JP4226056B2 - フェノールからアセトールを除去する方法 - Google Patents

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本出願は、2004年8月9日付で出願された出願第10/915,723号明細書の一部継続出願であり、2004年3月24日付で出願された米国仮特許出願第60/556,236号明細書に対して35.U.S.C.§119(e)に基づく優先権を主張するものである。
本発明は、高純度フェノールの製造分野に関するものである。より具体的には、本発明は、フェノールからアセトールを除去し、望ましい高純度を得ることに関するものである。
フェノール製造における一般的な方法は、クメンをクメンヒドロペルオキシドに酸化した後、酸性触媒を用いて前記クメンヒドロペルオキシドをフェノール及びアセトンに分解する工程を含むものとして実施されている。前記反応生成物からフェノールを単離する工程には、前記酸性触媒の中和、及びその後の一連の蒸留及び分離工程が含まれる。蒸留により、例えばアセトン、未反応性クメン、及びα−メチルスチレン(AMS)などの低沸点の成分が前記粗生成物から最初に回収される。残留物質はフェノール回収カラムに導入され、そこでフェノールが高沸点の不純物から蒸留される。アセトン、クメン、及びAMSを回収するために使用される前記蒸留手順によって蒸留されたフェノールには、残留量のアセトン、クメン、及びAMSに加えて、例えばメシチルオキシド(MO)、アセトール(ヒドロキシアセトン)及び他の脂肪族カルボニル化合物、オレフィン化合物、アセトフェノン、クミルフェノール、及び2−及び3−メチルベンゾフラン(MBF)などの少量の不純物が含まれる可能性がある。そのような不純物は、ビスフェノール−Aの製造など、ある用途で使用されるフェノールにおいて望ましくないものである。
MBFは、例えばビスフェノール−Aの製造におけるポリカーボネート樹脂前駆体など、特定の用途で使用されるフェノールにおいて特に望ましくないフェノールの汚染物質である。MBFは揮発性が類似しているために、分別蒸留によりフェノールから分離することができない。米国特許第6,054,507号明細書及び第4,857,151号明細書においては、水の存在下で蒸留することにより、フェノール中のMBFを減少させる方法(別名ストリームストリッピング)が記載されている。しかしながら、この方法は、高額なエネルギーコスト及び大規模な蒸留カラムの使用を必要とするために、設備投資及び操作費用の観点から費用がかかる方法である。米国特許第5,414,154号明細書には、強力な酸性イオン交換樹脂を用いることにより、MBFを高沸点化合物に変換してMBF値を減少させる方法が記載されている。米国特許第5,414,154号明細書はまた、前記樹脂処理によるMBFの除去効果が温度上昇と共に増大することを示している。
強力な酸性イオン交換樹脂はフェノールと接触することにより、フェノールからカルボニル化合物を除去するが、アセトールはフェノールと反応してより多くのMBFを生成する。米国特許第5,414,154号明細書は、樹脂との接触によりMBFを除去する前に、フェノールからアセトールを除去する必要性について教示している(例えばアミンを用いた処理によるものなど)。
アミン処理は効果的ではあるが高価な試薬の使用を含んでおり、さらにこのアミンは処理後にフェノール流から除去されなければならない。
米国特許第3,810,946号明細書及び第6,489,519号明細書の両方において、アセトールを含むフェノール流を酸又は酸性樹脂で処理して前記アセトールを除去する方法が開示されている。英国特許第0865677号明細書には、触媒の存在下又は非存在下においてフェノール流を加熱して前記フェノール流からアセトールを除去する方法が開示されている。しかしながら、これらすべての特許において、アセトールはフェノールと反応してMBFを生成した後、フェノール流から除去されている。
欧州特許第0004168号明細書及び米国特許第4,857,151号明細書には、フェノール流からアセトールを除去する蒸留方法が開示されている。しかしながら、この方法は大きな資本を必要とする蒸留装置を使用しなければならない。
MBFが多量に形成されるためにフェノールの収率に対して悪影響を与えることがなく、フェノール流からアセトールを除去するための効果的かつ低コストな方法の必要性が残されている。
