JP4167306B2 - 新規高分子量ジベンゾイルレゾルシノールｕｖ吸収剤、コーティング組成物、製品並びに製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、紫外線吸収能をもつ新規ジベンゾイルレゾルシノール組成物並びに該組成物の製造方法に関する。具体的には、当該ジベンゾイルレゾルシノールは橋かけメチレン基でフェノールとカップリングしたジベンゾイルレゾルシノールである。より詳細には、本発明は熱可塑性樹脂の耐候性を改良するために使用される新規ジベンゾイルレゾルシノール組成物を含んだコーティング組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ポリカーボネートのような熱可塑性プラスチック基材は一般に透明性、高い延性、高い加熱撓み温度並びに寸法安定性を始めとする数多くの優れた性質をもつことを特徴とする。かかる材料の多くは透明で、商業用途におけるガラスの代替物として従来より使用されている。しかし、これらの材料は往々にして紫外線による劣化を受けやすい。その結果、黄変や基材表面のエロージョンを始めとする不都合な特性を呈する。
【０００３】
最近、ポリカーボネートのような熱可塑性プラスチック基材が屋外で使用されることが次第に一般化してきた。そこで、かかる基材に耐候性を賦与することが重要である。これは基材表面を耐候性コーティング材で処理して行われることが多く、コーティング材は紫外線吸収剤を含んでいるのが通例である。耐候性コーティング系は、ベンゾトリアゾール類やベンゾフェノン類のような紫外線吸収剤及びヒンダードアミン系光安定剤を配合することによって調製できる。
【０００４】
ただし、紫外線吸収性化合物（本明細書中ではＵＶ吸収剤ともいう）自体は紫外線に暴露されると分解することが往々にして見受けられる。日光、湿気及び熱サイクルに長時間暴露すると、コーティング材が黄変、層間剥離及び微小亀裂形成を起こして、透明度が減少することがある。このことは、ＵＶ吸収剤の使用で保護しようとした熱可塑性プラスチック基材の好適な性質の劣化につながる。そこで、有効な新規ＵＶ吸収性化合物の探求が依然として求められている。
【０００５】
最近、本願出願人による「紫外線の吸収に有用なコーティング」と題する係属中の米国特許出願第０８／６６９８９９号に記載の通り、４，６−ジベンゾイルレゾルシノール（ＤＢＲ）が、その卓越した光安定性から、コーティングにおける優れたＵＶ吸収剤であることが判明した。また、ダウ・ケミカル(Dow Chemical Company)に譲渡されたゴードン(Gordon)及びハドソン(Hudson)の米国特許第２７９４０５２号及び同第２９３３５５３号には、バルク添加剤としてのＤＢＲが記載されている。しかし、現在のＤＢＲ組成物の短所はそれらが比較的低分子量（約４００ダルトン以下の分子量）で、そのため熱可塑性プラスチック基材の加工処理又はコーティング硬化時の揮発性につながることである。これは加工処理装置の汚損をもたらすことがある。置換基の付加によりＤＢＲの分子量を増大する努力はＵＶ吸収剤の効果を稀釈する結果になりかねない。分子量の増大しているにもかかわらずＤＢＲ発色団の光安定性及び効果が保持もしくは高められた新規ＵＶ吸収性化合物に対するニーズが存在する。また、揮発性の低いＵＶ吸収剤に対するニーズも存在する。
【０００６】
【発明の概要】
かかるニーズは、紫外線吸収能をもつ新規ジベンゾイルレゾルシノール組成物並びに該組成物の製造方法を提供する本願各請求項に係る発明によって満足される。この新規ジベンゾイルレゾルシノール組成物は、橋かけメチレン基上にフェノール基を有する橋かけジベンゾイルレゾルシノール誘導体であり、熱可塑性プラスチック基材の耐候性を改良するためのコーティング組成物に相溶性である。本発明では、４，６−ジベンゾイルレゾルシノールを本発明に係る酢酸メチレン中間体に変換し、次に高分子量のＵＶ吸収剤を作るためこの中間体をフェノール類とカップリングさせる。該フェノールはＵＶ吸収性発色団となり得る。本明細書中において本発明に係る化合物に対して用いる「高分子量」という用語は４００ダルトンを超える分子量を意味する。
【０００７】
本発明は、第一の態様では、紫外線の吸収に有用な、橋かけメチレン基上にフェノール基を有する次式の新規メチレン橋かけジベンゾイルレゾルシノール誘導体に関する。
【０００８】
【化６】
【０００９】
式中、Ａｒ1 及びＡｒ2 は独立に置換又は非置換単環式又は多環式アリール基であり、Ｒは水素、アリール基又は炭素数１０未満の線状もしくは枝分れアルキル基であり、Ａｒ3 は少なくとも１個のヒドロキシル基を有するアリール基である。Ａｒ3 は、ヒドロキシル基、アルコキシ基、ベンゾイル基、置換ベンゾイル基、ベンゾトリアゾール基又はトリアジン基でさらに置換できる。
【００１０】
本発明の第二の態様では、上記の新規メチレン橋かけジベンゾイルレゾルシノール誘導体がコーティング組成物に配合される。コーティング組成物は、上記メチレン橋かけジベンゾイルレゾルシノール誘導体と実質的に透明なマトリックス組成物とを含んでなるコーティングとして定義される。一般に、マトリックス材料はアクリル類、ウレタン類、メラミン類又はそれらの混合物を含む。
【００１１】
