JP4205986B2 - プラズマディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネル(以下、PDPと記す)の製造方法に係り、とりわけ精度良くプラズマディスプレイパネルを製造することができるプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般にPDPは、2枚の対向するガラス基板にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、その間にNe、Xe等を主体とするガスを封入した構造になっている。そして、これらの電極間に電圧を印加し、電極周辺の微小なセル内で放電を発生させることにより、各セルを発光させて表示を行うようにしている。情報表示をするためには、規則的に並んだセルを選択的に放電発光させる。このPDPには、電極が放電空間に露出している直流型(DC型)と絶縁層で覆われている交流型(AC型)の2タイプがあり、双方とも表示機能や駆動方法の違いによって、さらにリフレッシュ駆動方式とメモリー駆動方式とに分類される。
【0003】
PDPの一方の基板はリブを有し背面板を構成する。このような背面板におけるリブの形成方法としては、スクリーン印刷によりガラスペーストを重ね刷りしてパターニングした後で焼成を施すのが一般的であった。しかしながらこの方法は工程が複雑である割には良好な線幅精度が得られないことから、最近では、ガラス基板上にガラスペーストを所定の厚さで塗布して乾燥させ、その上に耐サンドブラスト性を有するマスクをパターン状に形成してから、このマスクを介してサンドブラスト加工を施すことによりガラスペースト(リブ形成材料層)を研削して所望形状のリブをパターニングした後で焼成する方法が採られている。そして、そのサンドブラスト加工では、研削材として粒径が2〜50μm程度のガラスビーズ、SiC、SiO2、Al2O3、ZrO2等の無機微粒子が用いられている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
上述したサンドブラスト加工は、ガラス基板を搬送させながら複数のサンドブラストノズルを基板に対して搬送方向と直交する方向に移動させサンドブラストノズルから研磨材を噴射させることにより行なわれる。
【0005】
しかしながら、基材に対する一つのサンドブラストノズルの軌跡が他のサンドブラストノズルの軌跡に重なると、ガラスペーストの特定部分が大きく研削され、所望形状のリブが得られないことや、品質上NGレベルのムラが発生することがある。
【0006】
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、サンドブラスト処理において基板に対する各サンドブラストノズルの軌跡が重ならないようにして、所望形状のリブを得ることができるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明は、基板上にリブ形成材料層を設ける工程と、リブ形成材料層上に耐サンドブラスト用マスクを設ける工程と、基板を第1速度で搬送させながら、複数のサンドブラストノズルを基板の搬送方向と直交する方向に第2速度で移動させて耐サンドブラスト用マスク上からサンドブラスト処理を施す工程とを備え、サンドブラスト処理を施す際、基板に対する一つのサンドブラストノズルの軌跡と、基板に対する他のサンドブラストノズルの軌跡とが異なるよう、各サンドブラストノズル間の距離と、基板の第1速度と、サンドブラストノズルの第2速度を定め、1つのサンドブラストノズルの軌跡と他のサンドブラストノズルの軌跡は基板中央部を中心に左右対称に逆転して形成され、かつ1つのサンドブラストノズルの軌跡と他のサンドブラストノズルの軌跡は基板中央部で交差することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。このことによって、サンドブラスト処理を施す際、基板に対する1本目のサンドブラストノズルの軌跡の中間を2本目のサンドブラストノズルの軌跡が通過することによって研削量、研削形状を均一にすることが可能となる。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図1乃至図6は本発明の一実施の形態を示す図である。
【0011】
