JP4175880B2 - 凸状又は凹状若しくは凹凸状の表面形状を有するゾルゲル膜及び塗布液並びに製法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、特に建築用窓ガラス、車両用窓ガラス、鏡、その他産業用窓ガラス等に被覆することが可能な特異な表面形状を有するゾルゲル膜に関する。
【0002】
【従来の技術】
表面形状を制御して形成した薄膜は、機能性薄膜と基材とを強固に結びつける媒介層としての優れた特性、低反射性、拡散反射性、親水性膜の場合にあっては表層の表面積を拡大させ親水性の向上させる特性、撥水性膜の場合にあっては撥水剤成分の単位面積当たりの保持量を大幅に増大させて耐摺動性を改善させる特性等の優れた特性を有しており、従来、膜表面に凹状、凸状、及び凹凸状等を形成させる方法として種々の方法が提案されてきた。
【0003】
例えば、特許文献1では、基材上のゾルゲル膜に凹凸面を具えた成型材を密着させ加熱し、凹凸膜を得る方法が開示され、特許文献2では、金属酸化物膜に金属酸化物微粒子を導入することで凹凸膜を得る方法が開示されている。
【0004】
本出願人は、上記方法とは異なる方法として、特許文献3乃至4等で二つ以上の分子量の異なる金属酸化物の混合ゾルから凹状、凸状、及び凹凸状等を有する膜を得る方法、又、特許文献5では、混合ゾルの溶媒中の1,3−ブタンジオールの添加量で凹凸状表面の表面粗さを数nm〜15nmの範囲で任意に制御できることを開示してきた。特許文献3乃至5等で開示されている方法は、凹状、凸状、及び凹凸状等を有する膜を、高透過、高耐久に得ることができる方法であった。
【0005】
しかし、上記方法で得られる膜の凹状、凸状、及び凹凸状等の間隔や大きさは数nm〜数100nmレベルであり、数十μmレベルの凹状、凸状、及び凹凸状等の間隔や大きさの形状を得るためには、特許文献1のように成型材が必要で経済的でない等の問題があった。又、高耐久の膜を得るためには400℃以上での焼成が必要であり、使用できる基材が制限されることや、経済的な観点からより低い焼成温度で上記膜を形成できることが望まれていた。
【0006】
【特許文献1】
特開平11−314927号公報
【特許文献2】
特開平9−100141号公報
【特許文献3】
特開平5−319869号公報
【特許文献4】
特開平6−157076号公報
【特許文献5】
特開平9−315839号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、高温焼成を必要とせずに耐久性に優れる凹状、凸状、及び凹凸状等の表面形状を有するアルコキシシランを加水分解及び重縮合して得られたシリカゾルにアルコキシ基末端ジメチルシリコーン誘導体を混合して得られた塗布液を基材上に塗布し、溶媒を記載させることで得られるゾルゲル膜を提供することであり、該表面形状をnmオーダーだけでなく、μmオーダーの間隔や大きさに制御できる塗布液及び製法を提供することを課題とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記の課題を鑑みてなされたものである。すなわち本発明は、アルコキシシランを加水分解及び重縮合して得られたシリカゾルにアルコキシ基末端ジメチルシリコーン誘導体を混合して得られた塗布液を基材上に塗布し、溶媒を記載させることで得られるシリカ及びジメチルシリコーンの組成物からなるゾルゲル膜で、前記膜が凸状又は凹状若しくは凹凸状の表面形状を有し、前記ジメチルシリコーンが一般式[1]で表される平均重合度が5以上2000以下のジメチルシリコーン誘導体であることを特徴とするゾルゲル膜である。
【0009】
【化3】
【0010】
ここで、p及びqは2乃至3の整数、nは5乃至2000の整数、A1、A2は、それぞれ、2価のアルキレン基、又は酸素を示し、末端の酸素の少なくとも一つは珪素と結合していることを示している。
