JP4184672B2 - 第4級アンモニウム水酸化物含有組成物及びその製造法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、シリカゾルまたは珪酸アルカリ等の結合剤への添加剤、塗料への添加剤又は近年特に重要性が増している半導体洗浄剤、レンズ用洗浄剤またはフォトレジスト剥離剤等として有用な第4級アンモニウム水酸化物を含む組成物及びその製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】
第3級アミンとアルキレンオキサイドより第4級アンモニウム水酸化物を合成する反応は古くから知られており、コリン(2−ヒドロキシ−[N、N、N−トリメチル]エタナムニウムヒドロキシド)についてはトリメチルアミンとエチレンオキサイドを反応させる方法がU.S.Pat.2,774,759(1956)及びEncyclopedia of Chemical Technology, 6巻,19-28(1979)に記載されている。又、着色性についてもU.S.Pat.2,774,759(1956)ではトリメチルアミンの存在下着色性が改善されることが記載されている。
【0003】
特開昭51−54505号公報には、第4級アンモニウム水酸化物にコロイド状シリカまたは珪酸アルカリを添加する着色防止方法が開示されている。
【0004】
特開昭59−134752号公報において第4級アンモニウム水酸化物にN,N−ジアルキルヒドロキシルアミンを含有させることを特徴とする着色防止性の改善された第4級アンモニウム水酸化物の組成物、特に2−ヒドロキシー[N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)―N−メチル]エタナムニウムヒドロキシドとN,N−ジエチルヒドロキシルアミンとの組成物が開示されている。しかし、2−ヒドロキシー[N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)―N−メチル]エタナムニウムヒドロキシドは、コリンに比べ着色性の弱い化合物である。
【0005】
特開昭59−148739号公報においては、第4級アンモニウム水酸化物に1分子中にアミノ基を2−6個有する脂肪族アミンを添加することを特徴とする着色防止方法が開示されており、コリン、2−ヒドロキシー[N−(2−ヒドロキシエチル)―N、N−ジメチル]エタナムニウムヒドロキシドまたは2−ヒドロキシー[N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)―N−メチル]エタナムニウムヒドロキシドとエチレンジアミンとの組成物の経時した時の着色度合いが記載されている。しかしながら、これらの特許公報に記載された組成物の着色の抑制は、十分満足の行くものではない。
【0006】
さらに、米国特許第27747592号公報、特開昭59−134752号公報及び特開昭59−148739号公報において、第4級アンモニウム水酸化物の組成物に、着色防止のためにアミン系化合物を添加することが開示されている。
【0007】
また、第4級アンモニウム水酸化物は、特開昭59−134752号公報及び特開昭59−148739号公報に記載されたシリカゾル、珪酸アルカリ等の結合剤への添加剤又は塗料への添加剤等従来の用途の他、近年、特開平6−041773、特開平6−151390及び特開平11−116984等に記載されている半導体洗浄剤、WO99−16855等に記載されているレンズ用洗浄剤又はWO99−51796及びWO99−60448等に記載されているフォトレジスト剥離剤等としての用途が広がっていることが記載されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、従来の用途の他、近年、特に重要性が増している半導体洗浄剤、レンズ用洗浄剤及びフォトレジスト剥離剤等として有用な、着色防止性の改善された第4級アンモニウム水酸化物の組成物を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、
下記一般式(I)
【0010】
【化8】
【0011】
[式中、R1は炭素数1乃至18個を有する直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数3乃至6個を有する直鎖状もしくは分岐状のアルケニル基、炭素数3乃至6個を有する直鎖状もしくは分岐状のアルキニル基、炭素数6または10個を有するアリール基または炭素数7乃至12個を有するアラルキル基を示し、
