JP3326290B2 - 露光方法 - Google Patents
露光方法Info
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高密度半導体装置等の
製造に際しての微細パターンのリソグラフィ工程に用い
られる露光方法に関する。
製造に際しての微細パターンのリソグラフィ工程に用い
られる露光方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置製造に際してのリソグラフィ
工程には、これまで光リソグラフィ法が用いられてき
た。然るに、近年における半導体装置の高密度化のテン
ポはめざましく、最近では線幅が０．１μｍ以下の超微
細パターンの加工技術が要求されるようになっている。
このような超微細パターンの加工には、最早、これまで
の光リソグラフィ法では対応できなくなってきている。
工程には、これまで光リソグラフィ法が用いられてき
た。然るに、近年における半導体装置の高密度化のテン
ポはめざましく、最近では線幅が０．１μｍ以下の超微
細パターンの加工技術が要求されるようになっている。
このような超微細パターンの加工には、最早、これまで
の光リソグラフィ法では対応できなくなってきている。
【０００３】光リソグラフィ法では対応不可能な線幅
０．１μｍ以下の微細パターン加工を実現する方法とし
てＸ線縮小露光法がある。このＸ線縮小露光法による露
光装置の一例として、特開平６−１６３３６６号公報に
記載のものを挙げることができる。この例においては、
露光用の縮小光学系を非球面反射鏡の組み合わせで構成
し、露光工程の中で各光学面の形状を計測／修正して露
光性能を保つようにしている。しかしながら、上記の例
では、露光装置において必須とされる、露光するパター
ンの位置合わせ、いわゆるウェハアライメントをどのよ
うにして行なうかについては何も述べられていない。
０．１μｍ以下の微細パターン加工を実現する方法とし
てＸ線縮小露光法がある。このＸ線縮小露光法による露
光装置の一例として、特開平６−１６３３６６号公報に
記載のものを挙げることができる。この例においては、
露光用の縮小光学系を非球面反射鏡の組み合わせで構成
し、露光工程の中で各光学面の形状を計測／修正して露
光性能を保つようにしている。しかしながら、上記の例
では、露光装置において必須とされる、露光するパター
ンの位置合わせ、いわゆるウェハアライメントをどのよ
うにして行なうかについては何も述べられていない。
【０００４】Ｘ線縮小露光装置におけるウェハアライメ
ントの方法について述べた例としては、例えば特開昭６
３−３１２６４１号公報や特開平５−４７６３１号公報
等を挙げることができる。前者の例においては、ウェハ
ないしウェハステージ上に設けたアライメントマークを
光又はＸ線で照明し、露光光学系を逆進して原パターン
側に形成されるマーク像を画像的に検出してアライメン
トを行なっている。また、後者の例においては、原パタ
ーン上に設けられた基準マークを露光光学系を用いてウ
ェハステージ上に投影し、ウェハステージ上に設けた基
準位置と比較してアライメントを行なっている。
ントの方法について述べた例としては、例えば特開昭６
３−３１２６４１号公報や特開平５−４７６３１号公報
等を挙げることができる。前者の例においては、ウェハ
ないしウェハステージ上に設けたアライメントマークを
光又はＸ線で照明し、露光光学系を逆進して原パターン
側に形成されるマーク像を画像的に検出してアライメン
トを行なっている。また、後者の例においては、原パタ
ーン上に設けられた基準マークを露光光学系を用いてウ
ェハステージ上に投影し、ウェハステージ上に設けた基
準位置と比較してアライメントを行なっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
たウェハアライメント方法には、以下のような問題点が
ある。すなわち、アライメントにＸ線を用いる場合に
は、感度と位置分解能との双方共良い検出器を得ること
が難しく、結局は精度の良いアライメントを行なうこと
ができないと云う問題がある。一方、波長の長い紫外光
や可視光等を用いると露光光学系の解像力が低くなっ
て、良好なアライメントマーク像が得られないため、そ
の結果アライメント精度が低下するという問題がある。
たウェハアライメント方法には、以下のような問題点が
