JP4202031B2 - Mos型半導体装置とその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体装置、特に高耐圧であるMOS型半導体装置およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
図3に従来のMOS型半導体装置の製造工程順の断面図を示す。図3(a)に半導体基板101上のゲート絶縁膜103上にゲート電極104を形成した後、ソース拡散、ドレイン拡散102、102となる部分上およびゲート電極104の端部下のゲート絶縁膜103をウェットエッチングした様子を示す。これは半導体装置の信頼性を保証するために、通常シリコン熱酸化膜で形成されるゲート絶縁膜103の膜厚は3MV/cm程度の膜厚に設定する必要があり、たとえば高耐圧MOS型半導体装置においてゲート電極104と半導体基板101間に30V印加される場合1000Åの酸化膜厚を必要とする。その場合、後のソース、ドレイン形成時に高電流イオン注入装置を用いて不純物導入する際、打ち込みエネルギーの制限のため十分に半導体基板中に不純物を導入するのが困難となる。従ってゲート電極を形成した後にウェットエッチングにより後にソース拡散、ドレイン拡散となる部分上のゲート絶縁膜をエッチングする必要があるが、本ウエットエッチングは等方性のためゲート電極104の端部下のゲート絶縁膜103もエッチングされる。
【0003】
次に図3(b)に示すように熱酸化法により半導体基板101上およびゲート電極104表面に酸化膜105を形成して、高電流イオン注入装置を用いて不純物導入を行いソース拡散102、ドレイン拡散102を形成する。この時の酸化膜厚を200Å程度にしておくと不純物導入は十分に行われる。その後図3(c)に示すようにCVD法により中間絶縁膜107を形成する。
【0004】
【発明名が解決しようとする課題】
上記の従来の製造方法により製造されたMOS型半導体装置においては、ゲート電極104とソース拡散102、ドレイン拡散102とのオーバーラップ部分に空隙が形成されており著しく信頼性を低下させる原因となっている。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は次の手段を用いた。
(1)ゲート電極と半導体基板中に形成されているソース拡散およびドレイン拡散とのオーバーラップ部分の間の絶縁膜が複数種の絶縁膜からなることを特徴とするMOS型半導体装置。
(2)ゲート電極と半導体基板の間の絶縁膜はシリコン酸化膜であり、かつ500Å以上の膜厚であることを特徴とするMOS型半導体装置。
(3)ゲート電極とソース拡散およびドレイン拡散とのオーバーラップ部分の間の絶縁膜の少なくとも一種はシリコン酸化膜であり、少なくとも一種はシリコン窒化膜であることを特徴とするMOS型半導体装置。
(4)ゲート電極とソース拡散およびドレイン拡散とのオーバーラップ部分の間の絶縁膜の少なくとも一種はシリコン熱酸化膜であり、少なくとも一種はCVD法によるシリコン酸化膜あることを特徴とするMOS型半導体装置。
(5)半導体基板上にゲート絶縁膜を形成する工程と、ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成する工程と、ゲート絶縁膜をウェットでエッチングする工程と、熱酸化法により半導体基板上およびゲート電極表面に酸化膜を形成する工程と、CVD法により絶縁膜を被着する工程と、絶縁膜をドライエッチング法によりエッチングする工程と、不純物を半導体基板中に導入する工程とを有することを特徴とするMOS型半導体装置の製造方法。
(6)CVD法により被着する絶縁膜は膜厚300Åから1000Åの範囲である酸化膜もしくは窒化膜であることを特徴とするMOS型半導体装置の製造方法。
【0006】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図1は本発明の製造方法による半導体装置の一実施例を示す模式的断面図である。半導体基板101中に基板101とは逆導電型のソース拡散とドレイン拡散102が形成され、ゲート電極104およびゲート絶縁膜103から成るMOSトランジスターが形成される。