R2あるいはR3は、互いに独立に、水酸基で置換されてもよい直鎖状もしくは分岐状の炭素数1乃至6個を有するアルキル基、炭素数3乃至6個を有する直鎖状もしくは分岐状のアルケニル基、炭素数7乃至12個を有するアラルキル基またはR2及びR3が一緒になって、酸素もしくはイオウ原子を介しても良い炭素数4乃至6個を有するアルキレン基を示し、
R4は水素原子または炭素数1乃至6個を有する直鎖状もしくは分岐状アルキル基を示す。]を有する第4級アンモニウム水酸化物及び酸化防止剤(但し、アミンは除く。)を含有することを特徴とする組成物が上記課題を解決することを見出し、
さらに、下記一般式(II)
【0012】
【化9】
【0013】
[式中、R1は炭素数1乃至18個を有する直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数3乃至6個を有する直鎖状もしくは分岐状のアルケニル基、炭素数3乃至6個を有する直鎖状もしくは分岐状のアルキニル基、炭素数6または10個を有するアリール基または炭素数7乃至12個を有するアラルキル基を示し、
R2あるいはR3は、互いに独立に、水酸基で置換されてもよい直鎖状もしくは分岐状の炭素数1乃至6個を有するアルキル基、炭素数3乃至6個を有する直鎖状もしくは分岐状のアルケニル基、炭素数7乃至12個を有するアラルキル基またはR2及びR3が一緒になって、酸素もしくはイオウ原子を介しても良い炭素数4乃至6個を有するアルキレン基を示し、
R4は水素原子または炭素数1乃至6個を有する直鎖状もしくは分岐状アルキル基を示す。]を有する第3級アミンに酸化防止剤(但し、アミンは除く。)の存在下又は非存在下、
下記一般式(III)
【0014】
【化10】
【0015】
[式中、R4は水素原子または炭素数1乃至18個を有する直鎖状もしくは分岐状アルキル基を示す。]
を有するアルキレンオキシドを反応させ、反応終了後、酸化防止剤(但し、アミンは除く。)を添加することを特徴とする、上記組成物の製造法が、上記課題の組成物を提供するのに有用であることを見出し、本発明を完成した。
【0016】
上記一般式(I)乃至(III)を有する化合物において、
R1の炭素数1乃至18個を有する直鎖状もしくは分岐状のアルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、ペンチル、イソペンチル、s−ペンチル、t−ペンチル、2−メチルブチル、ネオペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、s−ヘキシル、t−ヘキシル、3−メチルペンチル、2−メチルペンチル、3, 3−ジメチルブチル、2, 2−ジメチルブチル、2, 3−ジメチルブチル、オクチル、デシル、ラウリル、ミスチル、パルミチル、又は、ステアリル基があげられ、好適にはメチル、エチル、プロピル、オクチル、デシルまたはラウリル基であり、更に好適にはメチルまたはエチル基が挙げられる。
【0017】
R1 、R2またはR3の炭素数3乃至6個を有する直鎖状もしくは分岐状のアルケニル基としては、例えば、1−プロペニル、2−プロペニル、1−メチル−2−プロペニル、1−メチル−1−プロペニル、2−メチル−1−プロペニル、2−メチル−2−プロペニル、2−エチル−2−プロペニル、1−ブテニル、2−ブテニル、1−メチル−2−ブテニル、1−メチル−1−ブテニル、3−メチル−2−ブテニル、1−エチル−2−ブテニル、3−ブテニル、1−メチル−3−ブテニル、2−メチル−3−ブテニル、1−エチル−3−ブテニル、1−ペンテニル、2−ペンテニル、1−メチル−2−ペンテニル、2−メチル−2−ペンテニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ペンテニル、2−メチル−3−ペンテニル、4−ペンテニル、1−メチル−4−ペンテニル、2−メチル−4−ペンテニル、1−ヘキセニル、2−ヘキセニル、3−ヘキセニル、4−ヘキセニルまたは5−ヘキセニル基が挙げられ、好適には2−プロペニルまたは2−メチル−2−プロペニル基が挙げられ、更に好適には2−プロペニル基が挙げられる。
【0018】