ある。すなわち、アライメントにＸ線を用いる場合に
は、感度と位置分解能との双方共良い検出器を得ること
が難しく、結局は精度の良いアライメントを行なうこと
ができないと云う問題がある。一方、波長の長い紫外光
や可視光等を用いると露光光学系の解像力が低くなっ
て、良好なアライメントマーク像が得られないため、そ
の結果アライメント精度が低下するという問題がある。
【０００６】したがって、本発明の目的は、高い精度で
ウェハアライメントを行なうことのできる露光方法を提
供することにある。
ウェハアライメントを行なうことのできる露光方法を提
供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明においては、まず被露光物(ウェハ等)の位置
決め手段上に固定設置された第１の球面反射鏡と露光光
学系の原パターン側に設けられた参照面との間の相対位
置関係を干渉計を用いて波面の傾きを測定することによ
って正確に合わせる。次いで、原パターンの位置決め手
段上に固定設置された第２の球面反射鏡と上記参照面と
の間の相対位置関係を上記と同様の方法によって正確に
合わせることにより、原パターンの位置決め座標と被露
光物の位置決め座標とを正確に対応させるようにしてい
る。
め、本発明においては、まず被露光物(ウェハ等)の位置
決め手段上に固定設置された第１の球面反射鏡と露光光
学系の原パターン側に設けられた参照面との間の相対位
置関係を干渉計を用いて波面の傾きを測定することによ
って正確に合わせる。次いで、原パターンの位置決め手
段上に固定設置された第２の球面反射鏡と上記参照面と
の間の相対位置関係を上記と同様の方法によって正確に
合わせることにより、原パターンの位置決め座標と被露
光物の位置決め座標とを正確に対応させるようにしてい
る。
【０００８】
【作用】ウェハアライメントを行なう方法の一つにオフ
アクシス方式と呼ばれる方法がある。このオフアクシス
方式では、ウェハステージ上に設けられた合わせマーク
を予め露光光学系を通して検出して、原パターンの位置
決め座標とウェハの位置決め座標とを関連づけることが
行なわれる。Ｘ線縮小露光装置においては、収差上の制
約で露光フィールドを広くできないことなどの理由によ
り、原パターンの位置決め手段を用いる必要があるた
め、オフアクシス方式でウェハアライメントを行なうに
は、原パターンの位置決め座標とウェハの位置決め座標
とを予め正確に関連づける必要があるのである。
アクシス方式と呼ばれる方法がある。このオフアクシス
方式では、ウェハステージ上に設けられた合わせマーク
を予め露光光学系を通して検出して、原パターンの位置
決め座標とウェハの位置決め座標とを関連づけることが
行なわれる。Ｘ線縮小露光装置においては、収差上の制
約で露光フィールドを広くできないことなどの理由によ
り、原パターンの位置決め手段を用いる必要があるた
め、オフアクシス方式でウェハアライメントを行なうに
は、原パターンの位置決め座標とウェハの位置決め座標
とを予め正確に関連づける必要があるのである。
【０００９】図３に、参照面２１の曲率中心が結像光学
系（露光光学系）１１〜１４の原パターン３側のフィー
ルド中心に概ね位置するように参照面２１を位置決め
し、同時にウェハの位置決め手段２上に固定設置された
第１の球面鏡２４の曲率中心が上記光学系の結像側のフ
ィールド中心に概ね位置するように位置決めして、干渉
計２３により波面を観測している状態を示す。この状態
で干渉計２３により露光光学系１１〜１４の波面収差を
測定すると、参照面２１の曲率中心と第１の球面鏡２４
の曲率中心とが露光光学系１１〜１４に関して正確に共
役関係すなわち光学系の物点とそれに対応する像点との
位置関係にあるときには、干渉計２３によって観測され
る波面には傾きが生じない。一方、両曲率中心間に光学
系の光軸に垂直な方向にずれがあるときには、このずれ
量に比例した大きさの波面の傾斜が生じる。したがっ
て、干渉計２３で波面を観測しながら、波面傾斜（波面
収差）がゼロとなるように、ウェハの位置決め手段２に
よって第１の球面鏡２４の曲率中心位置を微動調節する
ことにより、両曲率中心位置を正確に共役関係の位置に
合わせることができる。そして、この合わせ操作が完了
したときのウェハの位置決め手段２の位置決め位置をウ
ェハ位置決め座標系の原点位置とすることができる。