まず図6によりAC型PDP(プラズマディスプレイパネル)について説明する。図6において、PDPを構成する2枚のガラス基板1,2が互いに平行に且つ対向して配設されており、両者は背面板となるガラス基板2上に互いに平行に設けられたリブ3により一定の間隔に保持されるようになっている。前面板となるガラス基板1の背面側には透明電極である維持電極4と金属電極であるバス電極5とで構成される複合電極が互いに平行に形成され、これを覆って誘電体層6が形成されている。誘電体層6上には保護層7(MgO層)が形成されている。また、背面板となるガラス基板2の前面側には前記複合電極と直交するようにリブ3の間に位置するアドレス電極8が互いに平行に形成されている。このアドレス電極8を覆って誘電体層9が形成され、さらにリブ3の壁面とセル底面を覆うようにして蛍光体10が設けられている。このAC型PDPは面放電型であって、前面板上の複合電極間に交流電圧を印加し、放電させる構造である。そしてこの放電により生じる紫外線により蛍光体10を発光させ、前面板を透過する光を観察者が視認するようになっている。
【0012】
次に図1乃至図5により、プラズマディスプレイパネルの製造方法について説明する。
【0013】
プラズマディスプレイパネルの製造方法は、サンドブラスト処理によりPDPのリブをパターニングする通常の方法が採用される。
【0014】
まず、図5に示すように電極8と誘電体層9が形成されたガラス基板2上にリブ形成用ペーストを塗布して乾燥させることでリブ形成材料層11を形成する。次にリブ形成材料層11上に耐サンドブラスト性を有する感光性樹脂組成物層を設けた後、フォトマスクを介して活性光線を選択的に照射し、続けて現像することでサンドブラスト用のマスク12を形成する。その後リブ形成材料層11とサンドブラスト用マスク12が設けられた基板2に対してサンドブラスト処理を施す。サンドブラスト処理において、研摩材として粒径が2〜50μm程度のガラスビーズ、SiC、SiO2、Al2O3、ZrO2等の無機微粒子が用いられる。
【0015】
このようにしてガラス基板2から背面板を作製し、この背面板とガラス基板1からなる前面板を組合せてPDPを製造する。
【0016】
次に図1乃至図4によりサンドブラスト処理装置について説明する。図1において、被加工物である基板2がフレームFに設置された搬送ローラ22により図1の紙面に対して直交する方向に所定の第1速度で搬送されるようになっている。
【0017】
基板2上には複数、例えば4個のサンドブラストノズル(噴射ノズル)23が設けられ、このサンドブラストノズル23は基板2の搬送方向L1方向に対して直交するL2方向に第2速度で往復移動するようになっている。
【0018】
また、基板2の上方に、基板2の搬送方向L1方向に延びる保護部材13が設置されている。この保護部材13は基板2のように移動することなく、フレームFに固定して配置されている。
【0019】
保護部材13はサンドブラストノズル23から噴出される研摩材が基板2の所望部分に当たらないように保護するものであり、基板2上方の所望位置、例えば基板2の両側縁近傍に設けられている。
【0020】
保護部材13は断面円形状をなしているか、又は断面長円形状をなしている(図3(a)(b))。このように保護部材13の断面形状を定めることにより、サンドブラストノズル23からの研摩材から基板2のうち保護部材13の下方部分を確実に保護することができる。
【0021】
他方、保護部材13の断面形状として、他に矩形状等も考えられるが、研削不良によるムラや、残りが発生しなければどのような断面形状でもかまわない。
【0022】
図1乃至図4において、予めリブ形成材料層11とサンドブラスト用マスク12とが形成された基板2が搬送ローラ22によって矢印L1方向に搬送される(図2)。この間、複数のサンドブラストノズル23が矢印L2方向に移動し、このサンドブラストノズル23から研摩材が基板2に対して噴出される。
【0023】
この場合、サンドブラストノズル23から噴出される研摩材によって、マスク12により覆われていないリブ形成材料層11が研削され、このようにしてマスク12により覆われているリブ形成材料層11が残ってリブ3が形成される。同時にリブ3周縁に、リブ3を保護する保護リブ3aがリブ形成材料層11により形成される。
【0024】
上記のリブ3および保護リブ3aはマスク12により研摩材から保護されて形成される部分である。更に保護部材13により覆われた基材2の所望部分についても、保護部材13により保護することができ、この所望部分において電極端子部やガラス面を研摩材から確実に保護することができる。
【0025】