【0007】
図1において、MOSトランジスターのゲート電極104ならびにソース拡散とドレイン拡散102上には熱酸化膜105が形成され、ゲート電極104とソース拡散、ドレイン拡散102とのオーバーラップ部分には絶縁膜106が埋め込まれている。
この様な構造にすることで、従来の空隙がある構造に比べゲート電極104とソース拡散もしくはドレイン拡散102間にて生じるTDDB(Time Dependent Die electric Breakdown)特性は飛躍的に向上する。さらにESD(Electro Static Discharge)評価の一方法であるCDM(デバイス帯電法)耐性でも著しい改善がみられた。従来750Vで破壊していたものが本構造においては3000Vでも破壊はみられなかった。
【0008】
図2は本発明の製造方法を示す工程順断面図である。図2(a)半導体基板101上のゲート絶縁膜103上にゲート電極104を形成した後、ウェットエッチングにより後にソース拡散及びドレイン拡散102となる部分上およびゲート電極104端部の下のゲート絶縁膜103をエッチング除去した様子を示す。
例えば電源電圧が30VのMOS型半導体装置である時、半導体装置の信頼性を保証するために通常シリコン熱酸化膜で形成されるゲート絶縁膜103の膜厚は3MV/cm程度の膜厚に設定する必要があり、1000Å以上の酸化膜厚を必要とするが、この時ウェットエッチングはフッ酸を用いてゲート絶縁膜103が半導体基板101上に残らないように1200Å相当ウェットエッチングを行う。ウェットエッチングは等方性であるので、ゲート電極104下に約0.1umアンダーカットが生じる。
次に図2(b)に示すように熱酸化法により半導体基板101上およびゲート電極表面に約200Åの熱酸化膜105を形成し、さらにCVD法により膜厚300Åから1000Åの酸化膜ないしは窒化膜の絶縁膜106を被着する。ここでゲート電極104と半導体基板101の距離は1000Åであり200Å程度の熱酸化膜105を成長させてもゲート電極104端部の下の空隙の解消とはならない。またこの時酸化膜105の膜厚を厚くして空隙の解消を図ることも考えられるが、現行の高電流イオン注入装置の最大打ち込みエネルギー150Kevを考慮するとせいぜい400Å程度にしか厚くできず完全に空隙をなくすことはできない。
次に、CVD法により窒化膜の絶縁膜106を被着する際、空隙を完全に埋め込む必要があるが、そのためにはカバレッジのよい減圧CVD法を用いた方が効果的である。さらに絶縁膜106の種類であるが、酸化膜に比べ後のドライエッチングの際、下地熱酸化膜と選択比のとれる窒化膜のほうが工程の安定化、削減の点で有利である。酸化膜を用いるとエッチストップは半導体基板が露出した時点でかかるので熱酸化工程が余分に必要となる。
【0009】
その後、図2(c)に示すようにドライエッチング法によりエッチングを行うと、エッチングに方向性があるため、ゲート電極104端と半導体基板101に挟まれた部分の窒化膜の絶縁膜106だけを選択的に残すことが可能となる。その後イオン注入法によりソース拡散とドレイン拡散102を形成しCVD法により中間絶縁膜107を形成する。図4は本発明にかかわる半導体装置の第二実施例である。MOSトランジスタ−のゲート電極1上に、シリコン窒化膜4の上下に熱酸化膜2、5を形成した絶縁層を形成し、その上にポリシリコン3を形成して容量素子を作る。シリコン窒化膜4下の熱酸化膜2の膜厚は約300Åから700Å、シリコン窒化膜4は約200Åから1000Å、シリコン窒化膜4上の熱酸化膜5の膜厚は約10Åから100Åにする。この様な構造にすることで、ゲート電極1とポリシリコン3との間に高電圧を印加しても破壊しない信頼性の高い半導体装置を作ることができる。
【0010】
図5はゲート電極1とポリシリコン3間の電極に電圧をかけたときの電極間の電流値を表す。グラフの横軸には電圧をとってあり、縦軸には電流をとってある。従来品は10V付近からリ−ク電流が急激に増加し、22Vで破壊してしまっているのに対して、本発明品は30V付近までリ−ク電流はほとんどなく破壊電圧も高いことがわかる。また、ポリシリコン3はゲート電極1よりも面積が小さくなっている。ポリシリコン3がゲート電極1を跨いでいる所では電界が集中するので破壊電圧が低くなる。さらにSi3N4の比誘電率は7.5とシリコン酸化膜の比誘電率3.9より大きいのでSi3N4を用いることで容量を大きくすることができる。つまり面積を小さくすることができるのである。
