JP4233500B2 - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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Description
一方で、液晶ディスプレイの駆動回路を構成するTFTに関しては、充分に大きなオン電流が要求され、近年では、チャネル長が2μm以下のTFTの開発が行われている。
ここで、LDD構造のTFTを2μm以下のチャネル長で大面積の基板上に形成する場合には、低濃度不純物を添加した領域(LDD領域)をセルフアライメント(自己整合)で形成することが重要となってくる。
まず、基板1上に、絶縁膜2、半導体層3、ゲート絶縁膜4、ゲート電極6を形成した後、Nチャネル(Nch)低濃度不純物領域8及びPチャネル(Pch)低濃度不純物領域13を形成するために、Nch低濃度不純物領域8にはリンイオン7を、Pch低濃度不純物領域13にはボロンイオン12をそれぞれイオン注入する(図2(a)、(b))。その後、第一の層間絶縁膜15を形成した後(図2(c))、第一の層間絶縁膜15とゲート絶縁膜4とを異方性でエッチングすることにより、ゲート電極6の側面にサイドウォールスペーサー16を形成する(図2(d))。次に、ゲート電極6及びサイドウォールスペーサー16をマスクとして、Nch高濃度不純物領域24及びPch高濃度不純物領域26を形成するために、Nch高濃度不純物領域24にはリンイオン28を、Pch高濃度不純物領域26にはボロンイオン19をそれぞれイオン注入することで、サイドウォールスペーサー16の下の半導体層3に、セルフアライメントでNchLDD領域25及びPchLDD領域27をそれぞれ形成する(図2(e)、(f))。次に、熱処理を施して、NchLDD領域25、PchLDD領域27、Nch高濃度不純物領域24及びPch高濃度不純物領域26に注入された不純物イオン7、12、28、19の活性化や半導体層3全体の結晶性の回復を行った後、第二の層間絶縁膜21、コンタクトホール、ソース・ドレイン配線22を形成し、最後に第三の絶縁膜23を形成する(図2(g))。
以下に本発明を詳述する。
上記不純物の濃度が異なる半導体領域とは、半導体層の一部を構成し、半導体中に不純物が相対的に低濃度で注入されてなる低濃度不純物領域、及び、半導体中に不純物が相対的に高濃度で注入されてなる高濃度不純物層を含むものである。本発明の半導体装置の好ましい形態としては、低濃度不純物領域がn−、高濃度不純物層がn+のNchTFTと、低濃度不純物領域がp−、高濃度不純物層がp+のPchTFTとが形成された形態等が挙げられる。
また、本発明においては、不純物の濃度が異なる半導体領域を有するLDD構造が用いられることから、チャネル長を短くした場合であっても、高信頼性を得ることができ、集積性を向上することができる。
上記ゲート電極は、ゲート絶縁膜上に配置される。ゲート電極の寸法は特に限定されるものではない。
上記サイドウォールスペーサーは、ゲート電極の側面に配置される。これにより、ゲート電極及びサイドウォールスペーサーをマスクとして、高濃度不純物層をセルフアライメントにて容易に形成することが可能となる。サイドウォールスペーサーの材質としては、二酸化珪素(SiO2)膜等が挙げられる。サイドウォールスペーサーの寸法は特に限定されないが、通常では、幅は、ゲートの電極の端からゲート絶縁膜の端までの距離と等しくされ、厚さは、ゲート電極の厚さと等しくされる。
低濃度不純物領域の好ましい形態としては、半導体層のゲート電極の下の領域に形成されたチャネル領域を挟むように左右対称に形成された形態が挙げられる。
また、少なくとも一部の高濃度不純物層に含有される他の不純物は、通常では、イオン注入前の状態において、その下にある低濃度不純物領域と導電型が異なる高濃度不純物層に対してドープされるものである。少なくとも一部の高濃度不純物層に含有させる他の不純物としては、他の不純物を注入することで、NchTFTを形成する場合であれば、リンイオン(原子)等が挙げられ、PchTFTを形成する場合であれば、ボロンイオン(原子)等が挙げられる。少なくとも一部の高濃度不純物層に含有される他の不純物の濃度は、全ての高濃度不純物層に含まれる不純物の濃度よりも高濃度であることが好ましく、他の不純物の種類によって異なるが、高濃度不純物層の抵抗率は、25℃で10kΩ/□以下であることが好ましい。高濃度不純物層の寸法は特に限定されるものではないが、高濃度不純物層は、低濃度不純物領域を覆うように形成されていることが好ましい。また、高濃度不純物層は、低濃度不純物領域とオーミック接触していることが好ましい。