本発明のまた別の態様では、上記コーティングが固体基材の表面に塗布され、紫外線耐性を有する被覆固体基材を生じる。かかる被覆固体基材は往々にして耐候性基材と呼ばれる。さらに、上記固体基材に塗布されるコーティングの厚さに関しては何ら制限はない。ただし、約０．５〜約５０μｍの厚さである場合が多く、好ましくは約３〜約１０μｍの厚さである。本発明において、使用し得る固体基材には、大抵、ポリ（メタクリル酸メチル）を始めとするアクリル系ポリマー類、ポリ（エチレンテレフタレート）やポリ（ブチレンテレフタレート）のようなポリエステル類、ポリアミド類、ポリイミド類、アクリロニトリル−スチレン共重合体、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリスチレンとポリフェニレンエーテルのブレンド、ブチレート、ポリエチレンなどのポリマー基材が含まれる。熱可塑性プラスチック基材は顔料を含んでいても含んでいなくてもよい。さらに、固体基材には金属基材、塗面、ガラス、セラミック及びテキスタイルも包含される。ただし、本発明のコーティング組成物は好ましくはポリカーボネートの被覆に使用される。
【００１２】
本発明のもう一つの態様は、上述の橋かけメチレン基上にフェノール基を有する新規メチレン橋かけジベンゾイルレゾルシノール誘導体の製造方法である。当該方法の一部には、新規中間体化合物である酢酸メチレンを合成する中間段階が含まれており、その酢酸メチレンを次にフェノールとカップリングすることで本発明に係る高分子量ＵＶ吸収剤が合成される。このメチレン橋かけジベンゾイルレゾルシノール誘導体の製造方法には、４，６−ジベンゾイルレゾルシノールとパラアルデヒドの混合物を第二アミン触媒及びカルボン酸溶媒と反応容器中８０℃以上の温度で反応させ、混合物を濾過し、濾液から酢酸メチレン固形物を分離する段階が含まれる。第二段階では、酸触媒を加えて或いは加えずに、上記酢酸メチレンをフェノールで処理して、酢酸エステルの置換反応と該フェノールの芳香族環へのカップリングを行う。
【００１３】
以下に開示する詳細な説明を本明細書中の実施例及び化学式と併せて参照することで本発明の理解をさらに深めることができるであろう。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明で用いられる上記の橋かけメチレン基上にフェノール基を有する新規メチレン橋かけジベンゾイルレゾルシノール誘導体の合成は、最初に次式の酢酸メチレン中間体を調製することによって達成される。
【００１５】
【化７】
【００１６】
式中、Ａｒ1 及びＡｒ2 は独立に置換又は非置換単環式又は多環式アリール基であり、Ｒ1 及びＲ2 は独立に水素、アリール基又は炭素数１０未満の線状もしくは枝分れアルキル基である。この中間体は、ジベンゾイルレゾルシノールから、特開昭５４−１９９５０号公報（ＣＡ ９１：２０１１６ｚ）に記載されたマンニッヒ反応の変法を利用して調製される。アミン触媒の投与量は、望ましくない量のジエチルアミン置換誘導体が得られるのを避けるため、（上記公開公報に教示された）４０モル％から５モル％程度に下げる必要がある。中間体の形成時に、式(ＩＩ)で示すような少量のメチレン橋かけ二量体が生じる。これは濾過で容易に除去される。単離された式(Ｉ)に示す中間体化合物は、酸触媒存在下で酢酸溶液中追加のジベンゾイルレゾルシノールと共に加熱することができる。これにより、スキームＩに示す通り、ほぼ定量的に所望のメチレン橋かけ誘導体が得られる。
【００１７】
【化８】
【００１８】
第二段階のための別の反応条件も今回発見された。酢酸エステル中間体(Ｉ)は、酸触媒を全く加えずに、フェノールと共に加熱することでカップリングを遂行することができる。加熱温度はトルエンやキシレンのような適切な溶媒中で約１００〜１５０℃である。この処理法をスキームＩＩに示す。
【００１９】
【化９】
【００２０】
これらの反応は、出発ジベンゾイルレゾルシノール（ＤＢＲ）のフェニル環に置換基が存在する場合にも適用される。Ａｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3 及びＡｒ4 は（上述の通り）独立に置換又は非置換の単環式又は多環式アリール基である。Ａｒ5 は少なくとも１個のヒドロキシル基を有するアリール基である。Ｒ1 は水素、アリール基又は炭素数１０未満の線状もしくは枝分れアルキル基である。
【００２１】
式(Ｉ)の酢酸メチレン中間体の合成反応（第一段階）は種々のカルボン酸溶媒中で実施することができ、例えば酢酸、プロピオン酸、ヘキサン酸などが例示されるが、これらに限定されるものではない。反応を実施するに当たり、任意の第二アミン触媒が有効量で使用し得る。また、第一段階の反応はパラホルムアルデヒドやパラアセトアルデヒドのようなパラアルデヒドの存在下で実施される。酢酸エステル中間体の合成反応（第一段階）を実施する際に適用される温度条件は約８０℃以上であり、反応が完結するのに十分な時間行われる。
【００２２】
単離した酢酸メチレン中間体のカップリング段階（第二段階）は、塩化メチレン、酢酸、トルエン及びキシレンなど（ただし、これらに限定されない）、多種多様な溶媒中で実施することができる。この段階は硫酸のような鉱酸の存在下で実施されるが、別法として、酢酸など、溶媒として用いた有機酸中でも完遂し得る。また、カップリングは酸触媒を加えなくても遂行できる。第二段階で橋かけメチレン基上にフェノール基を有する新規メチレン橋かけジベンゾイルレゾルシノール誘導体の合成に使用されるＤＢＲ誘導体が、第一段階で中間体化合物の合成に使用された出発ＤＢＲとは置換様式が異なる場合も本発明に属する。この場合、橋かけメチレン基上にフェノール基を有する新規メチレン橋かけジベンゾイルレゾルシノール誘導体として非対称なＤＢＲ誘導体が生じる。カップリング段階を実施する際に適用される温度条件は室温から還流温度までの範囲内であり、反応が完結するのに十分な時間行われる。
