JP4137815B2 - 電力増幅装置及び携帯通信端末装置 - Google Patents

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Description

本発明は、例えば携帯電話機,PHS電話機(Personal Handyphone System),通信機能を備えたPDA装置(Personal Digital Assistant),通信機能を備えたノート型のパーソナルコンピュータ装置等の端末装置に適用して好適な電力増幅装置及び携帯通信端末装置に関する。
今日における我が国の携帯電話の加入者数は、人口の70%を超えており、そのうち、CDMA技術(CDMA:Code Division Multiple Access)を用いた移動体通信端末装置の所有者数は、約40%に相当している。今後の端末需要が、PDC端末装置(PDC:Personal Digital Cellular)等からW−CDMA方式(W-CDMA:Wideband-CDMA)の移動体通信端末装置に置き換わると、移動体通信端末装置の需要は更に増加すると考えられる。
このPDC方式やCDMA方式等の移動体無線通信システムにおいては、移動端末と基地局との間で無線回線を確立することで通信を行うようになっているのであるが、基地局との通信距離が変化したり、或いは伝送路上でフェージングの影響を受けたりするため、信号レベルが時々刻々と変化する。 このため、送信系においては、電力増幅器により、送信信号を所望の信号レベルに調整したうえで、基地局に送信するようになっている。
従来、送信系の電力増幅器の電源にDC−DCコンバータを用いて上記動作効率を改善する工夫がなされているが、DC−DCコンバータは雑音を発生し、また、大容量のコイルが必要となる等、技術的課題も多い。
このため、特許文献1(特開平9−130275号公報)において、それぞれ異なる利得を有する信号増幅手段がそれぞれ設けられた複数の信号路のうち、所望の信号レベルに対応する利得の信号増幅手段が設けられた信号路を選択し、この選択した信号路の信号増幅手段の利得で送信信号を増幅して出力すると共に、選択されていない信号路中の信号増幅手段の動作を停止制御することで、不要な電力消費を抑制して、電力増幅装置の動作効率の改善を図った送信信号の利得調整方法が開示されている。
特開平9−130275号公報(第12頁〜第13頁:図3)
しかし、近年の携帯電話機には、GPSセンサ(GPS:Global Positioning System)による現在位置測定機能、テレビジョン信号の受信機能、赤外線通信機能、カメラ装置を用いたテレビ電話機能等のアプリケーションと呼ばれる機能が多数付加されているため、基地局との間で高速通信を行う機会も多くなり、また、この高速通信を行う時間も長くなっている。このため、上述した平均送信電力が10mWより更に増加する傾向にあり、電力増幅装置の動作効率をさらに向上させることが必要となってきている。
また、特許文献1に開示されている技術の場合、並列的に設けられた複数の信号増幅手段を切り替えて用いる構成であるため、回路規模が大きくなり、実際に実現する場合には、マルチチップとなるおそれがある。近年における移動体通信端末装置には、さらなる小型化が求められており、この要望に応えるためにも、電力増幅装置の1チップに集積化することが必要である。
本発明は上述の課題に鑑みてなされたものであり、動作効率を飛躍的に向上させることができ、また、1チップに集積化することができるような電力増幅装置及び携帯通信端末装置の提供を目的とする。
本発明に係る電力増幅装置は、上述の課題を解決するために、
増幅用の第1のソース接地FET(電界効果トランジスタ)のゲート端子と入力端子との間に第1の整合回路を設け、
上記第1のソース接地FETのドレイン端子に、直流電圧切断用のコンデンサを介してスイッチ用の第1のFETのソース端子を接続し、
上記スイッチ用の第1のFETのドレイン端子に、直流電圧切断用のコンデンサを介して第2の整合回路を接続し、
上記第2の整合回路のもう一方の端子を、増幅用の第2のソース接地FETのゲートに接続し、
上記増幅用の第2のソース接地FETのドレイン端子に第3の整合回路を接続し、
上記第3の整合回路のもう一方の端子を第1の出力端子と接続し、
上記増幅用の第1のソース接地FETのドレイン端子に、直流電圧切断用のコンデンサを介して上記スイッチ用の第1のFETと並列的に、スイッチ用の第2のFETのソース端子を接続し、
上記スイッチ用の第2のFETのドレイン端子に、直流電圧切断用のコンデンサを介して第4の整合回路を接続し、
