JP4150315B2 - レーザプローブ計測装置 - Google Patents
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Description
12 レーザダイオード
14 偏光ビームスプリッタ
16 1/4波長板
18 第一のビームスプリッタ
20 第二のビームスプリッタ
22 対物レンズ
24,48 フォトダイオード
25 共焦点ユニット
30 被測定物
30a 被測定物表面
32 撮像装置
35 撮像ユニット
40 第三のビームスプリッタ
42 第一のミラー
44 ステージ
46 第二のミラー
50 位置検出ユニット
52 ステージ変位装置
Claims (3)
- レーザ光源と、このレーザ光源からの光を分岐する第一のビームスプリッタと、この第一のビームスプリッタから分岐した一方のレーザ光を透過させる第二のビームスプリッタと、所定位置で焦点を結ぶように上記第二のビームスプリッタからのレーザ光を所定位置に集光させる対物レンズと、この対物レンズと対向し被測定物が載置されるステージと、上記被測定物表面からの反射光を上記第二のビームスプリッタを介して検知する対物用光センサと、上記第一のビームスプリッタで分岐した他方のレーザ光を分岐させる第三のビームスプリッタと、この第三のビームスプリッタからの一方の光を反射し上記第三のビームスプリッタとの相対的な位置が固定された第一のミラーと、上記第三のビームスプリッタからの他方のレーザ光を反射し上記被測定物が載置されたステージとの相対的な位置が固定された第二のミラーと、上記第一、第二のミラーからの反射光を上記第三のビームスプリッタを介して干渉させて受光する干渉光用光センサと、上記ステージと上記対物レンズを含む光学系との位置を光軸方向に相対的に移動させる変位装置とを備えたことを特徴とするレーザプローブ計測装置。
- 直線偏光したレーザ光源と、このレーザ光源からの光を円偏光する1/4波長板と、この1/4波長板を透過した円偏光レーザ光を透過及び反射して分岐する第一のビームスプリッタと、この第一のビームスプリッタから分岐した一方のレーザ光を透過させる第二のビームスプリッタと、所定位置で焦点を結ぶように上記第二のビームスプリッタからのレーザ光を集光させる対物レンズと、この対物レンズと対向し被測定物が載置されるステージと、上記被測定物表面からの反射光を上記第二のビームスプリッタで反射させて検知する対物用光センサと、上記被測定物表面からの反射光を上記第一のビームスプリッタを透過させて撮像する撮像装置と、上記第一のビームスプリッタを透過した他方のレーザ光を透過及び反射して分岐させる第三のビームスプリッタと、この第三のビームスプリッタを透過した一方の光を反射するとともに上記第三のビームスプリッタとの相対的な位置が固定された第一のミラーと、上記第三のビームスプリッタにより反射した他方のレーザ光を反射するとともに上記被測定物が載置されたステージとの相対的な位置が固定された第二のミラーと、上記第一、第二のミラーからの反射光を上記第三のビームスプリッタにより反射または透過させ同じ光軸上で干渉させて受光する干渉光用光センサと、上記ステージと上記対物レンズを含む光学系との位置を光軸方向に相対的に移動させる変位装置とを備えたことを特徴とするレーザプローブ計測装置。
- 上記レーザ光源と1/4波長板との間には、上記レーザ光源からの直線偏光した光を透過するとともに、上記被測定物表面で反射した光が上記第二、第一のビームスプリッタを経由して上記1/4波長板により偏光面が90°回転した直線偏光を反射する偏光ビームスプリッタを備えることを特徴とする請求項2記載のレーザプローブ計測装置。
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CN113607063B (zh) * | 2021-08-03 | 2024-06-21 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 基于涡旋光场干涉的纳米位移测量方法及系统 |
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2003
- 2003-09-11 JP JP2003319790A patent/JP4150315B2/ja not_active Expired - Fee Related
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