この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、以下のものがある(国際出願日以降国際段階で引用された文献及び他国に国内移行した際に引用された文献を含む)。
米国特許第2,992,169号明細書 米国特許第3,335,070号明細書 米国特許第3,965,187号明細書 米国特許第4,334,107号明細書 米国特許第5,502,259号明細書 欧州特許第0656342号明細書 欧州特許第1024128号明細書 英国特許第0883746号明細書 英国特許第0933723号明細書 英国特許第1231991号明細書 国際公開第04/072008号パンフレット 米国公開第04/072009号パンフレット 米国特許第6,486,365号明細書 V ミラネシー(V Milanesi)ら,「強酸イオン交換樹脂により触媒されるフェノールからのヒドロキシアセトンの除去(Removal of Hydroxyacetone from Phenol Catalyzed by a Strong Acid Ion−Exchange Resin)」,イオン交換の開発と用途(Ion Exchange Developments and Applications),ENICHEM,イタリア,1996年
本発明は、フェノール流からアセトールを除去するための効率的かつ低コストな方法を提供するものである。
本発明の一実施形態によれば、本発明のフェノールからアセトールを除去するための効率的かつ低コストな方法は、アセトールを含むフェノール流を約85℃以下の温度で酸性樹脂に接触させて、アセトールをメチルベンゾフラン以外の高沸点の化合物に変換する前記接触工程を含むものである。その後前記フェノール流を蒸留して、前記高沸点の化合物からフェノールが分離される。
本発明の他の実施形態によれば、本発明のフェノールからアセトールを除去するための効率的かつ低コストな方法は、前記フェノール流を約175℃より高温に加熱して、アセトールをメチルベンゾフラン以外の高沸点の化合物に変換する工程を含むものである。これは、アルカリ金属水酸化物を加えても加えなくてもよい。その後、前記フェノール流を蒸留して、フェノールが前記高沸点化合物から分離される。
本発明の両実施形態によると、大量のアセトールがフェノールと反応することなくアセトールが効果的に除去される。従って本発明は、MBFの形成を抑え、さらにフェノールの収率を改善するものである。
メチルベンゾフラン(MBF)の生成を最小限に抑えると同時に、低コストかつ効率的にフェノールからアセトールを除去することが可能であることが見出された。アセトールを除去するための前記処理は、アセトールを含む蒸留されたフェノールを低温又は高温で酸性樹脂を用いて処理する工程、又は選択的に少量の腐食剤を用いて処理する工程を含むものである。この処理により、粗生成フェノール中に存在するアセトールは、MBF以外の高沸点化合物に変換される。この高沸点化合物は、その後、蒸留を通じてフェノールから分離される。
前記アセトールを除去することは、その後において、効果的に粗精製フェノールからMBFを除去するために重要なことである。アセトールは、周知のように、MBFをフェノールから分離可能な生成物に変換するために使用される高温及び酸性条件下において、フェノールと反応して更にMBFを生成する。この反応により、フェノールの回収が低下し、さらに生成物から除去されるべきMBFが作り出されてしまうため、効率の悪い二重の影響がもたらされる。
本発明の一実施形態によると、約85℃以下の温度でアセトールを含む蒸留されたフェノール流を酸性樹脂と接触することにより、アセトールがMBF以外の高沸点化合物に変換される。前記酸性樹脂を用いた処理の後、フェノールは蒸留により前記高沸点化合物から分離される。処理時間及び温度は、粗精製フェノールから除去されるアセトールの量によって変化する。処理時間は5分から1時間の間で変化しても良い。典型的な処理においては、約85℃の温度で約15分間、粗精製フェノール流を酸性樹脂と接触させることにより700ppmのアセトールが除去された。この例においてはわずか約12%のアセトールがMBFに変換された。
前記酸性樹脂は固定床の形態であることが好ましく、フェノール流はその上を通過する。前記フェノール流は、好ましくは1時間あたり1〜12床容量の速度で前記樹脂床を通過する。