【００２３】
上述の反応が非触媒条件下でも任意のフェノールについて実施できることがさらに判明した。フェノールとみなすことができるのはジベンゾイルレゾルシノール（ＤＢＲ）だけでなく、２−ヒドロキシ−４−アルコキシベンゾフェノン類、２，２′−ジヒドロキシ−４−アルコキシベンゾフェノン類、２−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール類、並びに２−ヒドロキシ−４−アルコキシフェニルトリアジン類も挙げられる。これらのフェノール類はジベンゾイルレゾルシノールの分子量を増大させるだけでなく、付加的なＵＶ吸収性を賦与するとともに誘導体の溶解度を変化させる。
【００２４】
本発明に係る橋かけメチレン基上にフェノール基を有する新規メチレン橋かけジベンゾイルレゾルシノール誘導体の調製を以下の実施例でさらに説明する。実施例におけるすべての生成物の分子構造はプロトン及び炭素１３核磁気共鳴分析法並びに質量分析で確認した。
【００２５】
【実施例】
実施例１
２−（アセトキシメチル）−４，６−ジベンゾイルレゾルシノール（式Ｉ′で示す酢酸メチレン中間体）の調製
４，６−ジベンゾイルレゾルシノール（６３．６ｇ、２００ミリモル）、パラホルムアルデヒド（９ｇ、３００ミリモル）及びジエチルアミン（１．０ｍｌ、１０ミリモル）を約６５ｍｌの氷酢酸と混合した。この混合物を撹拌して約１００℃で約１６時間加熱した。この混合物を熱いうちに濾過して、若干の式ＩＩ′の二量体（４．３ｇ、収率６．７％）を取り除いた。４０ｍｌの酢酸を加えて濾液を稀釈し、冷却し、濾過して式Ｉ′に示す酢酸メチレンを得た（５２．０ｇ、収率６８％）。
【００２６】
【化１０】
【００２７】
実施例２
ビス（２，６−ジヒドロキシ−３，５−ジベンゾイルフェニル）メタンの調製
本明細書中では単に酢酸エステルと呼ぶ実施例１の中間体化合物（６０．４５ｇ、１５５ミリモル）及び４，６−ジベンゾイルレゾルシノール（４７．７ｇ、１５０ミリモル）及び濃硫酸（１ｇ、１０ミリモル）を１００ｍｌの酢酸と混合した。この混合物を撹拌して還流条件にて約４時間加熱し、冷却した。得られた固体を濾過し、酢酸で洗浄し、乾燥して式ＩＩ′に示す新規二量体化合物を得た（８１．８１ｇ、収率８４％）。
【００２８】
【化１１】
【００２９】
ただし、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝Ｈである。
実施例３
化合物ＩＩＩの調製
酢酸エステル中間体（０．６６ｇ、２ミリモル）及び４−ベンゾイル−６−（３′−メチルベンゾイル）レゾルシノール（０．７８ｇ、２ミリモル）及び濃硫酸３滴を７ｍｌの氷酢酸と混合した。この溶液を還流条件にて約５時間加熱し、室温で一晩放置した。水と２−プロパノールの添加によってオレンジ色の結晶が生じ、これを濾過して２−プロパノールで洗浄した。この生成物を熱エタノールでスラリー化し、冷却し、濾過して淡いオレンジ色の粉末を得た（１．１５ｇ、収率８７％）。
【００３０】
この生成物の式は次の通りであった。
【００３１】
【化１２】
【００３２】
ただし、Ｒ1＝ＣＨ3；Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝Ｈである。
実施例４
化合物ＩＶの調製
３．９０ｇ（１０ミリモル）の酢酸エステル中間体及び４．３０ｇ（１０ミリモル）の４，６−ジ−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、２５ｍｌの氷酢酸及び濃硫酸１０滴を用いて、化合物ＩＩＩについての手順を繰り返した。この反応で４．７４ｇ（収率６２％）の黄褐色の固体が得られた。この化合物ＩＶの式は次の通りである。
【００３３】
【化１３】
【００３４】
ただし、Ｒ1＝Ｈ；Ｒ2＝Ｒ3＝ｔ−ブチル；Ｒ4＝Ｈである。
実施例５
化合物Ｖの調製
酢酸エステル中間体（３．９ｇ、１０ミリモル）及び２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン（２．１４ｇ、１０ミリモル）をフラスコ内で５ｍｌのトルエンと混合し、この混合物を撹拌して還流条件にて約１２時間加熱した。冷却後の反応混合物にエタノールを添加して固体を生じせしめ、これをエタノールから２度再結晶して１．７２ｇ（収率３２％）の淡黄色粉末を得た。核磁気共鳴（ＮＭＲ）スペクトルから、この生成物が化合物Ｖと共に３位（構造ＶのＲ2 の位置）でカップリングした異性体約３３％を含んでいることが分かった。この化合物Ｖの式は次の通りである。
【００３５】
【化１４】
【００３６】
ただし、Ｒ1＝Ｈであり、Ｒ2＝Ｈである。
実施例６
化合物ＶＩの調製
酢酸エステル中間体（１．０ｇ、２．５６ミリモル）及び２，４−ジヒドロキシ−３−メチルベンゾフェノン（０．５９ｇ、２．５６ミリモル）をフラスコ内で７ｍｌのトルエンと混合した。この混合物を還流条件にて約１８時間加熱して沈殿を生じさせた。混合物を冷却し、濾過し、沈殿をトルエンで洗浄して０．８５ｇ（収率５９％）の淡黄色固体を得た。この化合物ＶＩの式は次の通りである。
【００３７】
【化１５】
【００３８】
ただし、Ｒ1＝Ｈであり、Ｒ2＝ＣＨ3である。
実施例７
化合物ＶＩＩの調製
