度を高密度にするため、図9(d)で示されるベアチップ95を基板に直接実装し、ワイヤ97で電極を取り出すCOB(Chip On Board)、同様にベアチップを直接プリント配線基板に実装する図9(e)で示されるフリップチップ実装が提案されている。
【0016】
以下に図10を参照にして、フリップチップ実装について説明する。
【0017】
図10は、半導体ベアチップ95をプリント配線基板71にフリップ実装させる工程を断面図で示したものである。図10(a)で示されるように、ベアチップ95の入出力パッド51にはバンプ52が形成されている。バンプ52は半田又はAuで形成される。他方プリント配線基板71にも基板パッド72が形成される。
【0018】
図10(b)は、プリント配線基板71にフリップチップ実装されたベアチップ95を示すものである。入出力パッド52及び基板パッド72は、バンプ52と接続材料53を介して接続されている。接続材料53には半田、導電性接着剤又は異方性導電膜が用いられる。また封止樹脂74によって、ベアチップ95のプリント配線基板71への固定が強化される。
【0019】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、フリップチップ実装には以下に説明する問題点がある。携帯用の電子機器が人間の体にフィットする場合、電子機器に用いられているプリント配線基板に外力が加えられ曲げられることがある。この場合、プリント配線基板上に形成された半導体チップのシリコン基板は固くて、柔軟性に欠けるので、プリント配線基板の曲げにシリコン基板が対応できずに、チップと配線基板との接合部が破壊されて動作不良を引き起こす。
【0020】
上記問題を解決するには、柔軟性に優れた基板上に半導体チップを形成するのが好ましい。当然この半導体チップのプロセスは、係る柔軟性に優れた基板の耐熱温度以下で実行されなくてはならない。
【0021】
さらに、半導体チップの動作速度を高速にするには、チャンネル領域に移動度の優れたポリシリコンを用いるのが好ましい。先に本願出願人は、平成8年4月26日特許出願の特願平08−107360号で低温レーザアニールでアモルファスシリコン膜を低温でポリシリコン膜化する方法を提案している。
【0022】
本発明の目的は、柔軟性に優れた半導体デバイス、及びその製造方法を提供することである。
【0029】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る半導体デバイスの製造方法は、受動素子、能動素子及び配線層を有する半導体デバイスの製造方法であって、ガラス基板に樹脂層を形成する樹脂層形成工程、上記樹脂層に上記受動素子を形成する受動素子形成工程、上記樹脂層に上記能動素子を形成する能動素子形成工程、上記樹脂層に上記配線層を形成する配線層形成工程、上記受動素子、上記能動素子、上記配線層及び上記樹脂層を有する積層体を回路基板にフリップチップ実装する実装工程、及び、上記実装工程の後に上記積層体から上記ガラス基板を除去するガラス基板除去工程を含んでいて、上記ガラス基板除去工程が、上記ガラス基板と上記樹脂層との接合面にアルコール又は有機溶媒を吹き付け、上記ガラス基板を上記樹脂層から剥離するものであることを特徴とする。
【0030】
本発明に係る半導体デバイスの製造方法は、請求項1において上記樹脂層形成工程が上記ガラス基板にポリイミド樹脂層を形成するものであり、上記受動素子形成工程、上記能動素子形成工程及び上記配線層形成工程が、400℃以下で行われるのが好ましい。
【0034】
本発明に係る半導体デバイスの製造方法は、請求項1において、上記能動素子形成工程が、アモルファスシリコン層を形成するアモルファスシリコン層形成工程と、レーザアニールによって上記アモルファスシリコン層をポリシリコン層化させる導電層形成工程とを含んでいるのが好ましい。
【0035】
【発明の実施の形態】
実施の形態1.
