JP4185924B2 - 投影露光装置 - Google Patents
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- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
2 ビーム整形光学系
3 インコヒーレント化ユニット
4 照明系
5 XYZステージ
6 波面計測用光源
7 集光レンズ
8 ピンホール
9 コリメーターレンズ
10 ハーフミラー
11 ミラー
12 対物レンズ
13 対物レンズ
15 レチクル(レチクルパターン相当位置)
16 投影光学系
17 ウエハー(結像位置)
18 ウエハーチャック
19 ウエハーステージ
20 球面ミラー
21 ハーフミラー
22 ミラー
23 ビームエクスパンダー
24 ハーフミラー
25 ミラー
26 ミラー偏心調整機構
27 集光レンズ
28 CCD受光器
31 ミラー
32 対物レンズ
33 球面ミラー
Claims (4)
- 露光光源からの露光光で第1物体を照明する照明光学系と、
前記第1物体のパターンを第2物体に投影する投影光学系と、
前記露光光源とは別の光源からの光を利用して、前記投影光学系の光学特性を測定する干渉計と、を備え、
前記干渉計は、前記投影光学系を通過した前記別の光源からの光を二つの光に分割し、該分割された二つの光を干渉させることを特徴とする投影露光装置。 - 前記干渉計は、前記投影光学系を通過した前記別の光源からの光を二つの光に分割し、該二つの光のうち一方の光から参照光を生成し、もう一方の光と該参照光とを干渉させることを特徴とする請求項1記載の投影露光装置。
- 露光光源からの露光光で第1物体を照明する照明光学系と、
前記第1物体のパターンを第2物体に投影する投影光学系と、
前記露光光源とは別の光源からの光を利用して、前記投影光学系の光学特性を測定する干渉計と、を備え、
前記干渉計は、前記投影光学系を通過した前記別の光源からの光から参照光を生成し、該参照光と前記投影光学系を通過した前記別の光源からの光とを干渉させることを特徴とする投影露光装置。 - 前記干渉計は、前記投影光学系を通過した前記別の光源からの光から参照光を生成するビームエクスパンダーを有することを特徴とする請求項3記載の投影露光装置。
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