酢酸エステル中間体（１．０ｇ、２．５６ミリモル）及び２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノン（０．８４ｇ、２．５６ミリモル）をフラスコ内で７ｍｌのキシレンと混合した。この混合物を還流条件にて約３０時間加熱した。混合物を冷却し、２−プロパノールの添加により沈殿した固体を濾過し、クロロホルム／エタノールから再結晶して０．２０ｇ（収率１２％）の淡黄色固体を得た。ベンゾフェノンの３位でも若干のカップリングが起こった。この化合物ＶＩＩの式は次の通りである。
【００３９】
【化１６】
【００４０】
ただし、Ｒ1＝Ｃ8Ｈ17であり、Ｒ2＝Ｈである。
実施例８
化合物ＶＩＩＩの調製
２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノンに代えて０．６２５ｇ（２．５６ミリモル）の２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンを用いたことを除いては、化合物ＶＩＩについての手順を繰り返した。沈殿、濾過及び２−プロパノールでの洗浄により、０．５０ｇ（収率３４％）の淡黄色固体が得られた。ＮＭＲスペクトルから、この固体がほぼ同じ比率の化合物ＶＩＩＩとベンゾフェノンの３位でカップリングした異性体からなることが分かった。この化合物ＶＩＩＩの式は次の通りである。
【００４１】
【化１７】
【００４２】
実施例９
化合物ＩＸの調製
３．９ｇ（１０ミリモル）の酢酸エステル中間体と３．２５ｇ（１０ミリモル）の２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾールを用いて化合物ＶＩＩについての手順を繰り返して、３．１１ｇ（収率４８％）の淡黄色固体を得た。この化合物ＩＸの式は次の通りである。
【００４３】
【化１８】
【００４４】
実施例１０
化合物Ｘの調製
酢酸エステル中間体（１．０ｇ、２．５６ミリモル）及び２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン（１．３ｇ、２．５６ミリモル）をフラスコ内で５ｍｌのトルエンと混合し、この混合物を還流条件にて約２４時間加熱した。混合物を冷却し、２−プロパノールとクロロホルムの添加により沈殿させ、濾過し、沈殿をエタノール／トルエンから２度再結晶して１．２３ｇ（収率５９％）の淡黄色固体を得た。ＮＭＲスペクトルは、構造（Ｘ）に加えて、２−ヒドロキシフェニルトリアジンの５位でカップリングした生成物が少量混在したものと一致した。この化合物Ｘの式は次の通りである。
【００４５】
【化１９】
【００４６】
ただし、Ａｒ＝２，４−ジメチルフェニルである。
実施例１１
化合物ＸＩの調製
酢酸エステル中間体（３．９ｇ、１０ミリモル）及びフェノール（２．８ｇ、３０ミリモル）をフラスコ内で５ｍｌのトルエンと混合し、還流条件にて約１２時間加熱した。反応混合物を冷却し、エタノールを添加して生成物を沈殿させ、これを濾過して、エタノール／トルエンから２度再結晶して２．７ｇ（収率６４％）の白色固体を得た。ＮＭＲスペクトルは、構造（ＸＩ）に加えて、フェノールの３位及び４位でカップリングした異性体が少量（〜１０％）混在したものと一致した。この化合物ＸＩの式は次の通りである。
【００４７】
【化２０】
【００４８】
実施例１２
化合物ＩＩ′〜ＸＩを含有するコーティングの耐候性
２−メトキシプロパノール８５部とジアセトンアルコール１５部からなる混液５００ｍｌにポリ（メタクリル酸メチル）２８．１５ｇを加えて溶液を調製した。この溶液２５ｇに、本発明の新規ＵＶ吸収性化合物のいずれかを０．０７０ｇ加えて、ロールミルで約１２時間混合し、必要に応じて濾過した。溶液を次に、安定化していない１５ミルのＬｅｘａｎフィルム（ゼネラル・エレクトリック社(General Electric Company)の登録商標）のストリップ上に流し塗りし、自然乾燥し、約１０５℃のオーブン内で約３０分間ベーキングした。このフィルムを、次いで、ホウケイ酸内膜及び外膜を備えたＡｔｌａｓ Ｃｉ３５ａキセノンアークウェザオメーター内に曝露した。該ウェザオメーターは、光照射１６０分、暗所５分及び暗所での水噴霧１５分のサイクルで３４０ｎｍにおいて放射照度０．７７Ｗ/ｍ2で操作した。このサイクルで、１時間の実施毎に３４０ｎｍで２．４６ｋＪ/ｍ2のエネルギーが加わる。表１は、３４３時間の耐候性試験後の黄色度指数（ＡＳＴＭ Ｄ−１９２５）の変化を示す。表１から、すべてのケースについてＵＶ吸収剤が未被覆対照試料に比べ黄色性能を改善したことが分かる。
【００４９】
【表１】
【００５０】
実施例１３
各化合物の揮発性
４，６−ジベンゾイルレゾルシノール、化合物ＩＩ′、並びに最先端の「二量体形」ベンゾトリアゾールであるＭｉｘｘｉｍ ＢＢ−１００（フェアマウント・ケミカル社(Fairmount Chemical Company)の製品）について、熱重量分析を行った。この分析はＴＡインスツルメント(TA Instrument) 社製のＴＧＡ２９５０において風量５５ｃｃ/ｍｉｎ の大気中、昇温速度１０℃/ｍｉｎ で実施した。化合物ＩＩ′は、表２に実証されている通り、Ｍｉｘｘｉｍ ＢＢ−１００及び４，６−ジベンゾイルレゾルシノール単量体よりも揮発性の点で優れていた。
【００５１】
【表２】
【発明の属する技術分野】