上記第4の整合回路のもう一方の端子を第2の出力端子と接続し、
上記スイッチ用の第1のFETのゲート端子を第1の制御端子に接続し、
上記スイッチ用の第2のFETのゲート端子を第2の制御端子に接続し、
ソース端子と接地との間に第3の分圧抵抗を接続した電力調整用の第1のFETのドレイン端子を、第1の分圧抵抗を介して電源に接続し、
ソース端子と接地との間に第4分圧抵抗を接続した電力調整用の第2のFETのドレイン端子を、第2の分圧抵抗を介して上記電源に接続し、
上記第1の分圧抵抗、上記第2の分圧抵抗、及び上記第3の分圧抵抗で上記電源の電圧を分圧した際の電圧値よりも、上記第1の分圧抵抗、上記第2の分圧抵抗、及び上記第4の分圧抵抗で上記電源の電圧を分圧した際の電圧値の方が高い電圧値となるように、該各分圧抵抗の抵抗値を設定し、
上記電力調整用の第1及び第2のFETの各ドレイン端子同士を接続した接続点を、上記増幅用の第1のソース接地FETのゲート端子と上記第1の整合回路との間に接続し、
上記電力調整用の第1のFETのゲート端子、及び上記スイッチ用の第1のFETのゲート端子を、それぞれ上記第1の制御端子に接続し、
上記電力調整用の第2のFETのゲート端子、及び上記スイッチ用の第2のFETのゲート端子を、それぞれ上記第2の制御端子に接続する。
このような本発明に係る電力増幅装置は、大電力の送信出力を得る場合、スイッチ用の第1のFETをオン動作させ、スイッチ用の第2のFETをオフ動作させる。これにより、入力端子を介して供給された送信信号が、増幅用の第1のソース接地FETにより増幅されると共に、スイッチ用の第1のFETを介して増幅用の第2のソース接地FETに供給され、この増幅用の第2のソース接地FETにより、さらに増幅されることで大電力の送信出力とされ、第1の出力端子から出力される。
これに対して、中電力の送信出力を得る場合、スイッチ用の第1のFETをオフ動作させ、スイッチ用の第2のFETをオン動作させる。これにより、入力端子を介して供給された送信信号が、増幅用の第1のソース接地FETにより増幅されることで中電力の送信出力とされ、スイッチ用の第2のFETを介して第2の出力端子から出力される。
このように、増幅用の第1のソース接地FET、及び増幅用の第2のソース接地FETで多段的に増幅された送信出力を出力するライン(=上記大電力の送信出力を得るライン)と、増幅用の第1のソース接地FETのみで増幅された送信出力を出力するライン(=上記中電力の送信出力を得るライン)を設け、各ラインに挿入接続されたスイッチ用の第1のFET、及びスイッチ用の第2のFETを選択的にオンオフ制御することで、中電力の出力時には、増幅用の第2のソース接地FETを停止状態に制御して電力消費を抑制することができる。このため、中電力の出力時に、効率的に当該電力増幅装置を動作させることができる。
また、当該電力増幅装置は、大電力の送信出力を得る場合、電力調整用の第1のFETをオン動作させ、電力調整用の第2のFETをオフ動作させる。この場合、増幅用の第1のソース接地FETのゲート端子には、第1の分圧抵抗、第2の分圧抵抗、及び第3の分圧抵抗で分圧された電圧値の、電源の電圧が供給される。これに対して、中電力の送信出力を得る場合、電力調整用の第1のFETをオフ動作させ、電力調整用の第2のFETをオン動作させる。この場合、増幅用の第1のソース接地FETのゲート端子には、第1の分圧抵抗、第2の分圧抵抗、及び第4の分圧抵抗で分圧された電圧値の、電源の電圧が供給される。
各分圧抵抗の抵抗値は、第1の分圧抵抗、第2の分圧抵抗、及び第3の分圧抵抗で電源の電圧を分圧した際の電圧値よりも、第1の分圧抵抗、第2の分圧抵抗、及び第4の分圧抵抗で電源の電圧を分圧した際の電圧値の方が高い電圧値となるように設定されている。
このため、増幅用の第1のソース接地FETのみで送信信号を増幅する中電力の出力時において、増幅用の第1のソース接地FETのゲート端子に対して高い電圧値の電圧を供給することができ、この中電力の出力時における送信信号の電力値を向上させることができる。従って、必要とする送信電力が大きくなった場合でも、これに対応可能とすることができる。
また、本発明に係る電力増幅装置は、上述の課題を解決するために、
少なくとも上記増幅用の第1、第2のソース接地FET、及び上記スイッチ用の第1、第2のFETを、