【0011】
又、シリカとジメチルシリコーン誘導体との組成比が、重量比で1:0.0001〜1:10であることが好ましい。ゾルゲル膜を上記構造とすることで凸層及び/又は凹層を有するゾルゲル膜を、高温焼成を必要とせずに高耐久とすることができる。
【0012】
前記ゾルゲル膜を得るための塗布液は、溶媒、シリカゾル、一般式[2]で表される平均重合度が5以上2000以下のアルコキシ基末端ジメチルシリコーン誘導体とからなることを特徴とする。
【0013】
【化4】
【0014】
ここで、Rは1価のアルキル基、p及びqは2乃至3の整数、nは5乃至2000の整数、A1、A2は、それぞれ、2価のアルキレン基、又は酸素を示す。
【0015】
又、溶媒が少なくとも水を有すること好ましく、塗布液中の水量が0.01重量%以上10重量%以下であることが好ましい。該塗布液は、アルコキシシランを加水分解及び重縮合して得られたシリカゾルにアルコキシ基末端ジメチルシリコーン誘導体を混合して得られたものであることが好ましい。
【0016】
前記アルコキシ基末端ジメチルシリコーン誘導体の重合度の範囲を上記範囲内で選択、塗布液中の水分量を調整することで、ゾルゲル膜の表面形状を所望の形状や間隔に制御することができる。
【0017】
本発明のゾルゲル膜の製法は、上記塗布液を基材に塗布し、溶媒を揮散させることで膜を形成することを特徴とする。又、ゾルゲル膜の表面の凸層及び/又は凹層を所望の形状や間隔に制御するためには、塗布液を基材に塗布するときの湿度を調整することが好ましい。
【0018】
【発明の実施の形態】
本発明のゾルゲル膜は、シリカ及びジメチルシリコーンの組成物からなるゾルゲル膜で、前記膜が凸状又は凹状若しくは凹凸状の表面形状を有し、前記ジメチルシリコーンが一般式[1]で表される平均重合度が5以上2000以下のジメチルシリコーン誘導体であることを特徴とするゾルゲル膜である。
【0019】
【化5】
【0020】
ここで、p及びqは2乃至3の整数、nは5乃至2000の整数、A1、A2は、それぞれ、2価のアルキレン基、又は酸素を示し、末端の酸素の少なくとも一つは珪素と結合していることを示している。
【0021】
凸状又は凹状若しくは凹凸状の表面形状を有するゾルゲル膜をシリカ及びジメチルシリコーン誘導体との組成物としたのは、従来の凸状又は凹状若しくは凹凸状の表面形状を有するゾルゲル膜では、前記表面形状によって、ミストやオイル等の汚染物に付着しやすく、付着物に由来して耐擦傷性や耐磨耗性が低下する問題等に鑑みたからである。ジメチルシリコーン誘導体の潤滑性によって、膜表面の滑り性が良くなり、その結果、膜表面の滑り性が向上し、汚染物が付着しにくくなり、膜の耐久性が向上する。又、膜表面の滑り性は、ゾルゲル膜を基材上に形成する際に、基材上に塗布した塗布液の溶媒を揮散させるだけでも発現するので、従来の凸状又は凹状若しくは凹凸状の表面形状を有するゾルゲル膜を高耐久化するための400℃以上の高温焼成を必要とせず、室温乾燥又は400℃未満の低温焼成で高耐久の凸状又は凹状若しくは凹凸状の表面形状を有するゾルゲル膜を得ることができるので、低コスト化や基材の選択幅が広がる等の効果を発揮する。
【0022】
一般式[1]で表されるジメチルシリコーン誘導体のp及びqを2乃至3の整数としたのは、シリカとジメチルシリコーン誘導体とを強固に結合させ、高強度な膜とするためである。ここで、末端の酸素の少なくとも一つは珪素と結合していることを示している。nを5乃至2000の整数としたのは、5未満では、ジメチルシリコーン誘導体による膜表面の滑り性改善に効果が少なく、2000を超えると均質な膜を得にくいからである。
【0023】
シリカとジメチルシリコーン誘導体のとの組成比は、重量比で1:0.0001〜1:10であることが好ましい。ジメチルシリコーン誘導体が前記組成比よりも少ない組成領域では、膜表面の滑り性改善の効果が少なく、前記組成比よりも多い組成領域では、均質な膜を得にくくなる。