図1は、本発明の実施の形態1に係るDRAMの断面図を示すものである。本実施例に係るDRAMは、シリコン樹脂基板、ポリイミド樹脂基板又はテフロン(登録商標)樹脂基板である樹脂基板10上にSiO2膜の絶縁膜11を介して形成されたものである。
【0036】
さらに本実施の形態に係るDRAMは、メモリセル部1と周辺回路部2とからなる。メモリセル部1は、トランジスタ部20、キャパシタ部30及びチップ保護部60を含んでいる。トランジスタ部20とキャパシタ部30とは、金属配線50とビット線23とを介して電気的に接続される。また、ビット線23とキャパシタ部30との間にはSiO2膜である層間絶縁膜40が積層されている。
【0037】
トランジスタ部20は、チャンネル層21とワード線22とを含んでいる。チャンネル層21は、アモルファスシリコン膜であり、P型不純物又はN型不純物が注入されたソース領域、ドレイン領域を有する(図示せず)。ワード線22は、トランジスタ部20においてゲート電極に相当するものであり、シリコンによって形成される。ビット線23はシリコン又は金属が積層されたものであり、金属配線50とチャンネル層21とを電気的に接続する。
【0038】
次にキャパシタ部30について説明する。キャパシタ部30は、ストレージノード31、誘電体膜32及びセルプレート33を含んでいる。ストレージノード31、セルプレート33は、それぞれキャパシタ部30の下方電極、上方電極に相当し、両電極ともシリコン、Al、Cu又はNiを材料とするものである。誘電体膜32は、上記両電極に狭持されるものであり、Ta2O5又はBaSrTiO3で形成されている。
【0039】
キャパシタ部30の上部には、層間絶縁膜41を介してキャパシタ部30とトランジスタ部20とを電気的に接続するAlの金属配線50が形成されている。さらに、金属配線50上にはチップ保護部60が積層されている。チップ保護部60は、SiO2膜又はSiN膜であるパッシベーション膜61とポリイミド膜であるα線保護膜62とが積層されたものである。
【0040】
また、周辺機器部2にも絶縁層11、チャンネル層21、ワード線22、金属配線50、パッシベーション膜61及びα線保護膜62が形成されている。
【0041】
【実施例】
実施例1.
以下に本発明に係る実施例1を説明する。実施例1は前述した実施の形態1に係るDRAMの製造方法であり、図2及び図3は製造方法を示す断面図である。
【0042】
本実施例では、樹脂基板10に東レ・デュポン社製のポリイミド基板、カプトンー100Hを用いた。この基板は約400℃まで物理的特性がほとんど変化しない。従って、DRAMの製造工程は400℃以下で行えばよい。
【0043】
最初に基板10のメモリセル部1と周辺機器部2とに、プラズマCVD法でシリコン酸化膜SiO2を絶縁膜11として積層させる。続いて、積層された絶縁膜11をSOG(Spin on Glass)法で平坦化する。絶縁膜11の積層方法は、基板10を400℃以上に加熱せずにSiO2の積層が可能なものであればよく、光CVD法又はHOMO CVD法を用いることもできる。
【0044】
絶縁膜11を平坦化した後、DRAMのトランジスタ部を形成する為に、メモリセル部1と周辺機器部2の絶縁膜11上にアモルファスシリコン膜であるチャンネル層21を形成する。チャンネル層21を形成する方法は、前述した絶縁膜11の形成方法と同様にプラズマCVD法、光CVD法又はHOMO CVD法といった400℃以下でアモルファスシリコン膜の積層が可能な方法を用いる。図2(a)は、前述した絶縁膜11形成工程とチャンネル層21形成工程を示したものである。
【0045】
次にチャンネル層21のキャリア移動度を高速にするため、アモルファスシリコン膜をレーザアニール法によって融解再結晶させ、ポリシリコン膜化させる。尚、上記方法で形成されたアモルファスシリコン膜は、大量に水素を含んでいるので、いきなり高エネルギー密度のレーザを照射すると、水素が突沸して膜自身を破壊する恐れがある。従って、レーザアニール法は、膜から水素を追い出す低エネルギー密度によるレーザ照射と、膜を融解再結晶化する高エネルギー密度のレーザ照射の2段階のレーザ照射を必要とする。
【0046】