トランジスタのチャネルを形成するために半導体基板上に積層された複数の半導体層内で2つの半導体層間のヘテロ接合近傍に高移動度電荷チャネルが形成され、上記複数の半導体層上にゲート電極を有する高電荷移動トランジスタであって、不純物がドーピングされた半導体材料からなるコンタクト半導体層が、上記複数の半導体層の少なくとも一方の側面に形成され、上記コンタクト半導体層上に、ソース電極またはドレイン電極がオーミック接続層を介して形成された高電荷移動トランジスタで形成する。
この高電荷移動トランジスタは、複数の半導体層(ヘテロ構造)の側面にコンタクト半導体層が形成され、その上面にオーミック接続層が設けられている。このため、動作電流経路に高抵抗なバリア層が介在することがないことから、オン抵抗を小さくすることができる。
また、コンタクト半導体層は導電性半導体材料からなりヘテロ構造の上面まで延びていることから、この部分でオーミック接触が可能であり、半導体材料を深くまでエッチングにより掘り下げる必要がない。このため、コンタクト半導体層を設けて動作電流をバリア層の外に迂回させても、その占有面積の増大は殆どない。
従って、少なくとも上記増幅用の第1、第2のソース接地FET、及び上記スイッチ用の第1、第2のFETとして、この高電荷移動トランジスタを用いることにより、当該電力増幅装置を1チップで形成することができる。
本発明は、電力増幅装置の動作効率を飛躍的に向上させることができる。
また、電力増幅装置を1チップに集積化することができる。
本発明は、図1に示すW−CDMA方式(W-CDMA:Wideband-Code Division Multiple Access)の携帯電話機に適用することができる。
[第1の実施の形態]
[携帯電話機の全体的な構成及び動作]
この本発明の第1の実施の形態となる携帯電話機は、受信時には、基地局から送信された無線周波信号をアンテナ1で受信する。このアンテナ1で受信された無線周波数信号は、アンテナ共用器2(DUP)を介して受信回路3(RX)に供給される。
受信回路3は、周波数シンセサイザ4(SYN)から供給された受信局部発振信号と、アンテナ1で受信された無線周波信号をミキシング処理することで、無線周波信号を中間周波信号に周波数変換してCDMA信号処理部6に供給する。なお、周波数シンセサイザ4から出力される上記受信局部発振信号の周波数は、制御部5からの制御信号によって制御される。
CDMA信号処理部6は、上記受信中間周波信号に直交復調処理を施すと共に、受信チャネルに割り当てられた拡散符号(PN符号)を用いて逆拡散処理を施すことで、該受信中間周波信号を、データレートに応じた所定のフォーマットの受信データに変換して符号処理部7に供給する。なお、CDMA信号処理部6は、上記受信データのデータレートを示す情報を、受信データレートとして制御部5に供給する。
符号処理部7は、CDMA信号処理部6から供給された受信データに対して、制御部5から通知される受信データレートに応じた伸長処理を施した後、ビタビ復号等を用いた復号処理と誤り訂正復号処理を行って、ベースバンドの受信データを再生する。
PCM符号処理部8は、制御部5で判別された通信の種別(音声通信或いはデータ通信)に応じて異なる信号処理を行う。
具体的には、音声通信時には、PCM符号処理部8は、符号処理部7から供給された受信データをPCM復号処理してアナログ受話信号を出力する。このアナログ受話信号は、受話増幅器9にて増幅された後スピーカ部10を介して発音される。
また、データ通信時には、PCM符号処理部8は、符号処理部7から供給された受信データを制御部5に供給する。制御部5は、上記受信データをメモリ11(RAM)に格納する。また必要に応じて、上記受信データを図示しない外部インタフェースを介してPDA装置(PDA:Personal Digital Assistance)やノート型パーソナル・コンピュータへ出力する。
次に、送信時において、音声通信時における話者の送話音声は、マイクロホン部12で集音され、送話増幅器13で適正レベルまで増幅される。そして、PCM符号処理部8でPCM符号化処理が施された後、送信データとして符号処理部7に供給される。
符号処理部7は、この音声通信時には、PCM符号処理部8から供給された送信データに基づいて、入力音声のエネルギー量を検出し、この検出結果に基づいてデータレートを決定する。そして、上記送信データを上記データレートに応じたフォーマットのバースト信号に圧縮し、さらに誤り訂正符号化処理を施したのちCDMA信号処理部6に供給する。
また、PDA装置やノート型パーソナル・コンピュータから出力されたデータ、或いはデジタルカメラ装置から供給された画像データは、外部インタフェースを介して制御部5に供給され、制御部5からPCM符号処理部8を介して符号処理部7に供給される。さらに、電子メール(携帯メール)のデータ等も制御部5に供給され、この制御部5からPCM符号処理部8を介して符号処理部7に供給される。