【0011】
図6は本発明にかかわる製造方法の第二実施例である。図6(A)に示す工程Aにおいて半導体基板101上にMOSトランジスタ−を形成する領域にシリコン窒化膜(Si3N4)をパターニング後、熱酸化を施しフィールド酸化膜109を形成する。次にシリコン窒化膜を除去してゲート酸化膜103を形成する。ゲート酸化膜103の膜厚は900Å程度にした。
【0012】
図6(B)に示す工程Bにおいて膜厚3000Åから4000Åのポリシリコンを堆積させ、熱処理(プレデポジション)を行ない高濃度の燐をポリシリコンに注入する。その後エッチングを行いゲート電極104をゲート酸化膜103及びフィールド酸化膜109上に形成する。ゲート電極104のシ−ト抵抗は、30Ω/□程度にした。次にウェットエッチングにて後工程で形成されるソース・ドレイン領域102、102の上の酸化膜除去を行い、その後熱酸化処理を施し基板全面にシリコン酸化膜105(BottomOx.)を成長させる。次にシリコン酸化膜105の上にCVD法によりシリコン窒化膜110を被着させる。この時にウェットエッチングにてできたゲート電極104の端部下の空隙を完全に埋め込むことになる。その後酸素雰囲気中で900℃の熱酸化を施し酸化膜105(TopOx.)を成長させる。本発明品は12Å程度酸化膜を形成した。またBottomOx.膜厚は約300Åから700Å、Si3N4膜厚は約200Åから1000Åにする。ただしBottomOx.とSi3N4の膜厚は必要な破壊電界によって決めた方が好ましい。図7に破壊電界に対するOx.Ratioを示す。グラフの縦軸には破壊電界をとってあり、横軸にはOx.Ratio(=BottomOx.膜厚/(BottomOx.膜厚+Si3N4膜厚))をとってある。本発明品はBottomOx.を600Å程度、Si3N4を500Å程度にした。次にポリシリコン111を堆積させた後、不純物(燐、砒素またはBF2)をポリシリコンにイオン注入し、ポリシリコンを必要な抵抗値にする。ポリシリコンの膜厚は約300Åから2000Åと薄い。本発明品は1000Åを用いた。膜厚を薄くすることで抵抗値のズレを小さくすることができる(図8)。
【0013】
図6(C)に示す工程Cにおいてフィールド絶縁膜109上のゲート電極104上部分及びフィールド酸化膜109上の抵抗形成部にマスクをパタ−ニングする。そして、ポリシリコン111と酸化膜105(TopOx.)及びシリコン窒化膜110を同時エッチングする。この時ゲート電極104上のポリシリコン111はゲート電極104の面積より小さくする。ポリシリコン111がゲート電極104を跨いでいる所では電界か集中するので破壊電圧が低くなるためである。次に、先に形成した抵抗112の部分をフォトレジスト113で覆い、高電流イオン注入装置を用いて半導体基板へ不純物導入を行うと同時にポリシリコン111にも導入し導電体にする。本発明品のポリシリコンのシ−ト抵抗は、130Ω/□程度にした。
図6(D)に示す工程Dにおいて先のフォトレジストを除去し、高温熱処理を施し注入した不純物の活性化及び拡散を行ないMOSトランジスタ−114を形成する。このようにゲート電極と半導体基板中に形成されているソース拡散およびドレイン拡散とのオーバーラップ部分の間の絶縁膜を形成すると同時に一回の成膜、熱酸化とイオン注入で容量115と抵抗112を形成することができる。またこの容量素子115は、高い電圧に耐えられ信頼性の高い装置となっている。
【0014】