【0024】
本発明の凸状の表面形状とは、膜表面に突出部が0.3μm〜90μm、好ましくは1μm〜30μmの周期で形成されたものである。前記突出部の最表層面の大きさは、突出部が多角形状の場合であっては最大の対角線、円弧状の場合であっては最大の径が、前記周期の0.1倍〜1倍であることが好ましい。前記突出部の高さは、2〜100nmであることが好ましい。
【0025】
又、凹状の表面形状とは、膜表面にくぼみ部が0.3μm〜90μm、好ましくは1μm〜30μmの周期で形成されたものである。前記くぼみ部の底部の大きさは、くぼみ部が多角形状の場合であっては最大の対角線、円弧状の場合であっては最大の径が、前記周期の0.1倍〜1倍であることが好ましい。くぼみ部の深さは、2nm〜膜厚とすることが好ましい。
【0026】
さらに、凹凸状の表面形状とは、前記凸状の表面形状及び前記凹状の表面形状を両方有するものである。
【0027】
シリカとジメチルシリコーン誘導体との組成物からなる凸状又は凹状若しくは凹凸状の表面形状を有するゾルゲル膜は、膜厚によっても、凸状の突出部の高さ、凹状のくぼみ深さを制御することができ、膜厚が大きい程、前記突出高さ、くぼみ深さが大きくなる。前記膜厚は、10nm以上500nm以下とすることが好ましい。膜厚が10nm未満になると、基材上に均一な塗膜を形成することが困難となり、500nmを超えると、膜強度が弱くなるばかりか、クラックが生じやすくなり好ましくない。
【0028】
本発明のゾルゲル膜は、シリカ、ジメチルシリコーン誘導体以外の他の成分が含有されていても良い。これらの成分としては、有機高分子、無機微粒子、界面活性剤、シランカップリング剤等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0029】
又、本発明は、前記ゾルゲル膜を形成するための塗布液であり、前記塗布液は、溶媒、シリカゾル、一般式[2]で表される平均重合度が5以上2000以下のアルコキシ基末端ジメチルシリコーン誘導体とからなる。シリカゾルは膜形成後にシリカとなり、一般式[2]で表されるアルコキシ基末端ジメチルシリコーン誘導体は、膜形成後には一般式[1]で表されるアルコキシ基末端ジメチルシリコーン誘導体となる。
【0030】
【化6】
【0031】
ここで、Rは1価のアルキル基、p及びqは2乃至3の整数、nは5乃至2000の整数、A1、A2は、それぞれ、2価のアルキレン基、又は酸素を示す。
【0032】
一般式[2]で表されるアルコキシ基末端ジメチルシリコーン誘導体のp及びqを2乃至3の整数としたのは、シリカゾルとジメチルシリコーン誘導体との架橋結合を容易にさせるためであり、結果得られる膜は高強度な膜となる。又、p及びqが0乃至1の整数であった場合、前記架橋結合が不十分なばかりか、シリカゾルとジメチルシリコーン誘導体との分相しすぎて、形成される膜はシリカとジメチルシリコーンの2層状の膜となり、凸状又は凹状若しくは凹凸状の表面形状は得られなくなる。nを5乃至2000の整数としたのは、5未満では、ジメチルシリコーン誘導体による膜表面の滑り性改善に効果が少なく、2000を超えると均質な塗布液を得にくいからである。
【0033】
アルコキシ基末端ジメチルシリコーン誘導体の平均重合度は、ゾルゲル膜の凸状又は凹状若しくは凹凸状の周期に影響し、平均重合が大きい程得られる膜の凸状又は凹状若しくは凹凸状の周期は大きくなり、数十μmの周期をも得ることができ、前記平均重合度を選択すれば、凸状又は凹状若しくは凹凸状の周期を適宜選択することができる。具体的には、平均重合度が100以下と分子量が小さい場合には、0.3μm〜9μmの周期をもつ凸状又は凹状若しくは凹凸状となりやすい。一方、平均重合度が100超の比較的大きい分子量を用いた場合には、表面形状は10μm〜90μmの周期をもつ凸状又は凹状若しくは凹凸状となりやすい。
【0034】