図1は、フェノール検体中におけるアセトールの急速な減少を示したものであり、83℃でAmberlyst36を用いて処理した場合に、重量あたり約225ppm〜0ppm近辺までアセトールが減少することを示したものである。ここでMBFの形成は最小量であることに留意すべきである。全てのアセトールがMBFに変換される場合、総濃度はMBFの重量あたり約400ppmであることが予測されるが、2−MBF及び3−MBFの合計濃度は重量あたりわずか約25ppm程度である。さらに、図2は、85℃以下でAmberlyst36を用いた場合、重量あたり約225ppmのアセトールを含む粗精製フェノール流の処理について示している。この場合もやはり、アセトール含有量の減少は0ppm近くまで非常に急速であり、MBFの形成は最小量である。更に図2で見られるように、85℃における延長された保持時間は、MBF含有量の増加をもたらすものではない。これは、酸性樹脂処理によってアセトールから生成された重生成物がこの温度で安定であることを示唆するものである。
前記酸性樹脂処理後の蒸留は、酸性処理中に形成される高分子量種の分解によって生じるMBFが生成されるのを避けるために、減圧下で実施されるフラッシュ蒸留が好ましい。真空下において前記フラッシュ蒸留を使用することによって、先行技術において使用するフェノールとアセトールとを分離するための高価な蒸留装置は必要ないという更なる利点が追加される。しかしながら、前記酸性処理中に形成される高分子量種の分解を回避するように注意が払われている限りは、様々な蒸留方法が本発明と共に使用され得ることが認められるであろう。
図3を参照すると、酸性樹脂の処理中に形成される重生成物の分解を回避する必要性が図示されている。図3は、85℃で酸性樹脂により処理されたフェノール流における高温樹脂処理の効果が示されており、最初に前記高沸点化合物を除去することなくアセトールを高沸点化合物に変換している。図に示すように、高温によって更なるMBFの形成がもたらされた。これにより、低温の酸性樹脂処理において形成される高沸点化合物は、酸性樹脂の存在下、高温でアセトールに逆分解され、その後フェノールと反応してMBFを形成することが示唆される。これは、フェノールの損失をもたらすだけでなく、図に示すように、MBF含有量が重量あたり0ppm近くまで減少するのに必要な時間が約130分に顕著に延長されることをもたらすものである。
図4は、MBFを除去するために高温で酸性樹脂を用いて処理する前に、酸性樹脂処理により形成された高沸点化合物がフェノールのフラッシュ蒸留により除去される例が図示されている。図4において見られるように、MBF含有量が増加しないことが実験されている。さらに、前記MBF含有量は130分に反して、約10分後に0ppm近くまで減少する。
本発明の他の実施形態によると、アセトールを含む蒸留フェノール流を閉鎖系において高温で加熱することにより、アセトールがMBF以外高沸点化合物に変換される。前記加熱処理は、少量のアルカリ金属水酸化物の添加の有無にかかわらず実行可能である。前記加熱処理をアルカリ金属水酸化物を添加せずに実行した場合、前記フェノール流のpHは2を上回るか、好ましくは2.5を上回り、このpHは一般的に中性化された反応生成物から蒸留されたフェノール流のpHである。より低いpHは、更なる量のMBFを誘導する可能性がある。前記アルカリ金属水酸化物は、好ましくは例えば50重量%に濃縮された溶液として添加される。前記フェノールは、更に蒸留により高沸点化合物から分離される。前記加熱処理に使用される温度は、少なくとも175℃〜225℃である。処理時間、温度、及び、使用されるアルカリ金属水酸化物の量(必要に応じて)は、前記フェノール流から除去されるアセトールの量に基づき変化する。図5に図示したように、例示的処理において、1036ppmのアセトールは、いかなるアルカリ金属水酸化物をも添加せずに198℃で約4時間加熱することにより10ppm未満に減少した。この実施例において、わずか1%の前記アセトールがMBFに変換された。図6に図示したように、50%アルカリ金属水酸化物の266ppmの存在下において、1045ppmのアセトールは、わずか約2時間で10ppm未満に減少した。しかしながら、やや多い量のアセトール(〜1.6%)がMBFに変換された。高温でアセトールを効率的に除去する場合は、処理されるフェノール流中の含水量が例えばフェノールに基づいて1.5%未満などのように低いことが要求されることに注目すべきである。前記含水量は約0.1%重量パーセントに減少されることが好ましい。有機流、特にフェノールの含水量を減少させる種々の方法が当業者に周知である。1800ppmのアセトールを減少させる他の例は以下の表1に示されている。