本発明は、紫外線吸収能をもつ新規ジベンゾイルレゾルシノール組成物並びに該組成物の製造方法に関する。具体的には、当該ジベンゾイルレゾルシノールは橋かけメチレン基でフェノールとカップリングしたジベンゾイルレゾルシノールである。より詳細には、本発明は熱可塑性樹脂の耐候性を改良するために使用される新規ジベンゾイルレゾルシノール組成物を含んだコーティング組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ポリカーボネートのような熱可塑性プラスチック基材は一般に透明性、高い延性、高い加熱撓み温度並びに寸法安定性を始めとする数多くの優れた性質をもつことを特徴とする。かかる材料の多くは透明で、商業用途におけるガラスの代替物として従来より使用されている。しかし、これらの材料は往々にして紫外線による劣化を受けやすい。その結果、黄変や基材表面のエロージョンを始めとする不都合な特性を呈する。
【０００３】
最近、ポリカーボネートのような熱可塑性プラスチック基材が屋外で使用されることが次第に一般化してきた。そこで、かかる基材に耐候性を賦与することが重要である。これは基材表面を耐候性コーティング材で処理して行われることが多く、コーティング材は紫外線吸収剤を含んでいるのが通例である。耐候性コーティング系は、ベンゾトリアゾール類やベンゾフェノン類のような紫外線吸収剤及びヒンダードアミン系光安定剤を配合することによって調製できる。
【０００４】
ただし、紫外線吸収性化合物（本明細書中ではＵＶ吸収剤ともいう）自体は紫外線に暴露されると分解することが往々にして見受けられる。日光、湿気及び熱サイクルに長時間暴露すると、コーティング材が黄変、層間剥離及び微小亀裂形成を起こして、透明度が減少することがある。このことは、ＵＶ吸収剤の使用で保護しようとした熱可塑性プラスチック基材の好適な性質の劣化につながる。そこで、有効な新規ＵＶ吸収性化合物の探求が依然として求められている。
【０００５】
最近、本願出願人による「紫外線の吸収に有用なコーティング」と題する係属中の米国特許出願第０８／６６９８９９号に記載の通り、４，６−ジベンゾイルレゾルシノール（ＤＢＲ）が、その卓越した光安定性から、コーティングにおける優れたＵＶ吸収剤であることが判明した。また、ダウ・ケミカル(Dow Chemical Company)に譲渡されたゴードン(Gordon)及びハドソン(Hudson)の米国特許第２７９４０５２号及び同第２９３３５５３号には、バルク添加剤としてのＤＢＲが記載されている。しかし、現在のＤＢＲ組成物の短所はそれらが比較的低分子量（約４００ダルトン以下の分子量）で、そのため熱可塑性プラスチック基材の加工処理又はコーティング硬化時の揮発性につながることである。これは加工処理装置の汚損をもたらすことがある。置換基の付加によりＤＢＲの分子量を増大する努力はＵＶ吸収剤の効果を稀釈する結果になりかねない。分子量の増大しているにもかかわらずＤＢＲ発色団の光安定性及び効果が保持もしくは高められた新規ＵＶ吸収性化合物に対するニーズが存在する。また、揮発性の低いＵＶ吸収剤に対するニーズも存在する。
【０００６】
【発明の概要】
かかるニーズは、紫外線吸収能をもつ新規ジベンゾイルレゾルシノール組成物並びに該組成物の製造方法を提供する本願各請求項に係る発明によって満足される。この新規ジベンゾイルレゾルシノール組成物は、橋かけメチレン基上にフェノール基を有する橋かけジベンゾイルレゾルシノール誘導体であり、熱可塑性プラスチック基材の耐候性を改良するためのコーティング組成物に相溶性である。本発明では、４，６−ジベンゾイルレゾルシノールを本発明に係る酢酸メチレン中間体に変換し、次に高分子量のＵＶ吸収剤を作るためこの中間体をフェノール類とカップリングさせる。該フェノールはＵＶ吸収性発色団となり得る。本明細書中において本発明に係る化合物に対して用いる「高分子量」という用語は４００ダルトンを超える分子量を意味する。
【０００７】
本発明は、第一の態様では、紫外線の吸収に有用な、橋かけメチレン基上にフェノール基を有する次式の新規メチレン橋かけジベンゾイルレゾルシノール誘導体に関する。
【０００８】
【化６】
式中、Ａｒ1 及びＡｒ2 は独立に置換又は非置換単環式又は多環式アリール基であり、Ｒは水素、アリール基又は炭素数１０未満の線状もしくは枝分れアルキル基であり、Ａｒ3 は少なくとも１個のヒドロキシル基を有するアリール基である。Ａｒ3 は、ヒドロキシル基、アルコキシ基、ベンゾイル基、置換ベンゾイル基、ベンゾトリアゾール基又はトリアジン基でさらに置換できる。
【００１０】
本発明の第二の態様では、上記の新規メチレン橋かけジベンゾイルレゾルシノール誘導体がコーティング組成物に配合される。コーティング組成物は、上記メチレン橋かけジベンゾイルレゾルシノール誘導体と実質的に透明なマトリックス組成物とを含んでなるコーティングとして定義される。一般に、マトリックス材料はアクリル類、ウレタン類、メラミン類又はそれらの混合物を含む。
【００１１】
本発明のまた別の態様では、上記コーティングが固体基材の表面に塗布され、紫外線耐性を有する被覆固体基材を生じる。かかる被覆固体基材は往々にして耐候性基材と呼ばれる。さらに、上記固体基材に塗布されるコーティングの厚さに関しては何ら制限はない。ただし、約０．５〜約５０μｍの厚さである場合が多く、好ましくは約３〜約１０μｍの厚さである。本発明において、使用し得る固体基材には、大抵、ポリ（メタクリル酸メチル）を始めとするアクリル系ポリマー類、ポリ（エチレンテレフタレート）やポリ（ブチレンテレフタレート）のようなポリエステル類、ポリアミド類、ポリイミド類、アクリロニトリル−スチレン共重合体、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリスチレンとポリフェニレンエーテルのブレンド、ブチレート、ポリエチレンなどのポリマー基材が含まれる。熱可塑性プラスチック基材は顔料を含んでいても含んでいなくてもよい。さらに、固体基材には金属基材、塗面、ガラス、セラミック及びテキスタイルも包含される。ただし、本発明のコーティング組成物は好ましくはポリカーボネートの被覆に使用される。