R1の炭素数3乃至6個を有する直鎖状もしくは分岐状のアルキニル基としては、例えば2−プロピニル、1−メチル−2−プロピニル、2−メチル−2−プロピニル、2−エチル−2−プロピニル、2−ブチニル、1−メチル−2−ブチニル、2−メチル−2−ブチニル、1−エチル−2−ブチニル、3−ブチニル、1−メチル−3−ブチニル、2−メチル−3−ブチニル、1−エチル−3−ブチニル、2−ペンチニル、1−メチル−2−ペンチニル、2−メチル−2−ペンチニル、3−ペンチニル、1−メチル−3−ペンチニル、2−メチル−3−ペンチニル、4−ペンチニル、1−メチル−4−ペンチニル、2−メチル−4−ペンチニル、2−ヘキシニル、3−ヘキシニル、4−ヘキシニルまたは5−ヘキシニル基が挙げられ、好適には2−プロピニルまたは2−メチル−2−プロピニル基が挙げられ、更に好適には2−プロピニル基が挙げられる。
【0019】
R1のアリール基としては、例えばフェニルまたはナフチル基が挙げられ、好適にはフェニル基が挙げられる。
【0020】
R1 、R2またはR3の炭素数7乃至12個を有するアラルキル基としては、例えばベンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、インデニルメチル、フェナンスレニルメチル、アントラセニルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、1−フェネチル、2−フェネチル、1−ナフチルエチル、2−ナフチルエチル、1−フェニルプロピル、2−フェニルプロピル、3−フェニルプロピル、1−フェニルブチル、2−フェニルブチル、3−フェニルブチル、4−フェニルブチル、1−フェニルペンチル、2−フェニルペンチル、3−フェニルペンチル、4−フェニルペンチル、5−フェニルペンチル、1−フェニルヘキシル、2−フェニルヘキシル、3−フェニルヘキシル、4−フェニルヘキシル、5−フェニルヘキシルまたは6−フェニルヘキシル基が挙げられ、好適にはベンジルまたは2−フェネチル基が挙げられ、更に好適にはベンジル基が挙げられる。
【0021】
R2あるいはR3の、水酸基で置換されても良い直鎖状または分岐状の炭素数1乃至6個を有するアルキル基としては、例えばメチル、エチル、2−ヒドロキシエチル、プロピル、3−ヒドロキシプロピル、イソプロピル、ブチル、4−ヒドロキシブチル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、ペンチル、5−ヒドロキシペンチル、イソペンチル、s−ペンチル、t−ペンチル、2−メチルブチル、ネオペンチル、ヘキシル、6−ヒドロキシヘキシル、イソヘキシル、s−ヘキシル、t−ヘキシル、3−メチルペンチル、2−メチルペンチル、3, 3−ジメチルブチル、2, 2−ジメチルブチルまたは2, 3−ジメチルブチル基が挙げられ、好適にはメチル、エチル、2−ヒドロキシエチル、プロピルまたは3−ヒドロキシプロピル基が挙げられ、更に好適にはメチル、エチルまたは2−ヒドロキシエチル基が挙げられる。
【0022】
R2及びR3が一緒になって、酸素もしくはイオウ原子を介しても良い炭素数4乃至6個を有するアルキレン基としては、例えばテトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、式CH2CH2OCH2CH2で表される基または式CH2CH2SCH2CH2CH2で表される基があげられ、好適には式テトラメチレンで表される基、ペンタメチレンまたは式CH2CH2OCH2CH2で表される基が挙げられ、更に好適にはペンタメチレンまたは式CH2CH2OCH2CH2で表される基が挙げられる。
【0023】
R4の炭素数1乃至6個を有する直鎖状もしくは分岐状のアルキル基としては、例えば上記R1の例示において示したのと同様の基が挙げられ、好適にはメチルまたはエチル基が挙げられ、更に好適にはメチル基が挙げられる。
【0024】
好適なR4としては、好適には水素原子またはメチル基が挙げられ、更に好適には水素原子が挙げられる。
【0025】
上記一般式(I)で示される化合物において、好適なR1乃至R4の組み合わせとしては、
1)R1がメチル基、R2がメチル基、R3がメチル基及びR4が水素原子である場合、
2)R1がメチル基、R2がメチル基、R3が2−ヒドロキシエチル基及びR4が水素原子である場合、
3)R1がメチル基、R2が2−ヒドロキシエチル基、R3が2−ヒドロキシエチル基及びR4が水素原子である場合、
4)R1がオクチル基、R2がメチル基、R3がメチル基及びR4が水素原子である場合が挙げられる。
【0026】