符号処理部7は、このデータ通信時には、PCM符号処理部8から供給された上記送信データを、予め設定されたデータレートに応じたフォーマットのバースト信号に圧縮し、さらに誤り訂正符号化処理を施してCDMA信号処理部6に供給する。
なお、上記音声通信時及び上記データ通信時のいずれのデータレートも、送信データレートとして制御部5に通知される。
CDMA信号処理部6は、符号処理部7で圧縮されたバースト信号に対して、送信チャネルに割り当てられたPN符号を用いて拡散処理を施す。そして、この拡散符号化された送信信号に対して直交変調処理を行い、この直交変調信号を送信回路14(TX)に供給する。
送信回路14は、上記直交変調信号を周波数シンセサイザ4から供給された送信局部発振信号とミキシング処理して無線周波信号に変換する。そして、送信回路14は、制御部5から通知された送信データレートに基づいて、以下に詳細に説明する電力増幅回路により、上記無線周波信号の有効部分だけを高周波増幅し、送信無線周波信号として出力する。この送信回路14から出力された送信無線周波信号は、アンテナ共用器2を介してアンテナ1に供給され、このアンテナ1から上記基地局へ向けてバースト送信される。
なお、文字入力等の所定の入力操作は操作部15を操作することで行われ、携帯メールの文字等や画像等は表示部16に表示されるようになっている。
[電力増幅回路の構成]
次に、このような当該実施の形態の携帯電話機の上記送信回路14は、図2に示す特徴的な電力増幅回路が設けられている。この電力増幅回路は、2つの電力増幅用のFET(Field Effect Transistor:電界効果トランジスタ)である第1の増幅用FET21及び第2の増幅用FET22と、2つの出力切り替え用のFETである第1のスイッチFET31及び第2のスイッチFET32を有している。
詳細には、この電力増幅回路は、ソース(S)接地とされた第1の増幅用FET21のゲート(G)と入力端子23(RFin)との間に第1の整合回路24(M1)を接続し、第1の増幅用FET21のドレイン端子(D)に、直流電圧切断用のコンデンサ25を介して第1のスイッチ用FET31のソースを接続している。
第1のスイッチ用FET31のドレインは、直流電圧切断用のコンデンサ26を介して第2の整合回路29(M2)の入力端子に接続されており、この第2の整合回路29の出力端子は、ソース接地とされた第2の増幅用FET22のゲートに接続されている。そして、この第2の増幅用FET22のドレインは、第3の整合回路30(M3)を介して第1の出力端子51(out1)に接続されている。
また、上記第1の増幅用FET21のドレイン端子(D)は、直流電圧切断用のコンデンサ27を介して第2のスイッチ用FET32のソースにも接続されている。この第2のスイッチ用FET32のドレインは、直流電圧切断用のコンデンサ28を介して第4の整合回路33(M4)の入力端子に接続されており、この第4の整合回路33の出力端子が第2の出力端子52(out2)に接続されている。
そして、第1のスイッチ用FET31のゲートは、図1に示す制御部5からの切り替え制御信号が供給される第1の制御端子41(ctl1)に接続されており、また、第2のスイッチ用FET32のゲートは、上記制御部5からの切り替え制御信号が供給される第2の制御端子42(ctl2)に接続されている。
[電力増幅回路の動作]
このような電力増幅回路は、第1の増幅用FET21及び第2の増幅用FET22で多段的に増幅した大電力の送信出力(第1の出力端子51から出力)と、第1の増幅用FET21のみで増幅した中電力の送信出力(第2の出力端子52から出力)とを切り替えて出力するようになっている。
具体的には、この例においては、−60dBm〜20dBm程度の範囲を「中電力」の範囲とし、21dBm〜30dBm程度の範囲を「大電力」の範囲としており、上記制御部5は、大電力の送信出力を得る場合、第1の制御端子41に例えば2.7Vの制御信号を供給し、第2の制御端子42に0Vの制御信号を供給する。
これにより、ゲートに0Vの制御信号が供給された第2のスイッチ用FET32がオフ動作し、ゲートに2.7Vの制御信号が供給された第1のスイッチ用FET31がオン動作する。
そして、入力端子23を介して供給された送信信号が、第1の増幅用FET21により増幅され、第1のスイッチ用FET31を介して第2の増幅用FET22に供給され、この第2の増幅用FET22により、さらに増幅されることで、例えば28dBm程度の大電力の送信出力として第1の出力端子51から出力される。