系（露光光学系）１１〜１４の原パターン３側のフィー
ルド中心に概ね位置するように参照面２１を位置決め
し、同時にウェハの位置決め手段２上に固定設置された
第１の球面鏡２４の曲率中心が上記光学系の結像側のフ
ィールド中心に概ね位置するように位置決めして、干渉
計２３により波面を観測している状態を示す。この状態
で干渉計２３により露光光学系１１〜１４の波面収差を
測定すると、参照面２１の曲率中心と第１の球面鏡２４
の曲率中心とが露光光学系１１〜１４に関して正確に共
役関係すなわち光学系の物点とそれに対応する像点との
位置関係にあるときには、干渉計２３によって観測され
る波面には傾きが生じない。一方、両曲率中心間に光学
系の光軸に垂直な方向にずれがあるときには、このずれ
量に比例した大きさの波面の傾斜が生じる。したがっ
て、干渉計２３で波面を観測しながら、波面傾斜（波面
収差）がゼロとなるように、ウェハの位置決め手段２に
よって第１の球面鏡２４の曲率中心位置を微動調節する
ことにより、両曲率中心位置を正確に共役関係の位置に
合わせることができる。そして、この合わせ操作が完了
したときのウェハの位置決め手段２の位置決め位置をウ
ェハ位置決め座標系の原点位置とすることができる。
【００１０】また、図１に、原パターンの位置決め手段
４によってその移動部上に固定設置されている第２の球
面鏡５を微動調節して、該第２の球面鏡５の曲率中心が
概ね参照面２１の曲率中心と一致するように位置決めし
た状態を示す。この状態で、第２の球面鏡５により反射
される測定光２０の波面を干渉計２３により観測する
と、参照面２１の曲率中心と第２の球面鏡５の曲率中心
との間に光学系の光軸に垂直な方向にずれがあるときに
は、そのずれ量に比例した大きさの波面の傾きが観測さ
れる。したがって、干渉計２３により波面を観測しなが
ら、波面の傾斜がゼロとなるように、原パターンの位置
決め手段４によって第２の球面鏡５の曲率中心位置を微
動調節することにより、両曲率中心位置を正確に光軸上
に合わせることができる。この合わせ操作が完了したと
きの原パターンの位置決め手段４の位置決め位置を原パ
ターン位置決め座標系の原点位置とすることができる。
４によってその移動部上に固定設置されている第２の球
面鏡５を微動調節して、該第２の球面鏡５の曲率中心が
概ね参照面２１の曲率中心と一致するように位置決めし
た状態を示す。この状態で、第２の球面鏡５により反射
される測定光２０の波面を干渉計２３により観測する
と、参照面２１の曲率中心と第２の球面鏡５の曲率中心
との間に光学系の光軸に垂直な方向にずれがあるときに
は、そのずれ量に比例した大きさの波面の傾きが観測さ
れる。したがって、干渉計２３により波面を観測しなが
ら、波面の傾斜がゼロとなるように、原パターンの位置
決め手段４によって第２の球面鏡５の曲率中心位置を微
動調節することにより、両曲率中心位置を正確に光軸上
に合わせることができる。この合わせ操作が完了したと
きの原パターンの位置決め手段４の位置決め位置を原パ
ターン位置決め座標系の原点位置とすることができる。
【００１１】上述した二つの操作は、いずれも参照面２
１を移動させずに行なわれるので、上記したウェハの位
置決め座標の原点と原パターンの位置決め座標の原点と
は、露光光学系１１〜１４に関して正確に共役な位置関
係となる。
１を移動させずに行なわれるので、上記したウェハの位
置決め座標の原点と原パターンの位置決め座標の原点と
は、露光光学系１１〜１４に関して正確に共役な位置関
係となる。
【００１２】
【実施例】以下、本発明の実施例につき、図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【００１３】図２に、本発明の一実施例になるＸ線縮小
露光装置の露光動作中における基本構成を側面図で示
す。照明光学系（図示せず）から入射した軟Ｘ線７は、
原パターン３によって反射され、露光光学系１１〜１４
により集光されて、ウェハ１上に原パターン３の縮小像
を結像する。この露光光学系は、Ｘ線反射鏡１１〜１４
によって構成される縮小光学系である。
露光装置の露光動作中における基本構成を側面図で示
す。照明光学系（図示せず）から入射した軟Ｘ線７は、
原パターン３によって反射され、露光光学系１１〜１４
により集光されて、ウェハ１上に原パターン３の縮小像