レーザアニールは、基板10を基板ホルダーに保持して冷却しつつチャンネル層21側からレーザ照射を行うものであり、さらにレーザ照射は局所的なものであるから、基板10が400℃以上に加熱されることはない。
【0047】
チャンネル層21をレーザアニール法で活性化した後、チャンネル層21上の所定の位置にポリシリコン膜をワード線22として形成する工程を図2(b)に示す。ワード線22は、DRAMのトランジスタ部20においてゲート電極に相当するものである。ワード線22の形成手段は、400℃以下の温度でポリシリコン膜の形成可能な、プラズマCVD法、光CVD法が用いられる。ワード線22は、周辺機器部2にも形成される。ワード線22の形成に続いて、ワード線22をマスクにして、チャンネル層21にP型不純物、又はN型不純物を注入することでチャンネル層21にソース領域、ドレイン領域を形成する(図示せず)。
【0048】
ソース領域とドレイン領域とを有するチャンネル層21、及びゲート電極に相当するワード線22を形成したすることでトランジスタ部20が完成する。図2(c)は、チャンネル層21に接続されたビット線23を、ポリシリコン又は金属で形成する工程を示すものである。
【0049】
ビット線23上に層間絶縁膜層40を介して、キャパシタ部30を形成する工程を図3(a)に示す。層間絶縁膜40は、SiO2膜であり、前述した別の膜同様にプラズマCVD法等を用いて形成される。層間絶縁膜40を形成後、プラズマCVD法によってポリシリコン膜を積層させて、キャパシタ部30の下方電極に相当するストレージノード31及び上方電極に相当するセルプレート33を形成する。ストレージノード31及びセルプレート33は、Al、Cu又はNiをスパッタして形成したものでもよい。ストレージノード31とセルプレート33に狭持される誘電体32膜は、プラズマCVD法でTa2O5膜又はBaSrTiO3膜を積層させて、形成する。尚、BaSrTiO3膜は、低温CVD法で積層させることも可能である。トランジスタ部20同様に、キャパシタ部30は400℃以下で形成される。
【0050】
キャパシタ部30を形成後、層間絶縁膜41を介して金属配線50を形成する工程を図3(b)に示す。層絶縁層41の形成方法は、前記の層間絶縁膜40と同様である。層間絶縁膜41を形成後、CMP法(Chemical Mechanical Polishing)で、層間絶縁膜41を平坦化し、平坦化された層間絶縁層41上にAlをスパッタして、金属配線50を形成する。
【0051】
金属配線50を形成後、プラズマCVD法によってSiO2膜又はSiN膜をパッシベーション膜61として形成し、さらにパッシベーション膜61上にα線防護膜62をポリイミドで形成する。前述した別の膜と同様にパッシベーション膜61は400℃以下で積層される。こうして、図1に示されるDRAMが完成する。
【0052】
さらに、図1で示されたDRAMの所定の位置にバンプを形成した後、DRAMチップが形成されている基板10をダイシングし、DRAMチップを分離する。ダイシングされたDRAMチップをプリント配線基板にフリップチップ実装することで、柔構造のDRAMチップを得ることができる。
【0053】
本実施例では、プラズマCVDに日本ASM社製のEAGLE−10を、光CVDには関西新技術研究所製のLC−1800を用いた。
【0054】
また、本実施例のDRAMの製造フローでは、ビット配線を形成後にキャパシタ領域を形成するフロー、即ちビット線層上にキャパシタ領域が形成された構造であるが、本発明はこれに制限されることなくキャパシタ領域を形成後にビット線を形成するフロー、即ちキャパシタ領域上にビット線層が形成される構造であってもよい。
【0055】
さらに、本実施例ではポリイミド基板を基板に用いたが、シリコン樹脂基板、テフロン(登録商標)基板等を用いてもよい。尚、テフロン(登録商標)基板を用いた場合は、前述したDRAMの製造工程を200℃以下で実施する必要がある。
【0056】
また、本実施例では基板上にDRAMを形成したが、本発明は基板上に形成する半導体チップをDRAMに制限するものではなく、DRAM以外の半導体チップを基板上に形成することもできる。
【0057】
実施例2.