これに対して、中電力の送信出力を得る場合、上記制御部5は、第1の制御端子41に例えば0Vの制御信号を供給し、第2の制御端子42に2.7Vの制御信号を供給する。これにより、ゲートに0Vの制御信号が供給された第1のスイッチ用FET31がオフ動作し、ゲートに2.7Vの制御信号が供給された第2のスイッチ用FET32がオン動作する。そして、入力端子23を介して供給された送信信号が、第1の増幅用FET21により増幅され、例えば18dBm程度の中電力の送信出力として第2の出力端子52から出力される。
このように、第1の増幅用FET21及び第2の増幅用FET22で多段的に増幅された送信出力を出力するライン(第1の増幅用FET21から第1の出力端子51のライン)と、第1の増幅用FET21のみで増幅された送信出力を出力するライン(第1の増幅用FET21から第2の出力端子52のライン)を設け、各ラインに挿入接続された第1のスイッチ用FET31及び第2のスイッチ用FET32を選択的にオンオフ制御することで、中電力の出力時には、第2の増幅用FET22を停止状態に制御して電力消費を抑制することができる。このため、中電力の出力時に、効率的に当該電力増幅回路を動作させることができる。
なお、この例では、制御部5は、第1或いは第2のスイッチ用FET31,32のゲートに印加する電圧(制御信号)を0Vとすることにより、該第1或いは第2のスイッチ用FET31,32を動作停止状態として、当該電力増幅回路の動作効率の向上を図ることとしたが、これは、第1或いは第2のスイッチ用FET31,32に供給している電源自体を停止制御して、いずれかのスイッチ用FET31,32を動作停止状態に制御するようにしてもよい。
[電力増幅回路の1チップ化]
〔JP−HEMTの構成〕
ここで、この電力増幅回路は、上記各FET21,22,31,32として、通常の高電子移動トランジスタ(HEMT:High Electron Mobility Transistor)とは異なる構成を有するHEMT(JP−HEMT)を用いることで、ガリウム砒素チップ上に集積化された1チップのモノリシックICとなっている。
図3に、このJP−HEMTの断面図を示す。このJP−HEMTの場合、GaAs等の半絶縁性半導体基板61上に、開口部62aを有する酸化シリコン膜62が形成されている。
また、開口部62aにより表出した半導体基板部分上に、3つの半導体層、すなわち電子走行層63、電子供給層64及びバリア層65が、それぞれ選択エピタキシャル成長法により形成されている。
これら3つの半導体層63〜65は、例えば電子走行層63がアンドープのGaAs、電子供給層64がSiをドーピングしたn型のAlX Ga1−X As(x=0.2〜0.3)、バリア層65がアンドープのAlX Ga1−X Asでそれぞれ構成されている。
電子供給層64と電子走行層63では、材料に電子親和力差があり、かつ、電子供給層64にn型不純物(ドナー)が導入されて電子走行層63との間に仕事関数差があることから、熱平衡におけるヘテロ接合面でのエネルギー不連続箇所にバンドの曲がりを生ずる。これは、電子供給層64側のドナーから生じた電子が電子走行層63内に移動し、電子供給層64内の端部でドナーが空乏化するためである。
電子走行層63内の電子は極めて薄い範囲で2次元的に分布するため、「2次元電子ガス(2DEG)」と称され、その発生母体であるドナーと空間的に分離される結果、不純物散乱等の影響を免れて極めて高速に移動可能となる。なお、以下、この2次元電子ガス(2DEG)の層を「高移動度電荷チャネル」という。
酸化シリコン膜62上に突出した3つの半導体層63〜65の両側面に、例えばSi等のn型不純物が導入されたGaAsからなるコンタクト半導体層66がそれぞれ形成されている。このコンタクト半導体層66は、オン抵抗低減のために設けられたもので、バリア層65上に形成される従来のキャップ層に相当するものである。
コンタクト半導体層66は、ヘテロ接合障壁を設けないで電子を流れやすくする意味では、電子走行層63と同じ材料が望ましい。また、コンタクト半導体層66の不純物濃度は、導電率を上げるために電子供給層64より高いことが望ましい。
例えば、窒化シリコンからなる絶縁膜67が、バリア層65およびコンタクト半導体層66の表面を覆って成膜されている。
窒化シリコン膜67のバリア層65上の箇所にゲート開口部67aが形成され、この開口部67aにより表出するバリア層65の表面領域に、p型のゲート不純物領域68が形成されている。