上記一般式(I)で表される第4級アンモニウム水酸化物のうち、好適にはコリン、2−ヒドロキシー[N−(2−ヒドロキシエチル)―N、N−ジメチル]エタナムニウムヒドロキシド、2−ヒドロキシー[N−(2−ヒドロキシエチル)―N、N−ジメチル]エタナムニウムヒドロキシド、又は、2−ヒドロキシー[N,N−ジメチルーN−オクチル]エタナミニウムヒドロキシドが挙げられる。
【0027】
本発明における酸化防止剤とは、アミンを除いた一般に使用されているされている酸化防止剤を示し、例えばヒドロキノン類、アスコルビン酸、エリソルビン酸、クエン酸、3.5−ジーt−ブチルー4ーヒドロキシトルエン、dl−αートコフェロール、2−t−ブチルー4−ヒドロキシアニソールまたは3−t−ブチルー4−ヒドロキシアニソールが挙げられ、好適にはヒドロキノン類またはアスコルビン酸が挙げられる。
【0028】
上記ヒドロキノン類としては、例えばヒドロキノンモノメチルエーテル(メトキノン)、ヒドロキノンモノエチルエーテル、ヒドロキノンモノベンジルエーテルが挙げられ、好適にはヒドロキノンモノメチルエーテル(メトキノン)またはヒドロキノンモノエチルエーテルが挙げられ、更に好適にはヒドロキノンモノメチルエーテル(メトキノン)が挙げられる。
【0029】
上記アスコルビン酸は天然型のL体と非天然型のD体があるが、好適にはL−アスコルビン酸が挙げられる。
【0030】
第4級アンモニウム水酸化物と酸化防止剤の組成物の組成比は、第4級アンモニウム水酸化物に対して酸化防止剤を、通常10乃至3000ppm用い、好適には50乃至1000ppm用い、更に好適には100乃至500ppm用いる。
【0031】
【発明の実施の形態】
本発明では、一般式(II)を有する第3級アミン類と一般式(III)を有するアルキレンオキサイドとを反応させることにより一般式(I)で表される基を製造する。
【0032】
酸化防止剤は上記反応前、上記反応後または上記反応前及び上記反応後に添加しても良いが、上記反応後または上記反応前及び上記反応後に添加するのが好ましく、上記反応前及び上記反応後に添加するのが特に好ましい。
【0033】
本発明の製造方法は溶媒の存在下又は非存在下行なうことが出来るが、好適には溶媒の存在下おこなう。
【0034】
使用される溶媒としては、水、有機溶媒または水と有機溶媒の混合溶媒が挙げられ、好適には水または水と有機溶媒の混合溶媒が挙げられ、更に好適には水が上げられる。
【0035】
上記有機溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテルのようなアルコール類;テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類;ジメチルホルムアミドのようなアミド類;またはジメチルスルフォキシドのようなスルフォキシド類;が挙げられ、好適にはアルコール類またはエーテル類が挙げられ、更に好適にはメタノール、エタノールまたはエチレングリコールが挙げられる。
【0036】
反応に用いる一般式(II)を有する第3級アミン類と一般式(III)を有するアルキレンオキシドとのモル比は、通常第3級アミン類1モルに対してアルキレンオキシドを0.8乃至1.2モル用い、好適には第3級アミン類1モルに対して0.9乃至1.0モルのアルキレンオキシドを用いる。
【0037】
反応温度は、通常0乃至100℃であり、好適には10乃至70℃であり、更に好適には10乃至50℃である。
【0038】
反応時間は反応温度によって異なるが、通常10分乃至10時間であり、好適には30分乃至5時間であり、更に好適には1時間乃至3時間である。
【0039】
反応終了後、第3級アミンを、窒素あるいはアルゴンガスを通じて留去するか又は減圧下留去し、酸化防止剤(但し、アミンを除く。)を添加することによって目的の第4級アンモニウム水酸化物の組成物を得ることが出来る。
【0040】
また、反応終了後、酸化防止剤(但し、アミンを除く。)を添加し、第3級アミンを、窒素あるいはアルゴンガスを通じて留去するか又は減圧下留去しても目的の第4級アンモニウム水酸化物の組成物を得ることが出来る。
【0041】
本発明の製造法における、好適な実施の形態としては、
下記一般式(II)
【0042】
【化11】
【0043】
を有する化合物に、ヒドロキノンモノメチルエーテル(メトキノン)の存在下、下記一般式(III)
【0044】
【化12】
【0045】
を有する化合物を反応させ、反応終了後、
ヒドロキノンモノメチルエーテル(メトキノン)又はアスコルビン酸を添加することを特徴とする、
一般式(I)
【0046】
【化13】
【0047】