【００１２】
本発明のもう一つの態様は、上述の橋かけメチレン基上にフェノール基を有する新規メチレン橋かけジベンゾイルレゾルシノール誘導体の製造方法である。当該方法の一部には、新規中間体化合物である酢酸メチレンを合成する中間段階が含まれており、その酢酸メチレンを次にフェノールとカップリングすることで本発明に係る高分子量ＵＶ吸収剤が合成される。このメチレン橋かけジベンゾイルレゾルシノール誘導体の製造方法には、４，６−ジベンゾイルレゾルシノールとパラアルデヒドの混合物を第二アミン触媒及びカルボン酸溶媒と反応容器中８０℃以上の温度で反応させ、混合物を濾過し、濾液から酢酸メチレン固形物を分離する段階が含まれる。第二段階では、酸触媒を加えて或いは加えずに、上記酢酸メチレンをフェノールで処理して、酢酸エステルの置換反応と該フェノールの芳香族環へのカップリングを行う。
【００１３】
以下に開示する詳細な説明を本明細書中の実施例及び化学式と併せて参照することで本発明の理解をさらに深めることができるであろう。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明で用いられる上記の橋かけメチレン基上にフェノール基を有する新規メチレン橋かけジベンゾイルレゾルシノール誘導体の合成は、最初に次式の酢酸メチレン中間体を調製することによって達成される。
【００１５】
【化７】
式中、Ａｒ1 及びＡｒ2 は独立に置換又は非置換単環式又は多環式アリール基であり、Ｒ1 及びＲ2 は独立に水素、アリール基又は炭素数１０未満の線状もしくは枝分れアルキル基である。この中間体は、ジベンゾイルレゾルシノールから、特開昭５４−１９９５０号公報（ＣＡ ９１：２０１１６ｚ）に記載されたマンニッヒ反応の変法を利用して調製される。アミン触媒の投与量は、望ましくない量のジエチルアミン置換誘導体が得られるのを避けるため、（上記公開公報に教示された）４０モル％から５モル％程度に下げる必要がある。中間体の形成時に、式(ＩＩ)で示すような少量のメチレン橋かけ二量体が生じる。これは濾過で容易に除去される。単離された式(Ｉ)に示す中間体化合物は、酸触媒存在下で酢酸溶液中追加のジベンゾイルレゾルシノールと共に加熱することができる。これにより、スキームＩに示す通り、ほぼ定量的に所望のメチレン橋かけ誘導体が得られる。
【００１７】
【化８】
第二段階のための別の反応条件も今回発見された。酢酸エステル中間体(Ｉ)は、酸触媒を全く加えずに、フェノールと共に加熱することでカップリングを遂行することができる。加熱温度はトルエンやキシレンのような適切な溶媒中で約１００〜１５０℃である。この処理法をスキームＩＩに示す。
【００１９】
【化９】
これらの反応は、出発ジベンゾイルレゾルシノール（ＤＢＲ）のフェニル環に置換基が存在する場合にも適用される。Ａｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3 及びＡｒ4 は（上述の通り）独立に置換又は非置換の単環式又は多環式アリール基である。Ａｒ5 は少なくとも１個のヒドロキシル基を有するアリール基である。Ｒ1 は水素、アリール基又は炭素数１０未満の線状もしくは枝分れアルキル基である。
【００２１】
式(Ｉ)の酢酸メチレン中間体の合成反応（第一段階）は種々のカルボン酸溶媒中で実施することができ、例えば酢酸、プロピオン酸、ヘキサン酸などが例示されるが、これらに限定されるものではない。反応を実施するに当たり、任意の第二アミン触媒が有効量で使用し得る。また、第一段階の反応はパラホルムアルデヒドやパラアセトアルデヒドのようなパラアルデヒドの存在下で実施される。酢酸エステル中間体の合成反応（第一段階）を実施する際に適用される温度条件は約８０℃以上であり、反応が完結するのに十分な時間行われる。
【００２２】
単離した酢酸メチレン中間体のカップリング段階（第二段階）は、塩化メチレン、酢酸、トルエン及びキシレンなど（ただし、これらに限定されない）、多種多様な溶媒中で実施することができる。この段階は硫酸のような鉱酸の存在下で実施されるが、別法として、酢酸など、溶媒として用いた有機酸中でも完遂し得る。また、カップリングは酸触媒を加えなくても遂行できる。第二段階で橋かけメチレン基上にフェノール基を有する新規メチレン橋かけジベンゾイルレゾルシノール誘導体の合成に使用されるＤＢＲ誘導体が、第一段階で中間体化合物の合成に使用された出発ＤＢＲとは置換様式が異なる場合も本発明に属する。この場合、橋かけメチレン基上にフェノール基を有する新規メチレン橋かけジベンゾイルレゾルシノール誘導体として非対称なＤＢＲ誘導体が生じる。カップリング段階を実施する際に適用される温度条件は室温から還流温度までの範囲内であり、反応が完結するのに十分な時間行われる。
【００２３】
上述の反応が非触媒条件下でも任意のフェノールについて実施できることがさらに判明した。フェノールとみなすことができるのはジベンゾイルレゾルシノール（ＤＢＲ）だけでなく、２−ヒドロキシ−４−アルコキシベンゾフェノン類、２，２′−ジヒドロキシ−４−アルコキシベンゾフェノン類、２−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール類、並びに２−ヒドロキシ−４−アルコキシフェニルトリアジン類も挙げられる。これらのフェノール類はジベンゾイルレゾルシノールの分子量を増大させるだけでなく、付加的なＵＶ吸収性を賦与するとともに誘導体の溶解度を変化させる。