また、ゲート開口部67a内から窒化シリコン膜67上にかけて、たとえばTi/Pt/Au等からゲート電極69が形成されている。ゲート電極69に印加する電圧により、ゲート不純物領域68を介して2次元電子ガス(2DEG)濃度が変調される。ゲート電極69上に、たとえば窒化シリコンからなる絶縁膜70が成膜されている。
窒化シリコン膜67,70のコンタクト半導体層66上の2箇所に、ソース開口部67bまたはドレイン開口部67cが形成され、これらの開口部67b,67cにより表出するコンタクト半導体層66上に、例えばAuGe/Niからなるオーミック接続層71がそれぞれ形成されている。少なくともオーミック接続層71とコンタクト半導体層66との界面に加熱により合金化領域66aが形成され、これにより、オーミックコンタクトが達成されている。オーミック接続層71上には、図示しないソース電極又はドレイン電極が形成され、当該JP−HEMTが形成されている。
なお、当該電力増幅回路の場合、このようなJP−HEMT上にさらに層間絶縁膜を介して上層配線が形成され、1チップ化がなされている。
〔JP−HEMTの特徴〕
このような構造のJP−HEMTでは、その動作電流(ドレイン電流)がドレイン電極、オーミック接続層71、コンタクト半導体層66を介して主に2次元電子ガス(2DEG)の層に供給される。また、ソース側においても、主に2次元電子ガス(2DEG)の層から流れだすドレイン電流が、コンタクト半導体層66、オーミック接続層71を介してソース電極に流入される。
このJP−HEMTは、ドレイン電流の経路に高抵抗なバリア層65が介在しないため、ソース抵抗及びドレイン抵抗を小さくすることができ、オン抵抗の低減化を図ることができる。このため、通常のHEMTよりも、ハイパワー、高速、低ノイズ、及び低消費電力となっている。
また、このJP−HEMTは、良好なオーミック特性を得るために、厚さに限界があるオーミック接続層71を直接2次元電子ガス層に接触させない構成であるため、2次元電子ガス層の端部が表出するように、積層された複数の半導体層をメサエッチング等で斜めに加工する必要がない。
メサエッチングで深く掘るには、ある程度広い面積が必要となるが、このJP−HEMTは、コンタクト半導体層66の上部端面にオーミックコンタクトをとる構造であることから、面積増大も必要最小限とすることができ、微細化に適したものとなっている。このため、上記各FET21,22,31,32としてJP−HEMTを用いることにより、当該電力増幅回路を1チップで形成することができる。
また、上記各FET21,22,31,32の代わりにHBT(ヘテロ接合バイポーラトランジスタ)を用いて当該電力増幅回路を構成した場合、HBTは、正電源を用いることができるのであるが、当該電力増幅回路を1チップで形成することは困難となる(電力増幅回路がマルチチップ化する。)。また、上記各FET21,22,31,32として通常のHEMTを用いた場合、通常のHEMTは、負電源を用いる必要があるため、わざわざ負電源を形成する必要があるうえ、当該電力増幅回路を1チップで形成することが困難となる。
しかし、上記各FET21,22,31,32としてJP−HEMTを用いて当該電力増幅回路を構成することで、当該電力増幅回路を1チップで形成することができる。また、通常のHEMTが負電源を用いて使用するのに対して、このJP−HEMTの場合、正電源を使用することができる。このため、上記各FET21,22,31,32としてJP−HEMTを用いることで、わざわざ負電源を形成しなくても、当該携帯電話機のバッテリからの正電源をそのまま使用することができる。従って、負電源を形成するための特別な回路を省略することができ、当該携帯電話機の回路構成の簡略化を通じて、機器の小型軽量化を図ることができる。
[第1の実施の形態の効果]
以上の説明から明らかなように、この第1の実施の形態の携帯電話機は、送信回路14の電力増幅回路に、第1の増幅用FET21及び第2の増幅用FET22で多段的に増幅された送信出力を出力するライン(第1の増幅用FET21から第1の出力端子51のライン)と、第1の増幅用FET21のみで増幅された送信出力を出力するライン(第1の増幅用FET21から第2の出力端子52のライン)を設け、各ラインに挿入接続された第1のスイッチ用FET31及び第2のスイッチ用FET32を選択的にオンオフ制御することで、中電力の出力時には、第2の増幅用FET22を停止状態に制御して電力消費を抑制することができる。このため、当該電力増幅回路の全体的な動作効率の向上を図ることができる。