を結像する。この露光光学系は、Ｘ線反射鏡１１〜１４
によって構成される縮小光学系である。
【００１４】ウェハアライメントのための原点合わせ操
作に際しては、図３に示すように、原パターン３を測定
光２０の光路上から退避させ、参照面２１の曲率中心が
結像光学系（露光光学系）１１〜１４の原パターン３側
のフィールド中心に概ね位置するように参照面２１を位
置決めする。この位置決め操作は移動テーブル２２を微
動調節することによって行なわれる。この位置決め操作
が完了したら、以後の操作に際しては、参照面２１はそ
の位置決め位置に固定保持される。
作に際しては、図３に示すように、原パターン３を測定
光２０の光路上から退避させ、参照面２１の曲率中心が
結像光学系（露光光学系）１１〜１４の原パターン３側
のフィールド中心に概ね位置するように参照面２１を位
置決めする。この位置決め操作は移動テーブル２２を微
動調節することによって行なわれる。この位置決め操作
が完了したら、以後の操作に際しては、参照面２１はそ
の位置決め位置に固定保持される。
【００１５】次いで、ウェハの位置決め手段２上に固定
設置された第１の球面鏡２４の曲率中心が結像光学系１
１〜１４の結像側のフィールド中心に概ね位置するよう
に、第１の球面鏡２４を位置決めする。この位置決め操
作はウェハの位置決め手段２を微動調節することによっ
て行なわれる。この状態で、干渉計２３により結像光学
系１１〜１４の波面を観測しながらウェハの位置決め手
段２により第１の球面鏡２４の位置を微動調節して、第
１の球面鏡２４の曲率中心を参照面２１の曲率中心位置
と共役関係にある位置に正確に合わせ、そのときのウェ
ハの位置決め手段２の位置決め位置をウェハ位置決め座
標の原点位置とする。
設置された第１の球面鏡２４の曲率中心が結像光学系１
１〜１４の結像側のフィールド中心に概ね位置するよう
に、第１の球面鏡２４を位置決めする。この位置決め操
作はウェハの位置決め手段２を微動調節することによっ
て行なわれる。この状態で、干渉計２３により結像光学
系１１〜１４の波面を観測しながらウェハの位置決め手
段２により第１の球面鏡２４の位置を微動調節して、第
１の球面鏡２４の曲率中心を参照面２１の曲率中心位置
と共役関係にある位置に正確に合わせ、そのときのウェ
ハの位置決め手段２の位置決め位置をウェハ位置決め座
標の原点位置とする。
【００１６】次に、図１に示すように、原パターンの位
置決め手段４によって原パターン３および第２の球面鏡
５を測定光２０の光路上に移動させ、第２の球面鏡５の
曲率中心が概ね参照面２１の曲率中心と一致するよう
に、第２の球面鏡５を位置決めする。この状態で、干渉
計２３によって第２の球面鏡５により反射される測定光
２０の波面を観測しながら、原パターンの位置決め手段
４を微動調節して、第２の球面鏡５の曲率中心を参照面
２１の曲率中心位置に正確に合わせる。この合わせ操作
が完了したときの原パターンの位置決め手段４の位置決
め位置をもって原パターン位置決め座標の原点位置とす
る。
置決め手段４によって原パターン３および第２の球面鏡
５を測定光２０の光路上に移動させ、第２の球面鏡５の
曲率中心が概ね参照面２１の曲率中心と一致するよう
に、第２の球面鏡５を位置決めする。この状態で、干渉
計２３によって第２の球面鏡５により反射される測定光
２０の波面を観測しながら、原パターンの位置決め手段
４を微動調節して、第２の球面鏡５の曲率中心を参照面
２１の曲率中心位置に正確に合わせる。この合わせ操作
が完了したときの原パターンの位置決め手段４の位置決
め位置をもって原パターン位置決め座標の原点位置とす
る。
【００１７】以上の操作により、予め位置決めされて固
定保持されている参照面２１の曲率中心位置を基準にし
てウェハ位置決め座標の原点位置と原パターン位置決め
座標の原点位置との双方が正確に定められるので、原パ
ターン３に対するウェハ１のアライメントが精度良く行
なえるのである。
定保持されている参照面２１の曲率中心位置を基準にし
てウェハ位置決め座標の原点位置と原パターン位置決め
座標の原点位置との双方が正確に定められるので、原パ
ターン３に対するウェハ１のアライメントが精度良く行
なえるのである。
【００１８】図４に、ウェハの位置決め手段２の一構造
例を示す。ウェハの位置決め手段２の可動部に第１の球
面鏡２４が固定設置されている。この第１の球面鏡２４