本発明の半導体装置は、このような構成要素を必須として形成されるものである限り、その他の構成要素を含んでいても含んでいなくてもよく、特に限定されるものではない。
上記ゲート絶縁膜の形成工程は、スパッタ法、常圧CVD法、低圧CVD法、プラズマCVD法、リモートプラズマCVD法等により、絶縁膜を形成することが好ましい。ゲート絶縁膜の材質としては、二酸化珪素(SiO2)、窒化シリコン、酸化タンタル、酸化アルミニウム等が挙げられる。
上記ゲート電極の形成工程は、スパッタ法等により、金属膜を形成することが好ましい。
上記ゲート絶縁膜のエッチング工程は、同時にゲート電極の側面にサイドウォールスペーサーを形成するものであり、サイドウォールスペーサーの元になる絶縁膜とゲート絶縁膜とを、垂直方向に強い異方性のある反応性イオンエッチング(RIE)法等により、異方性エッチングすることにより行うことができる。これにより、ゲート絶縁膜を所望の位置に形成することができる。エッチングプロセスとしては、ウェットエッチングプロセスが好ましい。
上記高濃度不純物層の形成工程は、ゲート電極とサイドウォールスペーサーとをマスクにして選択的に成膜することが好ましい。高濃度不純物層の形成方法としては、選択成長法が好ましい。また、高濃度不純物層は、低濃度不純物領域を覆うように形成されることが好ましい。
また、本発明の半導体装置の製造方法によれば、低抵抗のソース・ドレインを備えた高性能、高信頼性の薄膜トランジスタを形成することができる。すなわち、高濃度不純物層を予め導電型が決定された材料を用いて形成することにより、不純物のイオン注入による高濃度不純物層(高濃度不純物領域)の損傷を低減することができ、熱処理によって高濃度不純物層の結晶性を充分に回復させることが可能となる。また、チャネル領域を含む半導体層と高濃度不純物層とをそれぞれ独立した層として形成するため、半導体層と高濃度不純物層との膜厚を独立して任意に選ぶことができ、半導体層を薄くしてチャネル領域の電界効果移動度を高めたり、高濃度不純物層を厚くしてソース・ドレインを低抵抗にしたりすることが可能となる。
また、本発明においては、高濃度不純物層を予め導電型が決定された材料を用いて形成することにより、高濃度不純物層へのイオン注入前のレジストのパターニング工程を1工程削減することができるので、本発明の半導体装置は、簡便かつ安価に製造することができる。
図1(a)〜(j)は、本発明に係る実施例1の半導体装置の製造方法を示す断面模式図である。
まず、図1(a)に示すように、基板1上に半導体層3を形成する。この基板1としては、例えば、石英基板、ガラス基板、又は、絶縁性膜で被覆されたガラス基板等を用いることができる。本実施例では、ガラス基板1を絶縁性膜2で被覆した基板を用いた。半導体層3としては、非晶質シリコン、微結晶シリコン、多結晶シリコン等の半導体膜を用いることができる。また、基板1として単結晶シリコンを用いた場合には、半導体層3を形成する必要がなく、その単結晶シリコンをそのまま半導体層3として用いることができる。更に、半導体層3は、上述した材料にゲルマニウム(Ge)、ニッケル(Ni)、リン(P)、ホウ素(B)、ヒ素(As)等を含有する材料を用いて形成してもよい。
次に、図1(d)に示すように、NchTFTを形成する領域のみに不純物イオン7が注入されるように、PchTFTを形成する領域にレジスト10を形成し、ゲート電極6をマスクにしてセルフアライメントで不純物イオン7を注入して、半導体層3にNch低濃度不純物領域8を形成する。このとき、ゲート電極6下の半導体層3の部分には不純物イオン7が注入されないので、チャネル領域(半導体領域の一部)9が形成される。また、PchTFTを形成する領域は、レジスト10で覆われているので不純物イオン7が注入されない。本実施例では、不純物イオン7としてリンイオンを用い、エネルギー:5〜100keV、イオンドーズ量:3×1013ions/cm2の注入を行った。