ただし、塗布液の水分量、溶媒組成や塗布液を基材に塗布するときの湿度も凸及び/又は凹の周期や形状に影響するので、平均重合度と及び/又は凹の周期や形状との関係は上記に限るものではない。
【0035】
前記のような表面形状の発現は、シリカゾル成分とアルコキシ基末端ジメチルシリコーン誘導体との相分離現象によるものである。ジメチルシリコーン誘導体の平均重合度を変化させて、表面形状が変化したのは、平均重合度が上記相分離現象に深く影響を与えるためである。
【0036】
前記溶媒は、少なくとも水を有すること好ましく、塗布液中の水量が0.01重量%以上10重量%以下であることが好ましい。塗布液中の水分量が0.01重量%未満だと、基材との濡れ性が低下し、基材上に均一に膜を形成することができなくなるので好ましくない。また10重量%を超えると、アルコキシキ末端ジメチルシリコーン誘導体の溶解度が減少し、均質な塗布液が得られなくなるので好ましくない。前記水量範囲において、適切な水量を選択すると、凸状の表面形状を有するゾルゲル膜、凹状の表面形状を有するゾルゲル膜を適宜得ることができる。塗布液の水量が少ないと、得られる膜の表面形状は凹状となり、水量が多いと凸状となる。
【0037】
他の溶媒成分としては、エチルアルコール、イソプロピルアルコールなどの低級アルコール、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸等の酸性溶液、水酸化ナトリウム、アンモニア等の塩基溶液、又は、それらの混合溶媒が望ましいが、アルコール類に限らず、アセトン、メチルエチルケトン、イソホロン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族系炭化水素溶媒類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、クロロホルム、四塩化炭素等の塩素系溶媒やそれらの混合物を用いることができる。
【0038】
前記塗布液は、アルコキシシランを加水分解及び重縮合して得られたシリカゾルにアルコキシ基末端ジメチルシリコーン誘導体を混合して得られたものであることが好ましい。アルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン類、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン等のトリアルコキシシラン類、又はジアルコキシシラン類等を使用することができる。尚上記アルコキシシランの中でもテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン等が特に好ましい。
【0039】
前記シリカゾルの調製は、例えば、アルコキシシラン(例えば、テトラエトキシシラン)と溶媒を所定量混合、攪拌(例えば、約30分程度)し溶液Aを得る。溶媒としては、水、エチルアルコール、イソプロピルアルコールなどの低級アルコール、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸等の酸性溶液、水酸化ナトリウム、アンモニア等の塩基溶液、又は、それらの混合溶媒が望ましいが、アルコール類に限らず、アセトン、メチルエチルケトン、イソホロン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族系炭化水素溶媒類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、クロロホルム、四塩化炭素等の塩素系溶媒やそれらの混合物等も用いることができる。一方、酸性水溶液と前記溶媒を混合、攪拌して溶液Bを得る。次いで、溶液Aと溶液Bを混合後、室温で攪拌してアルコキシシランの加水分解及び重縮合反応を進めシリカゾルを得る。攪拌時間は、10分から6ケ月が好ましく、特に30分から1ヶ月が好ましいが、室温以外で攪拌する場合はこれに限定されるわけではない。以上のようにアルコキシシランの加水分解は、アルコキシシランに少量の水と塩酸、硝酸、酢酸などの酸触媒を添加し行うことができ、その加水分解物を室温又は加熱しながら攪拌することにより重縮合させ、シリカゾルを得ることができる。尚、シリカゾルの調製法としては、上記の方法に限定されるものではないが、上記のようなアルコキシシランを溶媒で希釈したものと、溶媒で希釈した酸性水溶液を徐々に混合する方法は、急激な反応を避けることができ、より均質な反応が得られるので、好ましい。