Figure 0004226056
米国特許第5,414,154号明細書及び第6,388,144B1明細書に開示されているように、フェノールは、アセトールを除去するために処理された後、高沸点化合物から蒸留され、更に酸性樹脂を用いた高温処理を通じてMBFが除去されるものであり、前記公報は両者ともにこの参照により本明細書に組み込まれる。
フェノールからアセトールを除去する本発明の方法は、スーパースプリッタカラムなどの蒸留装置の使用を必要とする先行技術の方法、及び高価なアミンを使用する先行技術の方法より、費用効率が高いという利点を有するものである。さらに、本発明の方法は、高濃度の腐食剤を使用する他の先行技術の方法、又は酸性樹脂を用いた多段階高温処理に依存した他の先行技術の方法より、より少量のMBFが除去されるアセトールから生成されるという利点を有するものである。
図1は、83℃で酸性樹脂を用いた反応によるフェノール流からアセトールの除去について示した図である。 図2は、85℃保持下において多量のMBFを形成せずに、85℃で酸性樹脂を用いた反応によるフェノール流からアセトールの除去について示した図である。 図3は、85℃で酸性樹脂を用いて処理されたフェノール流を、133℃で酸性樹脂を直接接触させた場合に発生するMBFの形成について示した図である。 図4は、アセトールが酸性樹脂を用いた低温処理により除去され、蒸留された後、134℃で酸性樹脂を用いた反応によるフェノール流からMBFの効果的な除去について示した図である。 図5は、閉鎖系において198℃で加熱することによるフェノール流からアセトールの除去について示した図である。 図6は、50%腐食剤の266ppm存在下の閉鎖系において、198℃で加熱することによるフェノール流からアセトールの除去について示した図である。

Claims (9)

  1. フェノール流からアセトールを除去する方法であって、
    アセトール及びメチルベンゾフランを含み且つフェノールに対して1.5重量パーセント以下の含水量を有する第1のフェノール流を提供する工程と、
    前記アセトールが主にメチルベンゾフラン以外の化合物に変換されるように、密閉系において前記第1のフェノール流を175℃より高い温度に加熱し、メチルベンゾフラン以外の高沸点化合物にアセトールを変換する前記加熱する工程と、
    前記第1のフェノール流を蒸留し、前記高沸点化合物から第2のフェノール流を分離する前記蒸留する工程と、
    前記第2のフェノール流を酸性樹脂と接触させて、フェノールより高沸点の生成物にメチルベンゾフランを変換する前記接触させる工程と、
    を有する方法。
  2. 請求項1記載の方法であって、前記加熱の前に前記第1のフェノール流にアルカリ金属水酸化物水溶液が添加され、フェノールに対して600ppm以下のアルカリ金属水酸化物重量濃度が得られるものである。
  3. 請求項2記載の方法において、前記アルカリ金属水酸化物は水酸化ナトリウムである。
  4. 請求項1記載の方法において、前記フェノール流は175℃〜225℃に加熱されるものである。
  5. 請求項2記載の方法において、前記第1のフェノール流は1800ppm以下のアセトールを含むものである。
  6. 請求項1記載の方法において、前記蒸留はフラッシュ蒸留である。
  7. 請求項1記載の方法において、前記加熱は〜8時間行われるものである。
  8. 請求項2記載の方法において、前記アセトールを含む前記第1のフェノール流は、前記アルカリ金属水酸化物を添加する前及び前記加熱の前に、前記フェノール流における含水量をフェノールに対して1.5重量パーセント以下に低減させるために処理されるものである。
  9. 請求項8記載の方法において、前記第1のフェノール流は、前記含水量を0.1重量パーセント以下に低減させるために処理されるものである。
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