本発明にかかる半導体装置の第三実施例を詳細に説明する。図9はP−channel及びN−channelのMOSトランジスタからなるインバ−タと、本発明の容量素子及び抵抗素子からなる発振回路図である。図10(a)はその容量及び抵抗の構造を示す平面図と及び図10(b)はその模式記号である。容量素子と抵抗素子は図10(a)のような構成をしている。第一導電体1、例えばプレデポジションにより低抵抗化した膜厚2500Å〜5000Åのポリシリコンに熱酸化処理してポリシリコン上にシリコン酸化膜を成長させる。この第一導電体はMOSトランジスタのゲート電極を用いてもよい。本発明ではポリシリコンを3000Å、シリコン酸化膜を500Å程度にした。次にそのシリコン酸化膜の上にCVD法により膜厚約200Åから900Åシリコン窒化膜を被着させる。本発明では200Å程度にした。その後酸素雰囲気中で900℃の熱酸化を施しシリコン窒化膜上に酸化膜を成長させる。本発明品は20Å程度酸化膜を形成した。次に第二導電体3、例えばポリシリコンを堆積させる。その後MOSトランジスタの拡散層(ソ−ス・ドレイン)を形成するために半導体基板に不純物(燐、砒素またはBF2)をイオン注入するが、同時に第二導電体にも不純物を注入して第二導電体の低抵抗化をする。本発明では例えば燐の場合3〜5E15/cm2、砒素の場合5〜7E15/cm2、BF2の場合3〜5E15/cm2の濃度をイオン注入した。燐と砒素を混合させて注入してもよい。抵抗素子は第二導電体で形成され、抵抗値は第二導電体の長さで調節する。抵抗値は長さを長くするほど高くなる。このポリシリコンの膜厚は第一導電体1のポリシリコンと同等か、または約300Åから2000Åの厚さにする。本発明品は2000Åを用いた。最後に第二導電体のポリシリコンを必要な長さにするためにフォトレジストをパタ−ニングしてポリシリコンをエッチングする。この様にして、同一面積内に第一導電体、絶縁層と第二導電体とで成る容量素子と、第二導電体で成る抵抗素子が、工程を増やすことなく、また小さい面積で作成することができる。図10b)はその容量と抵抗の模式的記号であり抵抗に容量が図のようにつながっていて、発振回路の一部を形成している。さらにOx.Ratioは0.7となり、図5よりBreakDownFieldは8MV/cmとなるため15V以上の電圧が印加されても破壊しない構造になっている。
【0015】
図11は本発明にかかわる製造方法の第三実施例である。工程Aにおいて半導体基板101上に熱酸化膜105を形成し、基板と同極性の不純物をイオン注入する。本発明燐または砒素を1〜8E14/cm2注入した。このイオン注入は回路によっては行わなくても良い。
工程Bにおいて先の熱酸化膜105を除去してゲート酸化膜103を形成する。ゲート酸化膜厚は900Å程度にした。
【0016】
工程Cにおいて膜厚3000Åから4000Åのポリシリコンを堆積させ、熱処理(プレデポジション)を行ない高濃度の燐をポリシリコンに入れる。その後エッチングを行いゲート電極104をゲート酸化膜103上に形成する。ゲート電極のシ−ト抵抗は、30Ω/□程度にした。次に熱酸化処理を施しゲート電極104上にシリコン酸化膜(BottomOx.)を成長させる。
【0017】
工程DにおいてBottom酸化膜の上にCVD法によりシリコン窒化膜110を被着させる。その後酸素雰囲気中で900℃の熱酸化を施し酸化膜(TopOx.)を成長させる。本発明品は100Å程度酸化膜を形成した。またBottomOx.膜厚は約300Åから700Å、Si3N4膜厚は約200Åから800Åにする。ただしBottomOx.とSi3N4の膜厚は必要な破壊電界によって決めた方が好ましい。図7に破壊電界に対するOx.Ratioを示す。グラフの縦軸には破壊電界をとってあり、横軸にはOx.Ratio(=BottomOx.膜厚/(BottomOx.膜厚+Si3N4膜厚))をとってある。本発明品はBottomOx.を600Å程度、Si3N4を500Å程度にした。次にポリシリコン111を堆積させる。ポリシリコンの膜厚は約300Åから2000Åと薄い。本発明品は1500Åを用いた。
【0018】
工程Eにおいてパタ−ニング後ポリシリコンとTopOx.及びシリコン窒化膜を同時エッチングする。この時ゲート電極上のポリシリコン111はゲート電極の面積より小さくする。ポリシリコンがゲート電極を跨いでいる所では電界か集中するので破壊電圧が低くなるためである。次に高電流イオン注入装置を用いて基板全面へ不純物(燐、砒素またはBF2)を行う。本発明では燐や砒素を注入した。ポリシリコン111はこの不純物注入により、導電体化される。工程Dにおいて高温熱処理を施し注入した不純物の活性化及び拡散を行う。