【0040】
前記塗布液を基材上に塗布し、溶媒を揮散させることで高耐久の凸状又は凹状若しくは凹凸状の表面形状を有するゾルゲル膜を得ることができるが、前記溶媒の揮散を促進させるために焼成を行うことができる。400℃〜800℃で焼成を行うこともできるが、経済的な観点から、100℃〜400℃、より好ましくは、150℃〜300℃で焼成することが好ましい。
【0041】
基材上に前記塗布液を塗布する手段は、ノズルフロ−コ−ト法、ディッピング法、スプレー法、リバ−スコ−ト法、フレキソ法、印刷法、フローコート法、スピンコート法、及びそれらの併用等既知の被覆手段など各種被覆法が適宜採用することができる。
【0042】
前記塗布液を基材に塗布するときの湿度は、形成されるゾルゲル膜の凸状又は凹状若しくは凹凸状の周期に影響するので、塗布液を基材に塗布する際は、湿度を調整することが好ましい。前記ゾルゲル膜を得るために、湿度を30%乃至70%の範囲で調湿することができ、湿度が高いほど、凸状又は凹状若しくは凹凸状の周期は大きくなる。
【0043】
前記基材としては、代表的なものとしてはガラスがあげられる。そのガラスは自動車用、建築用、産業用ガラス等に通常用いられている板ガラスであり、フロート法、デュープレックス法、ロールアウト法等による板ガラスであって、製法は特に問わない。
【0044】
ガラス種としては、クリアをはじめグリーン、ブロンズ等の各種着色ガラスやUV、IRカットガラス、電磁遮蔽ガラス等の各種機能性ガラス、網入りガラス、低膨張ガラス、ゼロ膨張ガラス等防火ガラスに供し得るガラス、強化ガラスやそれに類するガラス、合わせガラスのほか複層ガラス等、銀引き法、あるいは真空成膜法により作製された鏡、さらには平板、曲げ板等各種ガラス製品を使用できる。板厚としては1.0mm以上10mm以下が好ましく、自動車用としては1.0mm以上5.0mm以下が好ましい。基材への前記ゾルゲル膜の形成は、基材の片面だけであってもよいし、両面に行ってもよい。又、前記ゾルゲル膜の形成は基材面の全面でも一部分であってもよい。
【0045】
加えて、基材は、ガラスに限定されるものではなく、光透過性や光反射性を有するポリエチレンテレフタレート等の樹脂フィルム、ポリカーボネート等の樹脂、金属、セラミックス等も、前記溶媒揮散時に変形しないものであれば使用することができる。
【0046】
本発明のゾルゲル膜を下地膜としてその上にフルオロアルキルシラン等からなる機能性膜を形成し積層膜とした場合、該積層膜はゾルゲル膜の滑り性を保持し、滑り性由来の耐久性を発揮する等に奏効する。
【0047】
【実施例】
以下に本発明の実施例について説明する。
【0048】
〔シリカゾルの調製〕
シリカゾルは、テトラエトキシシラン〔Si(OC2H5)4:TEOS〕の加水分解および重縮合反応を進めることにより調製した。図1にシリカゾルの調製手順と各成分の混合割合(重量比)を示す。先ず、TEOS;312.5gとエキネンF1(90重量%のエタノールと10重量%のイソプロピルアルコールからなる低級アルコールの混合物);450.0gを混合し、約30分間攪拌した(溶液A)。また、60%硝酸水溶液;7.5g、H2O;210.0gおよびエキネンF1;20.0gを混合し、約30分間攪拌した(溶液B)。次いで、溶液Aと溶液Bを混合後、約15時間室温で攪拌することによってシリカゾルXを得た。