次に基板2の第1速度と、各サンドブラストノズル23の第2速度と、各サンドブラストノズル23間の距離について説明する。上述のようにサンドブラスト処理装置は複数のサンドブラストノズル23を有し、各サンドブラストノズル23間の距離はL0となっている。
【0026】
基板2が搬送ローラ22により第1速度で矢印L1方向に搬送され、各サンドブラストノズル23がL1方向に直交するL2方向に第2速度で往復移動する。この場合、基板2に対する一つのサンドブラストノズル23の軌跡はP1で示され、同一の基板2に対する他のサンドブラストノズル23の軌跡はP2で示される(図4参照)。
【0027】
図4に示すように、基板2に対する一つのサンドブラストノズル23の軌跡P1との間に、同一の基板2に対する他のサンドブラストノズル23の軌跡P2が入り込むようにすることにより、基板2上のリブ形成材料層11について特定部分が重複して研磨材により研削されることはない。このため、リブ形成材料層11の特定部分が研磨材により過大に研削されることはなく、所望形状のリブ3を得ることができる。
【0028】
サンドブラストノズル23の軌跡P1、P2は、基板2の矢印L1の第1速度とサンドブラストノズル23の矢印L2方向の第2速度とにより定まる。
【0029】
例えば基板2の形状をW1460×L1000mmとし、基板2の第1速度を600mm/minとする。またサンドブラストノズル23のノズル噴射幅を80mmとし、第2速度を60m/minとした場合であって、かつサンドブラストノズル23間の距離を580mm(ノズルの往復に要する時間を4(s)程度とする)とした場合、一つのサンドブラストノズル23の軌跡P1と、一つのサンドブラストノズル23に隣合う他のサンドブラストノズル23の軌跡P2が全く逆転し、軌跡P1のちょうど中間に軌跡P2が入り込む。
【0030】
なお、上記実施の形態において、一つのサンドブラストノズル23の軌跡P1の中間に、他のサンドブラストノズル23の軌跡P2が入り込む例を示したが、軌跡P1とP2が重ならない限り、リブ形成材料層11の過大な研削を防止することができる。
【0031】
例えば、一つのサンドブラストノズル23の第2速度と、他のサンドブラストノズル23の第2速度を異ならせて、一つのサンドブラストノズルの軌跡P1と他のサンドブラストノズルの軌跡P2とを異なるようにしてもよい。
【0032】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、サンドブラスト処理において、基材に対する一つのサンドブラストノズルの軌跡と、基板に対する他のサンドブラストノズルの軌跡を異ならせることができる。このためサンドブラストノズルからの研磨材によってリブ形成材料の特定部分を過度に研削することはなく、所望形状のリブを精度良くムラなく作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるサンドブラスト処理装置を示す側面図。
【図2】本発明によるサンドブラスト処理装置を示す平面図。
【図3】保護部材の断面形状を示す図。
【図4】サンドブラストノズルの軌跡を示す図。
【図5】プラズマディスプレイパネルの製造方法の概略を示す図。
【図6】プラズマディスプレイパネルの概略を示す図。
【符号の説明】
1,2 ガラス基板
3 リブ
3a 保護リブ
4 維持電極
5 バス電極
6 誘電体層
7 保護層
8 アドレス電極
9 誘電体層
10 蛍光体
11 リブ形成材料層
12 マスク
13,13a 保護部材
22 搬送ローラ
23 噴射ノズル
Claims (1)
- 基板上にリブ形成材料層を設ける工程と、
リブ形成材料層上に耐サンドブラスト用マスクを設ける工程と、
基板を第1速度で搬送させながら、複数のサンドブラストノズルを基板の搬送方向と直交する方向に第2速度で移動させて耐サンドブラスト用マスク上からサンドブラスト処理を施す工程とを備え、
サンドブラスト処理を施す際、基板に対する一つのサンドブラストノズルの軌跡と、基板に対する他のサンドブラストノズルの軌跡とが異なるよう、各サンドブラストノズル間の距離と、基板の第1速度と、サンドブラストノズルの第2速度を定め、1つのサンドブラストノズルの軌跡と他のサンドブラストノズルの軌跡は基板の中央部を中心に左右対称に逆転して形成され、かつ1つのサンドブラストノズルの軌跡と他のサンドブラストノズルの軌跡は基板中央部で交差することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
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