JP2005333149A - 投影露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 露光光源からの露光光で第1物体を照明する照明光学系と、
前記第1物体のパターンを第2物体に投影する投影光学系と、
前記露光光源とは別の光源からの光を利用して、前記投影光学系の光学特性を測定する干渉計と、を備え、
前記干渉計は、前記投影光学系を通過した前記別の光源からの光を二つの光に分割し、該分割された二つの光を干渉させること。
【選択図】図1
Description
形成された平行ビームは10のハーフミラー、11のミラーを介し12の対物レンズに入射する。11のミラー、12の対物レンズは5のXYZステージに保持されている。
2 ビーム整形光学系
3 インコヒーレント化ユニット
4 照明系
5 XYZステージ
6 波面計測用光源
7 集光レンズ
8 ピンホール
9 コリメーターレンズ
10 ハーフミラー
11 ミラー
12 対物レンズ
13 対物レンズ
15 レチクル側のパターン相当面
16 投影光学系
17 ウエハー側の結像面
18 ウエハーチャック
19 ウエハーステージ
20 球面ミラー
21 ハーフミラー
22 ミラー
23 ビームエクスパンダー
24 ハーフミラー
25 ミラー
26 ミラー偏心調整機構
27 集光レンズ
28 CCD受光器
31 ミラー
32 対物レンズ
33 球面ミラー
34 ステージ
Claims (9)
- 露光光源からの露光光で第1物体を照明する照明光学系と、
前記第1物体のパターンを第2物体に投影する投影光学系と、
前記露光光源とは別の光源からの光を利用して、前記投影光学系の光学特性を測定する干渉計と、を備え、
前記干渉計は、前記投影光学系を通過した前記別の光源からの光を二つの光に分割し、該分割された二つの光を干渉させることを特徴とする投影露光装置。 - 前記干渉計は、前記投影光学系を通過した前記別の光源からの光を二つの光に分割し、該二つの光のうち一方の光から参照光を生成し、もう一方の光と該参照光とを干渉させることを特徴とする請求項1記載の投影露光装置。
- 露光光源からの露光光で第1物体を照明する照明光学系と、
前記第1物体のパターンを第2物体に投影する投影光学系と、
前記露光光源とは別の光源からの光を利用して、前記投影光学系の光学特性を測定する干渉計と、を備え、
前記干渉計は、前記投影光学系を通過した前記別の光源からの光から参照光を生成し、該参照光と前記投影光学系を通過した前記別の光源からの光とを干渉させることを特徴とする投影露光装置。 - 前記干渉計は、前記投影光学系を通過した前記別の光源からの光から参照光を生成するビームエクスパンダーを有することを特徴とする請求項3記載の露光装置。
- 第1物体のパターンを第2物体上に投影する投影光学系と、
前記投影光学系の光学特性を測定する干渉計と、を備え、
前記干渉計は、光源からの光を前記第1物体面又は第2物体面に導く対物レンズを有し、
前記対物レンズは、前記第1物体面に沿って移動可能であることを特徴とする投影露光装置。 - 前記干渉計は、前記対物レンズの最終面で反射した光を参照光とすることを特徴とする請求項5記載の投影露光装置。
- 前記干渉計は、前記光源からの光を二つの光に分割するハーフミラーと、前記ハーフミラーを透過した光を参照光として反射するミラーと、を有し、前記ハーフミラーを反射した光は前記対物レンズに導かれることを特徴とする請求項5記載の投影露光装置。
- 露光光源からの露光光で前記第1物体を照明する照明光学系を備え、
前記干渉計の前記光源は、前記露光光源とは別の光源であることを特徴とする請求項5記載の投影露光装置。 - 前記対物レンズは、前記第1物体面又は第2物体面に集光し発散してくる前記干渉計の前記光源からの光を平行光とすることを特徴とする請求項8記載の投影露光装置。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7787103B2 (en) | 2006-10-24 | 2010-08-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection exposure apparatus, optical member, and device manufacturing method |
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2005
- 2005-06-10 JP JP2005171071A patent/JP4185924B2/ja not_active Expired - Fee Related
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