次に、図4を参照にして本発明の実施例2に係るDRAMについて説明する。図4は、本発明の実施例2に係るDRAMの断面図を示すものである。
【0058】
実施例2に係るDRAMは、ガラス基板12上にポリイミド、シリコン樹脂又はテフロン(登録商標)からなる樹脂層13を介して形成されたものである。
【0059】
さらに本実施の形態に係るDRAMは、メモリセル部1と周辺回路部2とからなる。メモリセル部1は、トランジスタ部20、キャパシタ部30及びチップ保護部60を含んでいる。トランジスタ部20とキャパシタ部30とは、金属配線50とビット線23とを介して電気的に接続される。また、ビット線23とキャパシタ部30との間にはSiO2膜である層間絶縁膜40が積層されている。
【0060】
トランジスタ部20は、チャンネル層21とワード線22とを含んでいる。チャンネル層21は、アモルファスシリコン膜であり、P型不純物又はN型不純物が注入されたソース領域、ドレイン領域を有する(図示せず)。ワード線22は、トランジスタ部20においてゲート電極に相当するものであり、シリコンによって形成される。ビット線23はシリコン又は金属が積層されたものであり、金属配線50とチャンネル層21とを電気的に接続する。
【0061】
次にキャパシタ部30について説明する。キャパシタ部30は、ストレージノード31、誘電体膜32及びセルプレート33を含んでいる。ストレージノード31及びセルプレート33は、それぞれキャパシタ部30の下方電極、上方電極に相当し、両方ともシリコン、Al、Cu又はNiを材料とするものである。誘電体膜32は、上記両電極に狭持されるものであり、Ta2O5又はBaSrTiO3で形成されている。
【0062】
キャパシタ部30の上部には、層間絶縁膜41を介してキャパシタ部30とトランジスタ部20とを電気的に接続するAlの金属配線50が形成されている。さらに、金属配線50上にはチップ保護部60が積層されている。チップ保護部60は、SiO2膜又はSiN膜であるパッシベーション膜61とポリイミド膜であるα線保護膜62とが積層されたものである。
【0063】
また、周辺機器部2にも絶縁層11、チャンネル層21、ワード線22、金属配線50、パッシベーション膜61及びα線保護膜62が形成されている。
【0064】
次に実施例2に係るDRAMの製造方法について説明する。最初に約0.5mmの厚さのガラス基板12に約10μmのポリイミド膜13を形成する。ポリイミド膜13の形成には、真空雰囲気中でポリイミド膜をローラーによってガラス基板に圧着する方法、ポリイミド膜をガラス基板に糊付けする方法、又はガラス基板にポリイミド溶融液を塗布し、焼成させる方法等が用いられる。
【0065】
ポリイミド膜13の形成後、絶縁膜11を形成する工程からα線防護膜62を形成する工程に関しては、先に説明した実施例1に係るDRAMの製造方法と同様である。
【0066】
上記の製造方法で形成されたDRAMをプリント配線基板に実装する工程について説明する。図4で示されるDRAMの所定の位置にAlを用いて、DRAMベアチップから外部に電極を取り出す入出力パッドを形成し、さらに入出力パッド上にAu又は半田でバンプを形成する。ガラス基板13上のDRAMベアチップ70に形成された入出力電極52とプリント配線基板71に形成された基板パッド72とが、バンプ52を介して接するフリップチップ実装する工程を図5(a)に示す。
【0067】
図5(b)で示されるように、バンプ52と基板パッド72とは接続材料73で接続され、さらにDRAMベアチップ70は封止樹脂74によってプリント配線基板71に固定される。接続材料73には半田、導電性接着剤又は異方性導電膜が用いられる。
【0068】
最後にDRAMベアチップ70のポリイミド膜とガラス基板12との接合面に表面張力の低いアルコール又は有機溶媒を吹きかけることでガラス基板12をDRAMベアチップ70から剥離する。尚、ガラス基板12を剥離する代わりにHF水溶液を用いて、ガラス基板12を溶解し、除去してもよい。このことで柔構造のDRAMチップを得ることができる。
【0069】
さらに、本実施例ではガラス基板上にポリイミド層を形成したが、シリコン樹脂層、テフロン(登録商標)樹脂層等を形成してもよい。尚、テフロン(登録商標)樹脂層を形成した場合は、前述したDRAMの製造工程を200℃以下で実施する必要がある。
【0076】
【発明の効果】