はその曲率中心がウェハ１の表面と同一面内に位置する
ように設置されているため、上述した原点合わせ操作に
おいてデフォーカスによる波面の変形を生じると云うこ
とはない。
例を示す。ウェハの位置決め手段２の可動部に第１の球
面鏡２４が固定設置されている。この第１の球面鏡２４
はその曲率中心がウェハ１の表面と同一面内に位置する
ように設置されているため、上述した原点合わせ操作に
おいてデフォーカスによる波面の変形を生じると云うこ
とはない。
【００１９】図５に、原パターンの位置決め手段４の構
造例を示す。原パターンの位置決め手段４の可動部に第
２の球面鏡５が固定設置されている。この第２の球面鏡
５はその曲率中心が原パターン３の表面と同一面内に位
置するようにして設けられているので、上述した原点合
わせ操作においてデフォーカスによる波面の変形を生じ
ると云うことはない。また、原パターンの位置決め手段
４の固定ベース部分には、例えば長楕円形状の貫通穴
（スリット）が設けられており、この貫通穴を通して測
定光２０を露光光学系１１〜１４に導き、あるいは第２
の球面鏡５に当てることが可能となっている。
造例を示す。原パターンの位置決め手段４の可動部に第
２の球面鏡５が固定設置されている。この第２の球面鏡
５はその曲率中心が原パターン３の表面と同一面内に位
置するようにして設けられているので、上述した原点合
わせ操作においてデフォーカスによる波面の変形を生じ
ると云うことはない。また、原パターンの位置決め手段
４の固定ベース部分には、例えば長楕円形状の貫通穴
（スリット）が設けられており、この貫通穴を通して測
定光２０を露光光学系１１〜１４に導き、あるいは第２
の球面鏡５に当てることが可能となっている。
【００２０】図６に、参照面２１の位置決め手段の一構
造例を示す。参照面２１は位置決めテーブル２２上に固
定されている。干渉計２３より入射した測定光２０は平
面鏡３３および平面鏡３２により光路を折曲げられて参
照面２１に到達する。平面鏡３３，平面鏡３２は、それ
ぞれＺ移動部３１，位置決めテーブル２２上に固定され
ているため、位置決めテーブル２２の移動によって参照
面２１に入射する光の光軸が移動することはない。
造例を示す。参照面２１は位置決めテーブル２２上に固
定されている。干渉計２３より入射した測定光２０は平
面鏡３３および平面鏡３２により光路を折曲げられて参
照面２１に到達する。平面鏡３３，平面鏡３２は、それ
ぞれＺ移動部３１，位置決めテーブル２２上に固定され
ているため、位置決めテーブル２２の移動によって参照
面２１に入射する光の光軸が移動することはない。
【００２１】
【発明の効果】本発明によれば、ウェハアライメントに
おける位置決め誤差の原因となる原パターン位置決め座
標とウェハ位置決め座標との関連づけにおける誤差を低
減することができ、したがって、高精度のウェハアライ
メントを実現することができる。
おける位置決め誤差の原因となる原パターン位置決め座
標とウェハ位置決め座標との関連づけにおける誤差を低
減することができ、したがって、高精度のウェハアライ
メントを実現することができる。
【図１】本発明の一実施例になるＸ線縮小露光装置の参
照面２１と第２の球面鏡５との間の位置合わせを行って
いる状態における基本構成を示す側面図。
照面２１と第２の球面鏡５との間の位置合わせを行って
いる状態における基本構成を示す側面図。
【図２】上記実施例になるＸ線縮小露光装置のウェハ１
上に原パターン３の縮小像を結像して露光動作を行って
いる状態における基本構成を示す側面図。
上に原パターン３の縮小像を結像して露光動作を行って
いる状態における基本構成を示す側面図。
【図３】上記実施例になるＸ線縮小露光装置の参照面２
１と第１の球面鏡２４との間の位置合わせを行っている
状態における基本構成を示す側面図。
１と第１の球面鏡２４との間の位置合わせを行っている
状態における基本構成を示す側面図。
【図４】上記実施例のＸ線縮小露光装置におけるウェハ
の位置決め手段２の一構造例を示す斜視図。
の位置決め手段２の一構造例を示す斜視図。
【図５】上記実施例のＸ線縮小露光装置における原パタ
ーンの位置決め手段４の一構造例を示す図で、同図(ａ)
は斜視図、同図(ｂ)は側断面図。
ーンの位置決め手段４の一構造例を示す図で、同図(ａ)
は斜視図、同図(ｂ)は側断面図。
【図６】上記実施例のＸ線縮小露光装置における参照面