次に、図1(g)に示すように、第一の層間絶縁膜15とゲート絶縁膜4とを異方性でエッチングすることで、ゲート電極6の側面にサイドウォールスペーサー16を形成した。
次に、図1(j)に示すように、第二の層間絶縁膜21を成膜し、コンタクトホール、ソース又はドレインの配線22を形成し、その後、第三の絶縁膜23を成膜した。
2:絶縁膜
3:半導体層
4:ゲート絶縁膜
6:ゲート電極
7、12、19、28:不純物イオン
8、25:Pチャネル低濃度不純物領域(半導体領域の一部)
13、27:Nチャネル低濃度不純物領域(半導体領域の一部)
9、14:チャネル領域(チャネル部、半導体領域の一部)
10、11、18、29、30:レジスト
15:第一の層間絶縁膜
16:サイドウォールスペーサー
17、24:Pチャネル高濃度不純物層(Pチャネル高濃度不純物領域、半導体領域の一部)
20、26:Nチャネル高濃度不純物層(Nチャネル高濃度不純物領域、半導体領域の一部)
21:第二の層間絶縁膜
22:配線
23:第三の絶縁膜
Claims (4)
- 導電型が異なるNチャネル薄膜トランジスタ及びPチャネル薄膜トランジスタを含んで構成される半導体装置であって、
該Nチャネル薄膜トランジスタ及びPチャネル薄膜トランジスタは、半導体層、ゲート絶縁膜及びゲート電極をこの順に基板上に備えるとともに、ゲート電極の側面に形成されたサイドウォールスペーサー、及び、ゲート絶縁膜の側面に形成された高濃度不純物層を備えたものであり、
該半導体層は、ゲート電極の下以外かつ高濃度不純物層の下に、該高濃度不純物層よりも不純物の濃度が低く導電型が同じである低濃度不純物領域が形成されており、
該ゲート絶縁膜は、ゲート電極及びサイドウォールスペーサーの下にのみ形成されており、
該Nチャネル薄膜トランジスタ及びPチャネル薄膜トランジスタのいずれか一方が備える高濃度不純物層は、導電型が異なるn型不純物及びp型不純物を含有する第一の高濃度不純物層であり、
該Nチャネル薄膜トランジスタ及びPチャネル薄膜トランジスタの他方が備える高濃度不純物層は、n型不純物及びp型不純物のうち、Nチャネル薄膜トランジスタであればn型不純物のみを、Pチャネル薄膜トランジスタであればp型不純物のみを、該第一の高濃度不純物層と同じ濃度で含有する第二の高濃度不純物層である
ことを特徴とする半導体装置。 - 導電型が異なるNチャネル薄膜トランジスタ及びPチャネル薄膜トランジスタを含んで構成される半導体装置の製造方法であって、
該半導体装置の製造方法は、基板上に半導体層を形成する工程と、
半導体層上にゲート絶縁膜を形成する工程と、
ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成する工程と、
ゲート電極をマスクにして半導体層内に低濃度不純物領域を形成する工程と、
ゲート電極の側面にサイドウォールスペーサーを形成するとともに、ゲート電極及びサイドウォールスペーサーの下以外のゲート絶縁膜をエッチングする工程と、
ゲート電極とサイドウォールスペーサーとをマスクにして、低濃度不純物領域の露出した部分に、n型不純物又はp型不純物を含有する高濃度不純物層を選択的に成膜する工程と、
該高濃度不純物層に含有させた不純物がn型不純物であれば、Pチャネル薄膜トランジスタとなる領域に配置された高濃度不純物層のみにp型不純物を注入し、該高濃度不純物層に含有させた不純物がp型不純物であれば、Nチャネル薄膜トランジスタとなる領域に配置された高濃度不純物層のみにn型不純物を注入する工程とを含むものである
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項1記載の半導体装置、又は、請求項2記載の半導体装置の製造方法により製造された半導体装置を備えてなることを特徴とする薄膜トランジスタアレイ基板。
- 請求項3記載の薄膜トランジスタアレイ基板を備えてなることを特徴とする液晶表示装置。
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