請求項1に係る半導体デバイスの製造方法は、ガラス基板上の樹脂層に受動素子、能動素子及び配線層を形成し、プリント回路基板にフリップチップ実装し、ガラス基板を除去するものである。このことで柔軟な構造の半導体デバイスを製造することができる。
さらに、アルコール又は有機溶剤を用いてガラス基板と樹脂層とを剥離するものであるので、容易に樹脂層からガラス基板を除去することができる。
【0077】
請求項2に係る半導体デバイスの製造方法は、請求項1においてガラス基板上のポリイミド樹脂層に受動素子、能動素子及び配線層を400℃以下で形成したものである。このことで柔軟な構造の半導体デバイスを製造することができる。
【0081】
請求項3に係る半導体デバイスの製造方法は、請求項1において、アモルファスシリコン層を形成し、係るアモルファスシリコン層をレーザアニールでポリシリコン層を形成するものである。このことによって能動素子のチャンネル領域を活性化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態1に係るDRAMを示すものである。
【図2】 (a)、(b)、(c)は、本発明の実施例1に係るDRAMの製造方法を示すものである。
【図3】 (a)、(b)は、本発明の実施例1に係るDRAMの製造方法を示すものである。
【図4】 本発明の実施例2に係るDRAMを示すものである。
【図5】 (a)、(b)は、本発明の実施例2に係るDRAMの製造方法を示すものである。
【図6】 (a)、(b)、(c)は、従来のDRAMの製造方法を示すものである。
【図7】 (a)、(b)、(c)は、従来のDRAMの製造方法を示すものである。
【図8】 (a)、(b)は、従来のDRAMの製造方法を示すものである。
【図9】 半導体チップの実装方法の推移を示すものである。
【図10】 従来のフリップチップ実装を示すものである。
【符号の説明】
1 メモリセル部、 2 周辺回路部、 10 樹脂基板、 11 絶縁膜、12 ガラス基板、 13 樹脂層、 20 トランジスタ部、 21 チャンネル層、 22 ワード線、 23 ビット線、 30 キャパシタ部、 31 ストレージノード、 32 誘電体膜、 40 層絶縁膜、 41 層間絶縁膜、 50 金属配線、 51 入出力パッド、 52 バンプ、 61 パッシベーション膜、 62 α線保護膜、 70 DRAMベアチップ、 71プリント配線基板、 72 基板パッド、 73 接続材料、 74 封止樹脂、 80 シリコンウエハ、 81 N-領域、 82 分離領域、 83 チャンネルストッパー、 84 レジスト、 85a P+層、 85b N+層、 85 P+−N+層、 86 ポリシリコン、 87 ポリサイド、 88 SiO2膜、 89 P+ソース・ドレイン領域、 90 N+ソース・ドレイン領域、 91 PSG層、 92 リン、93 コンタクトホール、 94 電極、 95 半導体チップ、 96 リード線、 97 ワイヤボンディング、98 テープ。
Claims (3)
- 受動素子、能動素子及び配線層を有する半導体デバイスの製造方法であって、
ガラス基板に樹脂層を形成する樹脂層形成工程、
上記樹脂層に上記受動素子を形成する受動素子形成工程、
上記樹脂層に上記能動素子を形成する能動素子形成工程、
上記樹脂層に上記配線層を形成する配線層形成工程、
上記受動素子、上記能動素子、上記配線層及び上記樹脂層を有する積層体を回路基板にフリップチップ実装する実装工程、
及び上記実装工程の後に上記積層体から上記ガラス基板を除去するガラス基板除去工程を含んでいて、
上記ガラス基板除去工程が、上記ガラス基板と上記樹脂層との接合面にアルコール又は有機溶媒を吹き付け、上記ガラス基板を上記樹脂層から剥離するものであることを特徴とする半導体デバイスの製造方法。 - 上記樹脂層形成工程が上記ガラス基板にポリイミド樹脂層を形成するものであり、
上記受動素子形成工程、上記能動素子形成工程及び上記配線層形成工程が、400℃以下で行われるものである請求項1に記載の半導体デバイスの製造方法。 - 上記能動素子形成工程が、
アモルファスシリコン層を形成するアモルファスシリコン層形成工程と、
レーザアニールによって上記アモルファスシリコン層をポリシリコン層化させる導電層形成工程とを含んでいる請求項1に記載の半導体デバイスの製造方法。
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