JP4228021B2 - 有機el素子 - Google Patents
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Description
(1) ホール注入電極と、電子注入電極と、これらの電極間に設けられた1種以上の有機層とを有し、
前記ホール注入電極は、
複数形成された発光部にそれぞれ透明電極を有し、
発光部以外の部分に配置され、前記透明電極と接続するシート抵抗1Ω/□以下の金属電極を有し、
隣接する透明電極間を含む前記透明電極の発光部以外の部分及び金属電極を覆うように形成され、発光領域を規定する絶縁膜を有し、
前記絶縁膜上に形成され、オーバーハング部分を備える素子分離構造体を有し、
前記素子分離構造体の上面の幅が前記絶縁膜より狭く形成されている有機EL素子。
(2) 前記素子分離構造体は、前記発光領域をライン毎に分離するように延伸された延伸部を複数有し、当該複数の延伸部の端部が接続されている上記(1)の有機EL素子。
<実施例1>
ガラス基板上に、膜厚85nmのITO透明電極(ホール注入電極)を成膜し、縦280×横280μm2のサイズの画素を、20μm 間隔をあけて、64ドット×7ライン、パターニングした。次いで、ITO透明電極の周囲に、約1.2μm の厚さのAl−W(W:3.0at%)合金電極(シート抵抗:0.4Ω/□)を、パターン形成した。なお、各画素、ライン間の金属電極は共通とした。得られたホール注入電極の抵抗を測定したところ、1ライン当たり64Ωと、ITO単体のホール注入電極に比べ1/50以下と極めて低い抵抗値が得られた。
膜厚を120nmとした他は、実施例1と同様にして得たITO透明電極と金属電極からなるホール注入電極が成膜された基板を、中性洗剤、アセトン、エタノールを用いて超音波洗浄し、煮沸エタノール中から引き上げて乾燥した。次いで、表面をUV/O3洗浄した後、真空蒸着装置の基板ホルダーに固定して、槽内を1×10−4Pa以下まで減圧した。4,4’,4”−トリス(−N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ)トリフェニルアミン(以下、m−MTDATA)を蒸着速度0.2nm/sec.で40nmの厚さに蒸着し、ホール注入層とし、次いで減圧状態を保ったまま、N,N’−ジフェニル−N,N’−m−トリル−4,4’−ジアミノ−1,1’−ビフェニル(以下、TPD)を蒸着速度0.2nm/sec.で35nmの厚さに蒸着し、ホール輸送層とした。さらに、減圧を保ったまま、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(以下、Alq3 )を蒸着速度0.2nm/sec.で50nmの厚さに蒸着して、電子注入輸送・発光層とした。次いで減圧を保ったまま、MgAgを共蒸着(2元蒸着)で蒸着速度比Mg:Ag=10:1にて200nmの厚さに成膜し、電子注入電極とした。
実施例2において、ITO透明電極の膜厚を50nm としたほかは実施例2と同様にして有機EL素子を得た。この素子を5000時間駆動したところ、ダークスポットの発生密度が1/2以下となり、信頼性が大きく向上した。
実施例2において、金属電極の構成材をAlからAl−Si−Cu(Si:0.97at%、Cu:0.53at%)、Al−Nd(Nd:2.1at%)、Al−Ta(Ta:2.1at%)、Al−Sc(Sc:0.13at%)、Al−W(W:2.0at%)にそれぞれ代えたほかは実施例2と同様にして有機EL素子を得た。
実施例2において、ITO透明電極を成膜した後、ITO透明電極の周囲金属電極との界面となる部分にCrのバリア層を幅15μm 、膜厚60nmに成膜し、さらに実施例2と同様に金属電極を成膜したほかは実施例2と同様にして有機EL素子を得た。
実施例5において、バリア層の構成材をCrからTi、TiN(N:52at%)にそれぞれ代えた他は実施例5と同様にして有機EL素子を得、実施例5と同様にして評価したところ、ほぼ同一の結果を得た。
実施例2において、実施例1と同様にして作製したIZO透明電極を用いたほかは実施例2と同様にして有機EL素子を得た。
図13、14に示すようにガラス基板上に、膜厚95nmのITO透明電極(ホール注入電極)2を成膜し、縦280×横280μm2サイズの画素が、20μm間隔で64ドット×256ライン並ぶようにパターニングした。ここで、図13は一部平面図、図14は図13のD−D’断面矢視図である。次いで、バリア層7としてCrを膜厚100nm、Al金属電極(シート抵抗:0.1Ω/□)3を膜厚300nm連続成膜し、ITO透明電極の周囲に、合計30μm の幅になるようパターニングした。
実施例2において、ITO透明電極のみを用いてホール注入電極を成膜したほかは実施例2と同様にして有機EL素子を得た。このとき1ライン当たりのホール注入電極の抵抗は3.2kΩであった。
2 透明電極
3 金属電極
4 絶縁膜
5 素子分離構造体
6 マスク
7 バリア層
Claims (2)
- ホール注入電極と、電子注入電極と、これらの電極間に設けられた1種以上の有機層とを有し、
前記ホール注入電極は、
複数形成された発光部にそれぞれ透明電極を有し、
発光部以外の部分に配置され、前記透明電極と接続するシート抵抗1Ω/□以下の金属電極を有し、
隣接する透明電極間を含む前記透明電極の発光部以外の部分及び金属電極を覆うように形成され、発光領域を規定する絶縁膜を有し、
前記絶縁膜上に形成され、オーバーハング部分を備える素子分離構造体を有し、
前記素子分離構造体の上面の幅が前記絶縁膜より狭く形成されている有機EL素子。 - 前記素子分離構造体は、前記発光領域をライン毎に分離するように延伸された延伸部を複数有し、当該複数の延伸部の端部が接続されている請求項1の有機EL素子。
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JP2007186359A JP4228021B2 (ja) | 2007-07-17 | 2007-07-17 | 有機el素子 |
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JP2007186359A JP4228021B2 (ja) | 2007-07-17 | 2007-07-17 | 有機el素子 |
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JP (1) | JP4228021B2 (ja) |
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- 2007-07-17 JP JP2007186359A patent/JP4228021B2/ja not_active Expired - Lifetime
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