を有する化合物とヒドロキノンモノメチルエーテル(メトキノン)又はヒドロキノンモノメチルエーテル(メトキノン)及びアスコルビン酸との組成物の製造法である。
【0048】
本発明の組成物は、シリカゾル、珪酸アルカリ等の結合剤への添加剤又は塗料への添加剤等の用途のほか、半導体もしくはレンズ用の洗浄剤またはフォトレジスト剥離剤として有用である。
【0049】
【実施例】
以下、実施例をあげて説明するが、本発明はこれらにより制限されるものではない。尚、本実施例において%とあるのは重量%である。
実施例1
トリメチルアミン30%水溶液600gにヒドロキノンモノメチルエーテル(メトキノン)を0.10g(生成する第4級アンモニウム水酸化物水溶液に対し0.015重量%)を添加し、エチレンオキサイド121gを20〜30℃で1時間かけて滴下し反応させた。1時間熟成し20乃至30℃で窒素気流減圧下にて未反応トリメチルアミンを除去し、コリン(2−ヒドロキシ−[N、N、N−トリメチル]エタナムニウムヒドロキシド)の46重量%水溶液を合成した。この水溶液にヒドロキノンモノメチルエーテル(メトキノン)0.10g(生成した第4級アンモニウム水酸化物水溶液に対し0.015重量%)を添加した。
実施例2
N−メチルジエタノールアミン278gとイオン交換水334g(アミンに対し1.2倍量)にヒドロキノンモノメチルエーテル(メトキノン)を0.10g(生成する第4級アンモニウム水酸化物水溶液に対し0.015重量%)を添加し、エチレンオキサイド92gを20乃至30℃で1時間かけて滴下し反応させた。1時間熟成し、2−ヒドロキシ−[N、N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−N−メチル]エタナムニウムヒドロキシド)の49重量%水溶液を合成した。この水溶液にヒドロキノンモノメチルエーテル(メトキノン)0.10g(生成した第4級アンモニウム水酸化物水溶液に対し0.015%)を添加した。
実施例3
トリメチルアミン30%水溶液600gにヒドロキノンモノメチルエーテル(メトキノン)を0.10g(生成する第4級アンモニウム水酸化物水溶液に対し0.015重量%)を添加し、エチレンオキサイド121gを20〜30℃で1時間かけて滴下し反応させた。1時間熟成し20乃至30℃で窒素気流減圧下にて未反応トリメチルアミンを除去し、コリン(2−ヒドロキシ−[N、N、N−トリメチル]エタナムニウムヒドロキシド)の46重量%水溶液を合成した。この水溶液にL−アスコルビン酸0.07g(生成した第4級アンモニウム水酸化物水溶液に対し0.010重量%)を添加した。
実施例4
N−メチルジエタノールアミン278gとイオン交換水334g(アミンに対し1.2倍量)にヒドロキノンモノメチルエーテル(メトキノン)を0.10g(生成する第4級アンモニウム水酸化物水溶液に対し0.015重量%)を添加し、エチレンオキサイド92gを20乃至30℃で1時間かけて滴下し反応させた。1時間熟成し、2−ヒドロキシ−[N、N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−N−メチル]エタナムニウムヒドロキシド)の49重量%水溶液を合成した。この水溶液にL−アスコルビン酸0.07g(生成した第4級アンモニウム水酸化物水溶液に対し0.010重量%)を添加した。
実施例5
N、N−ジメチルエタノールアミン230gとイオン交換水368g(アミンに対し1.6倍量)にヒドロキノンモノメチルエーテル(メトキノン)を0.10g(生成する第4級アンモニウム水酸化物水溶液に対し0.015重量%)を添加し、エチレンオキサイド103gを20乃至30℃で1時間かけて滴下し反応させた。1時間熟成し、2−ヒドロキシ−[N−(2−ヒドロキシエチル)−N、N−ジメチル]エタナムニウムヒドロキシド)の50重量%水溶液を合成した。この水溶液にヒドロキノンモノメチルエーテル(メトキノン)0.10g(生成した第4級アンモニウム水酸化物水溶液に対し0.015重量%)を添加した。
実施例6
N、N−ジメチルエタノールアミン230gとイオン交換水368g(アミンに対し1.6倍量)にヒドロキノンモノメチルエーテル(メトキノン)を0.10g(生成する第4級アンモニウム水酸化物水溶液に対し0.015重量%)を添加し、エチレンオキサイド103gを20乃至30℃で1時間かけて滴下し反応させた。1時間熟成し、2−ヒドロキシ−[N−(2−ヒドロキシエチル)−N、N−ジメチル]エタナムニウムヒドロキシド)の50重量%水溶液を合成した。この水溶液にL−アスコルビン酸0.07g(生成した第4級アンモニウム水酸化物水溶液に対し0.010重量%)を添加した。