【0049】
〔塗布液の調製〕
塗布液は、ジメチルシリコーン誘導体と上記〔シリカゾルの調製〕で得たシリカゾルXを混合することによって得た。図2に塗布液の調製手順と各薬液の混合割合(重量比)を示す。先ず、ジメチルシリコーン誘導体;0.03gとメチルエチルケトン;7.00gとイソプロピルアルコール;7.00gを混合し、約5分間攪拌した後、上記シリカゾルX;0.78gを添加し、約15時間室温で攪拌した。次いで、メチルエチルケトン;26.50gとイソプロピルアルコール;26.50gすることによって塗布液を調製した。
【0050】
〔ガラス基板の洗浄〕
300mm×300mm×2mm(厚)サイズのフロートガラスの表面を研磨液で研磨し、ガラス洗浄機(当所製作品)にて水洗および乾燥した。なお、ここで用いた研磨液は、約1%のガラス用研摩剤ミレークA(T)(三井金属鉱業製)を水に混合した懸濁液を用いた。
【0051】
〔凸状又は凹状若しくは凹凸状の表面形状を有するゾルゲル膜の作製〕
上記塗布液をスピンコート法によりガラス基板上に塗布した。先ず、スピンコーター上に上記〔ガラス基板の洗浄〕に記載した要領で洗浄したガラス基板を設置し、回転速度が75rpmの速度で回転させながら約40mlの塗布液を滴下し、30秒間回転速度を維持して塗膜の乾燥を行い、良好な成膜性の透明ゲル膜を得た。次いで、250℃で10分間熱処理を行い、室温まで冷却させて凸状又は凹状若しくは凹凸状の表面形状を有するゾルゲル膜を得た。
【0052】
〔ゾルゲル膜の表面観察〕
原子間力顕微鏡(AFM:セイコー電子工業製 SPI-3700)を用いて、ゾルゲル膜の表面形状の観察を行った。観察時のスキャン範囲は、25μm×25μmまたは3μm×3μmとした。
【0053】
〔耐久性の評価〕
スチールウール(#0000)でゾルゲル膜表面を10往復手拭きし、手拭き作業後に傷の発生または膜の剥離が起こらなかったものを高耐久膜とした。
【0054】
実施例1
平均重合度が50(平均分子量;2000)のジメチルシリコーン誘導体〔(CH3O)3SiCH2CH2[Si(CH3)2O]50Si(CH3)2CH2CH2Si(OCH3)3〕を用い、上記〔塗布液の調製〕に記載の要領で塗布液を調製した。このときの溶媒組成は重量比でメチルエチルケトン:イソプロピルアルコール:水=49.9:49.9:0.2であった。次いで、湿度が69RH%の雰囲気の下で上記〔凸状又は凹状若しくは凹凸状の表面形状を有するゾルゲル膜の作製〕に記載した要領にて膜厚20nmのゾルゲル膜を得た。
【0055】
得られたゾルゲル膜の表面を上記〔ゾルゲル膜の表面観察〕に記載した方法で表面を観察した結果、表面は図3に示すように約5μm周期、くぼみ部の底部の最大径が約3μmの凹状の表面形状であった。又、〔耐久性の評価〕に記載した方法で耐久性を評価した結果、高耐久な膜であった。なお、表1にゾルゲル膜の作製条件、図3に得られたゾルゲル膜の表面形状について示す。
【0056】
【表1】
【0057】
実施例2
平均重合度が75(平均分子量;4000)のジメチルシリコーン誘導体〔(CH3O)3SiCH2CH2[Si(CH3)2O]75Si(CH3)2CH2CH2Si(OCH3)3〕を用いた以外は実施例1と同じ操作で膜厚20nmのゾルゲル膜を得た。
【0058】
結果、表面は図4に示すように約7μm周期、くぼみ部の底部の最大径が約4μmの凹状の表面形状であり、高耐久な膜であった。
【0059】
実施例3
平均重合度が100(平均分子量;8000)のジメチルシリコーン誘導体〔(CH3O)3SiCH2CH2[Si(CH3)2O]100Si(CH3)2CH2CH2Si(OCH3)3〕を用いた以外は実施例1と同じ操作で膜厚20nmのゾルゲル膜を得た。
【0060】
結果、表面は図5に示すように約8μm周期、くぼみ部の底部の最大径が約5μmの凹状の表面形状であり、高耐久な膜であった。
【0061】
実施例4