特に、W−CDMA方式の携帯電話機の場合、送信出力が頻繁に変動するため、この頻繁に変動する送信出力に応じて、上記送信回路14の電力増幅回路を効率良く動作させることができ、絶大な効果を得ることができる。
また、電力増幅回路を構成する各FET21,22,31,32としてJP−HEMTを用いているため、各FET21,22,31,32の微細化が可能であることから、当該電力増幅回路を1チップで形成することができる。
また、各FET21,22,31,32として、正電源を使用可能なJP−HEMTを用いているため、わざわざ負電源を形成しなくても、当該携帯電話機のバッテリからの正電源をそのまま使用することができる。従って、負電源を形成するための特別な回路を省略することができ、当該携帯電話機の回路構成の簡略化を通じて、機器の小型軽量化を図ることができる。
[第2の実施の形態]
次に、本発明の第2の実施の形態の携帯電話機の説明をする。この第2の実施の形態の携帯電話機は、送信回路14の電力増幅回路において、上述の第1の増幅用FETの出力電力を調整する電力調整部を設けたものである。なお、上述の第1の実施の形態と当該第2の実施の形態とでは、この点のみが異なる。このため、以下、この差異の説明のみ行い、重複説明は省略する。
[電力調整部の構成]
この第2の実施の形態の携帯電話機は、図4に示すように送信回路14の電力増幅回路に、上記第1の増幅用FET21のゲート電圧を調整することで、該第1の増幅用FET21から第1の出力端子51のラインを介して出力される中電力の出力レベルを調整する電力調整部88を設けた構成となっている。
具体的には、この電力調整部88は、分圧抵抗83(R3)を介してソース接地された第1の調整用FET85と、同様に分圧抵抗84(R4)を介してソース接地された第2の調整用FET86とを有している。
第1の調整用FET85のゲートは、上記第1のスイッチ用FET31のゲートに接続された第1の制御端子41(ctl1)に接続されており、また、第2の調整用FET86のゲートは、上記第2のスイッチ用FET32のゲートに接続された第2の制御端子42(ctl2)に接続されている。
また、各調整用FET85,86のドレインは、分圧抵抗81或いは分圧抵抗82を介して、基準電圧(Vdd)が供給される基準電圧供給端子87にそれぞれ接続されている。そして、分圧抵抗81と第1の調整用FET85のドレインとの接続間、及び分圧抵抗82と第2の調整用FET86のドレインとの接続間に、上記第1の増幅用FET21のゲートを接続することで、当該電力調整部88が構成されている。
なお、第1の調整用FET85及び第2の調整用FET86も、上述のJP−HEMTで形成されており、この電力増幅回路も1チップで形成されている。
[電力調整部の動作]
このような電力調整部88において、大電力の出力時となると、上記制御部5は、第1の制御端子41に例えば2.7Vの電圧を供給し、第2の制御端子42に0Vの電圧を供給する。これにより、上述のように第1のスイッチ用FET31がオン動作すると共に、第2のスイッチ用FET32がオフ動作し、入力端子23を介して供給された送信信号が、第1の増幅用FET21及び第2の増幅用FET22で増幅され、例えば28dBm程度の大電力の送信電力とされ、第1の出力端子51を介して出力される。
また、この場合、第1の制御端子41に例えば2.7Vの電圧が供給され、第2の制御端子42に0Vの電圧が供給されているため、電力調整部88の第1の調整用FET85がオン動作し、第2の調整用FET86がオフ動作する。これにより、第1の増幅用FET21のゲートには、基準電圧供給端子87を介して供給される基準電圧が、分圧抵抗81,82,83で分圧された値の電圧が供給されることとなる。
これに対して、中電力の出力時となると、上記制御部5は、第2の制御端子42に例えば2.7Vの電圧を供給し、第1の制御端子41に0Vの電圧を供給する。これにより、上述のように第1のスイッチ用FET31がオフ動作すると共に、第2のスイッチ用FET32がオン動作し、入力端子23を介して供給された送信信号が、第1の増幅用FET21のみで増幅され、第1の出力端子51を介して出力される。
また、この場合、第2の制御端子42に例えば2.7Vの電圧が供給され、第1の制御端子41に0Vの電圧が供給されているため、電力調整部88の第1の調整用FET85がオフ動作し、第2の調整用FET86がオン動作する。これにより、第1の増幅用FET21のゲートには、基準電圧供給端子87を介して供給される基準電圧が、分圧抵抗81,82,84で分圧された値の電圧が供給されることとなる。