【００２４】
本発明に係る橋かけメチレン基上にフェノール基を有する新規メチレン橋かけジベンゾイルレゾルシノール誘導体の調製を以下の実施例でさらに説明する。実施例におけるすべての生成物の分子構造はプロトン及び炭素１３核磁気共鳴分析法並びに質量分析で確認した。
【００２５】
【実施例】
実施例１
２−（アセトキシメチル）−４，６−ジベンゾイルレゾルシノール（式Ｉ′で示す酢酸メチレン中間体）の調製
４，６−ジベンゾイルレゾルシノール（６３．６ｇ、２００ミリモル）、パラホルムアルデヒド（９ｇ、３００ミリモル）及びジエチルアミン（１．０ｍｌ、１０ミリモル）を約６５ｍｌの氷酢酸と混合した。この混合物を撹拌して約１００℃で約１６時間加熱した。この混合物を熱いうちに濾過して、若干の式ＩＩ′の二量体（４．３ｇ、収率６．７％）を取り除いた。４０ｍｌの酢酸を加えて濾液を稀釈し、冷却し、濾過して式Ｉ′に示す酢酸メチレンを得た（５２．０ｇ、収率６８％）。
【００２６】
【化１０】
実施例２
ビス（２，６−ジヒドロキシ−３，５−ジベンゾイルフェニル）メタンの調製
本明細書中では単に酢酸エステルと呼ぶ実施例１の中間体化合物（６０．４５ｇ、１５５ミリモル）及び４，６−ジベンゾイルレゾルシノール（４７．７ｇ、１５０ミリモル）及び濃硫酸（１ｇ、１０ミリモル）を１００ｍｌの酢酸と混合した。この混合物を撹拌して還流条件にて約４時間加熱し、冷却した。得られた固体を濾過し、酢酸で洗浄し、乾燥して式ＩＩ′に示す新規二量体化合物を得た（８１．８１ｇ、収率８４％）。
【００２８】
【化１１】
ただし、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝Ｈである。
実施例３
化合物ＩＩＩの調製
酢酸エステル中間体（０．６６ｇ、２ミリモル）及び４−ベンゾイル−６−（３′−メチルベンゾイル）レゾルシノール（０．７８ｇ、２ミリモル）及び濃硫酸３滴を７ｍｌの氷酢酸と混合した。この溶液を還流条件にて約５時間加熱し、室温で一晩放置した。水と２−プロパノールの添加によってオレンジ色の結晶が生じ、これを濾過して２−プロパノールで洗浄した。この生成物を熱エタノールでスラリー化し、冷却し、濾過して淡いオレンジ色の粉末を得た（１．１５ｇ、収率８７％）。
【００３０】
この生成物の式は次の通りであった。
【００３１】
【化１２】
ただし、Ｒ1＝ＣＨ3；Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ4＝Ｈである。
実施例４
化合物ＩＶの調製
３．９０ｇ（１０ミリモル）の酢酸エステル中間体及び４．３０ｇ（１０ミリモル）の４，６−ジ−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、２５ｍｌの氷酢酸及び濃硫酸１０滴を用いて、化合物ＩＩＩについての手順を繰り返した。この反応で４．７４ｇ（収率６２％）の黄褐色の固体が得られた。この化合物ＩＶの式は次の通りである。
【００３３】
【化１３】
ただし、Ｒ1＝Ｈ；Ｒ2＝Ｒ3＝ｔ−ブチル；Ｒ4＝Ｈである。
実施例５
化合物Ｖの調製
酢酸エステル中間体（３．９ｇ、１０ミリモル）及び２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン（２．１４ｇ、１０ミリモル）をフラスコ内で５ｍｌのトルエンと混合し、この混合物を撹拌して還流条件にて約１２時間加熱した。冷却後の反応混合物にエタノールを添加して固体を生じせしめ、これをエタノールから２度再結晶して１．７２ｇ（収率３２％）の淡黄色粉末を得た。核磁気共鳴（ＮＭＲ）スペクトルから、この生成物が化合物Ｖと共に３位（構造ＶのＲ2 の位置）でカップリングした異性体約３３％を含んでいることが分かった。この化合物Ｖの式は次の通りである。
【００３５】
【化１４】
ただし、Ｒ1＝Ｈであり、Ｒ2＝Ｈである。
実施例６
化合物ＶＩの調製
酢酸エステル中間体（１．０ｇ、２．５６ミリモル）及び２，４−ジヒドロキシ−３−メチルベンゾフェノン（０．５９ｇ、２．５６ミリモル）をフラスコ内で７ｍｌのトルエンと混合した。この混合物を還流条件にて約１８時間加熱して沈殿を生じさせた。混合物を冷却し、濾過し、沈殿をトルエンで洗浄して０．８５ｇ（収率５９％）の淡黄色固体を得た。この化合物ＶＩの式は次の通りである。
【００３７】
【化１５】
ただし、Ｒ1＝Ｈであり、Ｒ2＝ＣＨ3である。
実施例７
化合物ＶＩＩの調製
酢酸エステル中間体（１．０ｇ、２．５６ミリモル）及び２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノン（０．８４ｇ、２．５６ミリモル）をフラスコ内で７ｍｌのキシレンと混合した。この混合物を還流条件にて約３０時間加熱した。混合物を冷却し、２−プロパノールの添加により沈殿した固体を濾過し、クロロホルム／エタノールから再結晶して０．２０ｇ（収率１２％）の淡黄色固体を得た。ベンゾフェノンの３位でも若干のカップリングが起こった。この化合物ＶＩＩの式は次の通りである。
【００３９】
【化１６】
ただし、Ｒ1＝Ｃ8Ｈ17であり、Ｒ2＝Ｈである。
実施例８
化合物ＶＩＩＩの調製