平均重合度が150(平均分子量;11500)のジメチルシリコーン誘導体〔(CH3O)3SiO[Si(CH3)2O]150Si(OCH3)3〕を用いた以外は実施例1と同じ操作で膜厚20nmのゾルゲル膜を得た。
【0062】
結果、表面は図6に示すように15〜20μm周期、くぼみ部の底部の最大径が10〜15μmの凹状の表面形状であり、高耐久な膜であった。
【0063】
実施例5
平均重合度が200(平均分子量;15000)のジメチルシリコーン誘導体〔(CH3O)3SiCH2CH2[Si(CH3)2O]200Si(CH3)2CH2CH2Si(OCH3)3〕を用いた以外は実施例1と同じ操作で膜厚20nmのゾルゲル膜を得た。
【0064】
結果、表面は図7に示すように15〜20μm周期、くぼみ部の底部の最大径が約15μmの凹状の表面形状であり、高耐久な膜であった。
【0065】
実施例6
平均重合度が300(平均分子量;22500)のジメチルシリコーン誘導体〔(CH3O)3SiCH2CH2[Si(CH3)2O]300Si(CH3)2CH2CH2Si(OCH3)3〕を用いた以外は実施例1と同じ操作で膜厚20nmのゾルゲル膜を得た。
【0066】
結果、表面は図8に示すように15〜20μm周期、くぼみ部の底部の最大径が15〜20μmの凹状の表面形状であり、高耐久な膜であった。
【0067】
実施例7
塗布液の溶媒組成をメチルエチルケトン:イソプロピルアルコール:水=47.4:47.4:5.2とした以外は実施例5と同じ操作で膜厚20nmのゾルゲル膜を得た。
【0068】
結果、表面は図9に示すように10〜15μm周期、突出部の最表層の最大径が5〜10μmの凸状の表面形状であり、高耐久な膜であった。
【0069】
実施例8
塗布液の溶媒組成をメチルエチルケトン:イソプロピルアルコール:水:イソホロン=49.4:49.4:0.2:1.0とした以外は実施例5と同じ操作で膜厚20nmのゾルゲル膜を得た。
【0070】
結果、表面は図10に示すように10〜15μm周期、くぼみ部の最大対角線が10〜15μmの凹状の表面形状であり、高耐久な膜であった。
【0071】
実施例9
湿度が53RH%の雰囲気の下で上記〔凸状又は凹状若しくは凹凸状の表面形状を有するゾルゲル膜の作製〕に記載した要領にてゾルゲル膜を得た以外は実施例5と同じ操作で膜厚20nmのゾルゲル膜を得た。
【0072】
結果、表面は図11に示すように約10μm周期、くぼみ部の最大径が約5μmの凹状の表面形状であり、高耐久な膜であった。
【0073】
実施例10
湿度が32RH%の雰囲気の下で上記〔凸状又は凹状若しくは凹凸状の表面形状を有するゾルゲル膜の作製〕に記載した要領にてゾルゲル膜を得た以外は実施例5と同じ操作で膜厚20nmのゾルゲル膜を得た。
【0074】
結果、表面は図12に示すように約5μm周期、くぼみ部の最大径が約3μmの凹状の表面形状であり、高耐久な膜であった。
【0075】
比較例1
平均重合度が2500(平均分子量;18000)のジメチルシリコーン誘導体〔(CH3O)2(CH3)SiCH2CH2[Si(CH3)2O]2500Si(CH3)2CH2CH2Si(CH3)(OCH3)2〕を用いた以外は実施例1と同じ操作で膜厚20nmのゾルゲル膜を得た。
【0076】
結果、塗布液は白濁し、均質な膜は得られなかった。
【0077】
比較例2
平均重合度が3(平均分子量;562)のジメチルシリコーン誘導体〔(CH3O)2(CH3)SiCH2CH2[Si(CH3)2O]3Si(CH3)2CH2CH2Si(CH3)(OCH3)2〕を用いた以外は実施例1と同じ操作で膜厚20nmのゾルゲル膜を得た。
【0078】
結果、塗布液は白濁し、均質な膜は得られなかった。
【0079】
比較例3
平均重合度が70(平均分子量;5200)のジメチルシリコーン誘導体〔CH3O[Si(CH3)2O]70Si(CH3)2OCH3〕を用いた以外は実施例1と同じ操作で膜厚20nmのゾルゲル膜を得た。すなわち、本比較例では、各末端のアルコキシ基数が1であるジメチルシリコーン誘導体を用いた。