【0019】
図12は本発明の製造方法による半導体装置の第四実施例の断面図である。CVD法等により中間絶縁膜107を成膜し、引き続き熱処理により平坦化する。次に真空蒸着あるいはスパッタリング等により金属材料を全面に成膜した後フォトリソグラフィ及びエッチングを行いメタル117をポリシリコン111上にパターニングする。これによりメタル117とポリシリコン111で成る容量素子と、ポリシリコン111とゲート電極104で成る容量素子と、ゲート電極104と半導体基板101で成る容量素子の三種類を同じ面積内に作ることができるため、小さい面積で高容量を作ることができ、ICを小さくすることができる。図13a)は図12を簡易的に描いた断面図であり、b)はa)の模式図である。図ように縦に重なっている容量素子を結ぶことより、並列結線になり容量を大きくできる。メタルが無い時には二種類の容量素子となるが、他の二種類の容量で十分に高容量化できICを小さくすることができる。この容量は当然ながら高耐圧で信頼性の高い装置と成っている。
【0020】
【発明の効果】
上述したように、本発明はゲート電極とソース拡散およびドレイン拡散のオーバーラップ部分に空隙が生じない様にCVD法による酸化膜もしくは窒化膜等の絶縁物を埋め込み、絶縁膜を複数種の絶縁膜とすることで信頼性の高いMOS型半導体装置とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体装置の第一実施例を示す模式的断面図である。
【図2】本発明の半導体装置の第一実施例の製造方法を示す工程順断面図。
【図3】従来の半導体装置の製造方法を示す工程順断面図。
【図4】本発明の半導体装置の第二実施例の模式的断面図である。
【図5】容量の電圧とリーク電流との関係を示すグラフである。
【図6】本発明の半導体装置の第二実施例の製造方法を示す工程順断面図。
【図7】絶縁膜のOx.Ratioと耐圧との関係を示すグラフである。
【図8】ポリシリコン膜厚絶縁膜と抵抗値のズレとの関係を示すグラフである。
【図9】発振回路図である。
【図10】本発明の半導体装置の第三実施例を示す模式的図である。
【図11】本発明の半導体装置の第三実施例の製造方法を示す工程順断面図。
【図12】本発明の半導体装置の第四実施例の模式的断面図である。
【図13】本発明の半導体装置の第四実施例の模式的図である。
【符号の説明】
101 半導体基板
102 ソース拡散もしくはドレイン拡散層
103 ゲート絶縁膜
104 ゲート電極
105 熱酸化膜
106 絶縁膜
107 中間絶縁膜
108 空隙
109 フィールド酸化膜
110 シリコン窒化膜
111 ポリシリコン
112 抵抗素子
113 フォトレジスト
114 MOSトランジスタ−
115 容量素子
116 N型拡散層
117 メタル
Claims (4)
- 半導体基板と、
前記半導体基板上に配置されたゲート電極と、
前記半導体基板中に配置されたソース拡散およびドレイン拡散と、
前記ゲート電極と前記ソース拡散およびドレイン拡散とのオーバーラップ部分の間の空隙にのみ選択的に配置された、前記半導体基板上の第1のシリコン熱酸化膜と、シリコンチッ化膜と、前記ゲート電極表面の第2のシリコン熱酸化膜とからなる第1の絶縁膜と、
前記ゲート電極の上に配置された、第2のシリコン熱酸化膜と、シリコンチッ化膜と、第3のシリコン熱酸化膜とをこの順で積層した第2の絶縁膜を、前記ゲート電極と導電体とで挟んだ容量素子とからなり、
前記オーバーラップ部分と前記容量素子を構成する前記第2の絶縁膜とを除いた部分の絶縁膜はシリコンチッ化膜を含まないことを特徴とする半導体装置。 - 前記導電体は、ポリシリコンよりなり、前記ゲート電極よりも面積が小さくなっている請求項1記載の半導体装置。
- 前記ポリシリコンは膜厚300Åから2000Åの範囲である請求項2記載の半導体装置。
- インバータ回路用の半導体装置において、前記ゲート電極と前記第2の絶縁膜層と前記ポリシリコンとからなる容量素子と、更に前記ポリシリコンからなる抵抗素子を有する請求項2記載の半導体装置。
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