JP4233060B2 - 多層回路の絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物及び絶縁パターンの形成方法 - Google Patents
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Description
多層回路の製造における本発明の絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物を用いた絶縁パターンの形成は下記の各工程で行われる。
(1)予め導体回路パターンが形成された基板上に絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物をスクリーン印刷、バーコータ等の手段で塗布する工程、
(2)塗膜を乾燥、固化しその表面にネガマスクを載置し、エネルギー線を照射して露光する工程、
(3)露光した絶縁パターン形成用感光性ペースト層の未露光部分を現像液で除去して絶縁パターンを形成する工程、及び
(4)(1)〜(3)の各工程を複数回繰り返す工程。
(イ)調製例1(セラミックペースト)
アルミナ(平均粒径7.0μm ) 45重量部
ホウ珪酸ガラス(平均粒径7.0μm ) 20重量部
カルボキシエチルセルロース(平均分子量約180,000
、酸価125) 4.5重量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 3重量部
2,4−ジエチルチオキサントン 0.05重量部
ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート 15重量部
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル 15重量部
化43の有機チタン化合物 0.03重量部
をボールミル中で30分間よくかきまぜて絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物を調製した。
ホウ酸鉛ガラス(平均粒径7.0μm ) 70.5重量部
ヒドロキシエチルセルロースとフマル酸との反応物
(平均分子量約200,000、酸価100) 4.5重量部
メチルセルロース(平均分子量約270,000 ) 7.5重量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 3重量部
2,4−ジエチルチオキサントン 0.05重量部
ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート 15重量部
ジエチレングリコールモノエチルエーテル 7重量部
化48の有機ケイ素化合物 1重量部
を調製例1と同様によくかきまぜて絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物を調製した。
ホウ珪酸鉛ガラス(平均粒径7.0μm) 15重量部
メチルメタクリレート/メチルアクリレート共重合体
(重量比80/20、平均分子量約60,000、酸価110)10重量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 7重量部
ベンジルメチルケタール 3重量部
ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート 10重量部
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル 10重量部
化44の有機チタン化合物 4重量部
を調製例1と同様によくかきまぜ、混合し、低融点ガラスを有する絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物を調製した。
予め導体パターンが形成されたガラス基板上に調製例1で調製した絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物をスクリーン印刷法で印刷し、乾燥した後、ネガマスクを介して紫外線を照射し露光した。得られた絶縁層を現像液で現像し再現性の高い絶縁パターンを形成した。前記パターンにはピンホールが見られなかった。また、調製例1で調製した絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物を1か月間保存したのち前記と同様に導体パターンが形成されたガラス基板上に塗布し絶縁パターンを形成した。1か月間保存後の絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物にはゲル化が生じておらず、また得られた絶縁パターンにはピンホールが見られなかった。
予め導体パターンが形成されたセラミック基板上に調製例2で調製された絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物をスクリーン印刷法で印刷し、乾燥後、ネガマスクを介して、露光、現像し、その上にセラミック基板を重ねて焼成して、インクジェットノズルを作成した。得られたインクジェットノズルには液もれやインク詰まりがなかった。また、調製例2で調製した絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物を3か月間保存したのち前記と同様にインクジェットノズルを作成した。3か月間保存後の絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物にゲル化が生じておらず、また得られたインクジェットノズルには液もれやインク詰まりがなかった。
予め導体パターンが形成されたガラス基板上に調製例3で調製された絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物をスクリーン印刷法にて印刷し、乾燥後、ネガマスクを介して、露光、現像したが、再現性の高い絶縁パターンが得られた。パターンにはピンホール等はみられなかった。また、調製例3で調製した絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物を3か月間保存したものを用いて同様に導体パターンが形成されたガラス基板上に絶縁パターンを形成したが、絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物にはゲル化等は生じておらず、同様にピンホール等のない優れた絶縁パターンが得られた。
Claims (2)
- (a)カルボキシル基を含有するアルカリ可溶性高分子バインダー、(b)光重合性モノマー、(c)光重合開始剤、(d)無機化合物粒子、(e)有機チタン化合物及び/又は有機ケイ素化合物、及び(f)有機溶媒を含有する多層回路の絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物であって、前記(d)成分が粒子の80重量%以上が直径1〜10μmの範囲にある無機化合物粒子であり、(e)成分が化1〜化18から選ばれる化合物であることを特徴とする多層回路の絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物。
- 導体回路パターンが形成された基板上に請求項1記載の多層回路の絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物を塗布し感光性ペースト層を形成する工程、ネガマスクを介して露光する工程、現像して未露光部分を除去する工程の各工程を複数回繰り返すことを特徴とする請求項2記載の多層回路の絶縁パターンの形成方法。
Priority Applications (1)
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JP2005301095A JP4233060B2 (ja) | 2005-10-17 | 2005-10-17 | 多層回路の絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物及び絶縁パターンの形成方法 |
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JP5531896A Division JP3830109B2 (ja) | 1996-02-20 | 1996-02-20 | 絶縁蛍光体パターン形成用感光性ペースト組成物及び絶縁蛍光体パターンの形成方法 |
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JP2006091903A JP2006091903A (ja) | 2006-04-06 |
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JP2006091903A (ja) | 2006-04-06 |
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