【0080】
結果、表面は図13に示すように平坦であった。
【0081】
比較例4
平均分子量が約3,000で固形分濃度が30wt%のメチルトリエトキシシラン溶液20gと、平均分子量が100,000で固形分濃度が6wt%のシリコンエトキシド溶液29gを混合し、重量比でメチルエチルケトン:イソプロピルアルコール:水=49.9:49.9:0.2の溶媒200gを添加し、約8時間攪拌後、約2週間熟成して塗布液を得た。次いで、湿度が60%の雰囲気の下で上記〔凸状又は凹状若しくは凹凸状の表面形状を有するゾルゲル膜の作製〕に記載した要領にて膜厚100nmのゾルゲル膜を得た。
【0082】
結果、表面は図14に示すように約0.1μm周期の凸状であったが、耐久性評価にて膜が剥離した。
【0083】
【発明の効果】
本発明のゾルゲル膜は、凸状又は凹状若しくは凹凸状の表面形状を有する高強度な膜をより低温で形成することができ、目的に応じて、任意に種々の大きさや間隔の凸状又は凹状若しくは凹凸状の表面形状を有する膜を基材上に形成できる。又、表面の滑り性由来で耐久性が向上する。さらに、該ゾルゲル膜上に撥水膜等の機能性膜を形成した場合にも該積層膜はゾルゲル膜の滑り性を保持し、滑り性由来の耐久性を発揮するので、特に自動車用窓ガラス、建築用窓ガラス等の産業用窓ガラスへの使用に奏効する。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例のシリカゾルXを調製手順。
【図2】実施例の塗布液の調製手順。
【図3】実施例1のゾルゲル膜のAFM観察による表面微細形状の図面代用写真。
【図4】実施例2のゾルゲル膜のAFM観察による表面微細形状の図面代用写真。
【図5】実施例3のゾルゲル膜のAFM観察による表面微細形状の図面代用写真。
【図6】実施例4のゾルゲル膜のAFM観察による表面微細形状の図面代用写真。
【図7】実施例5のゾルゲル膜のAFM観察による表面微細形状の図面代用写真。
【図8】実施例6のゾルゲル膜のAFM観察による表面微細形状の図面代用写真。
【図9】実施例7のゾルゲル膜のAFM観察による表面微細形状の図面代用写真。
【図10】実施例8のゾルゲル膜のAFM観察による表面微細形状の図面代用写真。
【図11】実施例9のゾルゲル膜のAFM観察による表面微細形状の図面代用写真。
【図12】実施例10のゾルゲル膜のAFM観察による表面微細形状の図面代用写真。
【図13】比較例3のゾルゲル膜のAFM観察による表面微細形状の図面代用写真。
【図14】比較例4のゾルゲル膜のAFM観察による表面微細形状の図面代用写真。
Claims (6)
- アルコキシシランを加水分解及び重縮合して得られたシリカゾルにアルコキシ基末端ジメチルシリコーン誘導体を混合して得られた塗布液を基材上に塗布し、溶媒を揮散させることで得られるシリカ及びジメチルシリコーンの組成物からなるゾルゲル膜であって、前記ゾルゲル膜が凸状又は凹状若しくは凹凸状の表面形状を有し、前記ジメチルシリコーンが一般式[1]で表される平均重合度が5以上2000以下のジメチルシリコーン誘導体であることを特徴とするゾルゲル膜。
- シリカとジメチルシリコーン誘導体との組成比が、重量比で1:0.0001〜1:10であることを特徴とする請求項1記載のゾルゲル膜。
- 塗布液が水を含有し、塗布液中の水量が0.1重量%以上10重量%以下であることを特徴とする請求項3に記載の塗布液。
- 請求項3又は4に記載の塗布液を基材に塗布し、溶媒を揮散させることで膜を形成することを特徴とするゾルゲル膜の製法。
- 塗布液を基材に塗布するときの湿度を調整することを特徴とする請求項5に記載のゾルゲル膜の製法。
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