２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノンに代えて０．６２５ｇ（２．５６ミリモル）の２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンを用いたことを除いては、化合物ＶＩＩについての手順を繰り返した。沈殿、濾過及び２−プロパノールでの洗浄により、０．５０ｇ（収率３４％）の淡黄色固体が得られた。ＮＭＲスペクトルから、この固体がほぼ同じ比率の化合物ＶＩＩＩとベンゾフェノンの３位でカップリングした異性体からなることが分かった。この化合物ＶＩＩＩの式は次の通りである。
【００４１】
【化１７】
実施例９
化合物ＩＸの調製
３．９ｇ（１０ミリモル）の酢酸エステル中間体と３．２５ｇ（１０ミリモル）の２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾールを用いて化合物ＶＩＩについての手順を繰り返して、３．１１ｇ（収率４８％）の淡黄色固体を得た。この化合物ＩＸの式は次の通りである。
【００４３】
【化１８】
実施例１０
化合物Ｘの調製
酢酸エステル中間体（１．０ｇ、２．５６ミリモル）及び２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン（１．３ｇ、２．５６ミリモル）をフラスコ内で５ｍｌのトルエンと混合し、この混合物を還流条件にて約２４時間加熱した。混合物を冷却し、２−プロパノールとクロロホルムの添加により沈殿させ、濾過し、沈殿をエタノール／トルエンから２度再結晶して１．２３ｇ（収率５９％）の淡黄色固体を得た。ＮＭＲスペクトルは、構造（Ｘ）に加えて、２−ヒドロキシフェニルトリアジンの５位でカップリングした生成物が少量混在したものと一致した。この化合物Ｘの式は次の通りである。
【００４５】
【化１９】
ただし、Ａｒ＝２，４−ジメチルフェニルである。
実施例１１
化合物ＸＩの調製
酢酸エステル中間体（３．９ｇ、１０ミリモル）及びフェノール（２．８ｇ、３０ミリモル）をフラスコ内で５ｍｌのトルエンと混合し、還流条件にて約１２時間加熱した。反応混合物を冷却し、エタノールを添加して生成物を沈殿させ、これを濾過して、エタノール／トルエンから２度再結晶して２．７ｇ（収率６４％）の白色固体を得た。ＮＭＲスペクトルは、構造（ＸＩ）に加えて、フェノールの３位及び４位でカップリングした異性体が少量（〜１０％）混在したものと一致した。この化合物ＸＩの式は次の通りである。
【００４７】
【化２０】
実施例１２
化合物ＩＩ′〜ＸＩを含有するコーティングの耐候性
２−メトキシプロパノール８５部とジアセトンアルコール１５部からなる混液５００ｍｌにポリ（メタクリル酸メチル）２８．１５ｇを加えて溶液を調製した。この溶液２５ｇに、本発明の新規ＵＶ吸収性化合物のいずれかを０．０７０ｇ加えて、ロールミルで約１２時間混合し、必要に応じて濾過した。溶液を次に、安定化していない１５ミルのＬｅｘａｎフィルム（ゼネラル・エレクトリック社(General Electric Company)の登録商標）のストリップ上に流し塗りし、自然乾燥し、約１０５℃のオーブン内で約３０分間ベーキングした。このフィルムを、次いで、ホウケイ酸内膜及び外膜を備えたＡｔｌａｓ Ｃｉ３５ａキセノンアークウェザオメーター内に曝露した。該ウェザオメーターは、光照射１６０分、暗所５分及び暗所での水噴霧１５分のサイクルで３４０ｎｍにおいて放射照度０．７７Ｗ/ｍ2で操作した。このサイクルで、１時間の実施毎に３４０ｎｍで２．４６ｋＪ/ｍ2のエネルギーが加わる。表１は、３４３時間の耐候性試験後の黄色度指数（ＡＳＴＭ Ｄ−１９２５）の変化を示す。表１から、すべてのケースについてＵＶ吸収剤が未被覆対照試料に比べ黄色性能を改善したことが分かる。
【００４９】
【表１】
実施例１３
各化合物の揮発性
４，６−ジベンゾイルレゾルシノール、化合物ＩＩ′、並びに最先端の「二量体形」ベンゾトリアゾールであるＭｉｘｘｉｍ ＢＢ−１００（フェアマウント・ケミカル社(Fairmount Chemical Company)の製品）について、熱重量分析を行った。この分析はＴＡインスツルメント(TA Instrument) 社製のＴＧＡ２９５０において風量５５ｃｃ/ｍｉｎ の大気中、昇温速度１０℃/ｍｉｎ で実施した。化合物ＩＩ′は、表２に実証されている通り、Ｍｉｘｘｉｍ ＢＢ−１００及び４，６−ジベンゾイルレゾルシノール単量体よりも揮発性の点で優れていた。
【００５１】
【表２】
Claims (8)
- 次式の化合物。
- 次式の化合物。
- 当該化合物が次式を有する、請求項２記載の化合物。
- 当該化合物が次式を有する、請求項２記載の化合物。
- 次式の化合物。
- 下記段階：４，６−ジベンゾイルレゾルシノールとパラアルデヒドの混合物を第二アミン触媒及びカルボン酸溶媒と反応容器中８０℃以上の温度で反応させ、混合物を濾過する段階、濾液から酢酸メチレン固形物中間体を分離する段階、及び酸触媒及びカルボン酸溶媒の存在下で酢酸メチレン固形物に追加量の４，６−ジベンゾイルレゾルシノール又は４，６−ジベンゾイルレゾルシノール誘導体を添加し、同時にメチレン橋かけジベンゾイルレゾルシノール誘導体が形成するのに十分な時間をかけて室温から還流温度までの範囲内の温度で撹拌する段階を含んでなる、請求項５記載の化合物の製造方法。
- 前記第二アミン触媒が５モル％の量で存在する、請求項６記載の製造方法。
- 下記成分：紫外線を吸収するのに有用な次式の化合物
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