の位置決め手段の一構造例を示す部分断面斜視図。
の位置決め手段の一構造例を示す部分断面斜視図。
１…ウェハ， ２…ウェハの位置決め
手段，３…原パターン， ４…原パターン
の位置決め手段，５…第２の球面鏡， ７…
露光軟Ｘ線，１１〜１４…露光光学系， ２
０…測定光，２１…参照面， ２２…位
置決めテーブル，２３…干渉計， ２４
…第１の球面鏡，３１…Ｚ移動部， ３２，３３
…平面鏡。
手段，３…原パターン， ４…原パターン
の位置決め手段，５…第２の球面鏡， ７…
露光軟Ｘ線，１１〜１４…露光光学系， ２
０…測定光，２１…参照面， ２２…位
置決めテーブル，２３…干渉計， ２４
…第１の球面鏡，３１…Ｚ移動部， ３２，３３
…平面鏡。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５３１Ｊ (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027 G03F 7/20 503 G03F 7/20 521
Claims (3)
- 【請求項１】被露光物を載置するためのステージを位置
決めする第１の位置決め手段上に設けられた第１の球面
鏡と、原パターンを載置するためのステージを位置決め
する第２の位置決め手段上に設けられた第２の球面鏡
と、第３の位置決め手段上に設けられた参照面とを備え
た露光装置を用いた露光方法において、前記参照面の曲
率中心に対して前記第１の球面鏡の曲率中心が前記露光
装置の露光光学系に関して共役関係の位置に来るよう
に、前記第１の位置決め手段を移動して、該第１の位置
決め手段の位置を前記被露光物の座標原点として決定す
る工程と、前記参照面を載置した前記第３の位置決め手
段の位置を固定保持する工程と、固定保持された前記参
照面の曲率中心と前記第２の球面鏡の曲率中心とが一致
するように前記第２の位置決め手段の移動を行って、該
第２の位置決め手段の位置を前記原パターンの座標原点
として決定する工程と、その後に、前記の各座標原点を
基準点に用いて、前記被露光物及び前記原パターンを位
置決めしつつ前記被露光物上への露光を行う工程とを有
することを特徴とする露光方法。 - 【請求項２】前記被露光物の座標原点を決定する工程
は、干渉計を用いて、前記第１の球面鏡から反射されて
くる測定光の波面を観察する工程を含んでなることを特
徴とする請求項１に記載の露光方法 。 - 【請求項３】前記原パターンの座標原点を決定する工程
は、干渉計を用いて、前記第２の球面鏡から反射されて
くる測定光の波面を観察する工程を含んでなることを特
徴とする請求項１または２に記載の露光方法 。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31389494A JP3326290B2 (ja) | 1994-12-19 | 1994-12-19 | 露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31389494A JP3326290B2 (ja) | 1994-12-19 | 1994-12-19 | 露光方法 |
Publications (2)
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|---|---|---|---|---|
| CN101986207A (zh) * | 2009-07-28 | 2011-03-16 | 日本精工株式会社 | 曝光装置以及曝光方法 |
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1994
- 1994-12-19 JP JP31389494A patent/JP3326290B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| CN101986207A (zh) * | 2009-07-28 | 2011-03-16 | 日本精工株式会社 | 曝光装置以及曝光方法 |
| CN101986207B (zh) * | 2009-07-28 | 2013-07-03 | 恩斯克科技有限公司 | 曝光装置以及曝光方法 |
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