実施例7
ジメチルオクチルアミン(ファーミンDM0898:花王(株)製)314gを70wt.%イソプロピルアルコール水溶液560gに混合後、ヒドロキノンモノメチルエーテル(メトキノン)を0.14g(生成する第4級アンモニウム水酸化物水溶液に対し0.015重量%)を添加し、エチレンオキサイド79gを20〜30℃で1時間滴下反応させた。1時間熟成後、2−ヒドロキシ−[N、N、−ジメチル−N−オクチル]エタナニウムヒドロキシド)の41重量%水溶液を合成した。この第4級アンモニウム水酸化物水溶液にヒドロキノンモノメチルエーテル(メトキノン)0.14gまたはL−アスコルビン酸0.10g(生成した第4級アンモニウム水酸化物水溶液に対し0.015または0.010重量%)を添加した。
比較例1
トリメチルアミン30%水溶液600gに添加剤を添加せず、エチレンオキサイド121gを20〜30℃で1時間滴下反応させた。1時間熟成し20乃至30℃で窒素気流減圧下にて未反応トリメチルアミンを除去し、コリン(2−ヒドロキシ−[N、N、N−トリメチル]エタナムニウムヒドロキシド)の46重量%水溶液を合成した。
比較例2
トリメチルアミン30%水溶液600gに添加剤を添加せず、エチレンオキサイド121gを20乃至30℃で1時間滴下反応させた。1時間熟成し20乃至30℃で窒素気流減圧下にて未反応トリメチルアミンを除去し、コリン(2−ヒドロキシ−[N、N、N−トリメチル]エタナムニウムヒドロキシド)の46重量%水溶液を合成した。この第4級アンモニウム水酸化物水溶液にエチレンジアミン0.20g(生成した第4級アンモニウム水酸化物水溶液に対し0.03重量%)を添加した。
試験例1
実施例1乃至6及び比較例1及び2で得られた組成物を、窒素雰囲気下で密閉後、40℃にて時間経過による色調Gardner.No(JIS K 5400)を測定した。その結果を表1に示す。
【0050】
【表1】
【0051】
表1に示すように実施例1乃至6の組成物は、比較例1及び2の組成物に比べ、長期間にわたり着色防止性を示した。
【0052】
【発明の効果】
本発明の、第4級アンモニウム水酸化物(I)と酸化防止剤(但し、アミンは除く)からなる組成物は、優れた着色防止性を示し、工業的に必要な長期の保存が可能となった。
Claims (8)
- 下記一般式(II)
- 一般式(II)を有する第3級アミンの水溶液に、ヒドロキノンモノメチルエーテルの存在下、一般式(III)を有するアルキレンオキシドを反応させ、反応終了後、アスコルビン酸を添加することを特徴とする、一般式(I)を有する第4級アンモニウム水酸化物と、ヒドロキノンモノメチルエーテル及びアスコルビン酸[ヒドロキノンモノメチルエーテル及びアスコルビン酸の組成比は、一般式(I)を有する第4級アンモニウム水酸化物に対し、50乃至1000ppmである。]とを含有する、請求項1に記載のフォトレジスト剥離剤。
- R1が炭素数1乃至18個を有する直鎖状のアルキル基であり、R2及びR3がメチル基であり、R4が水素原子またはメチル基である請求項1又は2に記載のフォトレジスト剥離剤。
- R1が炭素数1乃至8個を有する直鎖状のアルキル基であり、R2及びR3がメチル基であり、R4が水素原子である請求項1又は2に記載のフォトレジスト剥離剤。
- 下記一般式(II)
- 一般式(II)を有する第3級アミンの水溶液に、ヒドロキノンモノメチルエーテルの存在下、一般式(III)を有するアルキレンオキシドを反応させ、反応終了後、アスコルビン酸を添加することを特徴とする、一般式(I)を有する第4級アンモニウム水酸化物と、ヒドロキノンモノメチルエーテル又は、ヒドロキノンモノメチルエーテル及びアスコルビン酸[ヒドロキノンモノメチルエーテル及びアスコルビン酸の組成比は、上記一般式(I)を有する第4級アンモニウム水酸化物に対し、50乃至1000ppmである。]とを含有する、請求項1に記載のフォトレジスト剥離剤の製造方法。
- R1が炭素数1乃至18個を有する直鎖状のアルキル基であり、R2及びR3がメチル基であり、R4が水素原子またはメチル基である、請求項5または6に記載のフォトレジスト剥離剤の製造法。
- R1が炭素数1乃至8個を有する直鎖状のアルキル基であり、R2及びR3がメチル基であり、R4が水素原子である、請求項5または6に記載のフォトレジスト剥離剤の製造法。
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