ここで、この電力調整部88においては、分圧抵抗81,82,83で上記基準電圧を分圧した際の電圧値V1(=上記大電力出力時に第1の増幅用FET21のゲートに供給される電圧値)と、分圧抵抗81,82,84で上記基準電圧を分圧した際の電圧値V2(=上記中電力出力時に第1の増幅用FET21のゲートに供給される電圧値)との関係が、「Vl<V2」となるように各分圧抵抗81〜84の値が設定されている。
このため、第1の増幅用FET21のみで送信信号を増幅する中電力の出力時において、第1の増幅用FET21のゲートに対して高い電圧値の電圧を供給し、この中電力の出力時における送信信号の電力値を、例えば18dBm程度に向上させることができる。
[第2の実施の形態の効果]
以上の説明から明らかなように、この第2の実施の形態の携帯電話機は、第1の増幅用FET21のみで送信信号を増幅して出力する中電力の出力時に、この第1の増幅用FET21のゲートに供給する電圧の電圧値を向上させる電力調整部88を設けることにより、中電力の出力時における送信信号の電力値を向上させることができる。
このため、必要とする送信電力が大きくなった場合でも、これに対応可能とすることができる他、上述の第1の実施の形態と同じ効果を得ることができる。
[第3の実施の形態]
次に、本発明の第3の実施の形態の携帯電話機の説明をする。この第3の実施の形態の携帯電話機は、送信回路14の電力増幅回路において、第1の出力端子51を介して出力される送信信号、及び第2の出力端子52を介して出力される送信信号に生ずる位相差をキャンセルする位相調整回路を設けたものである。
なお、上述の各実施の形態と当該第3の実施の形態とでは、この点のみが異なる。このため、以下、この差異の説明のみ行い、重複説明は省略する。
また、以下、上述の第1の実施の形態の携帯電話機の電力増幅回路に位相調整回路を設けた例を説明する。
[第3の実施の形態の構成]
この第3の実施の形態の携帯電話機は、図5に示すように送信回路14の電力増幅回路の、第1の増幅用FET21から第2の出力端子52のラインに位相調整回路90が設けられている。
具体的には、位相調整回路90は、第2のスイッチ用FET32のドレインに接続された直流切断用コンデンサ28と、第4の整合回路33(M4)との間に挿入接続されている。
なお、この例では、位相調整回路90を、第1の増幅用FET21から第2の出力端子52のライン側に設けることとして説明を進めるが、これは、第1の増幅用FET21から第1の出力端子51のライン側に設けるようにしてもよい。
[第3の実施の形態の動作]
この電力増幅回路の場合、大電力出力時には、送信信号を第1の増幅用FET21及び第2の増幅用FET22の計2つの増幅用FETで増幅して出力するのに対して、中電力出力時には、送信信号を第1の増幅用FET21のみで増幅して出力する。送信信号は、1つの増幅用FETを介すことで、その位相が例えば180度回転する。
このため、大電力出力時と中電力出力時では、出力される送信信号に180度の位相差が生ずるのであるが、位相調整回路90は、この位相差をキャンセルして、送信信号を出力する。すなわち、中電力出力時における第1の増幅用FET21からの送信信号の位相を、180度回転させて出力する。
[第3の実施の形態の効果]
これにより、第1の出力端子51及び第2の出力端子52から出力される送信信号の位相を同じ位相として出力することができる他、上述の各実施の形態と同じ効果を得ることができる。
また、位相調整回路90を、中電力出力用のラインである、上記第1の増幅用FET21から第2の出力端子52のラインに設けているため、大電力出力用のライン側(上記第1の増幅用FET21から第1の出力端子51のライン)から出力される送信信号に出力ロスを生ずることなく、該大電力に増幅された送信信号を大電力のまま出力することができる。
すなわち、位相調整回路90を設けると、その出力に多少のロスを生ずる。大電力出力時には、大きく増幅した電力をそのまま出力することが好ましいため、この例では、中電力出力用のライン側に位相調整回路90を設けている。
なお、位相調整回路90の出力ロスが容認できるのであれば、位相調整回路90を大電力出力用のラインである、上記第1の増幅用FET21から第1の出力端子51のラインに設けてもよいことは上述のとおりである。
[変形例]
上述の各実施の形態の説明では、本発明をW−CDMA方式の携帯電話機に適用することとしたが、これはPDC方式等の他の方式の携帯電話機或いは通信端末装置に適用してもよい。
また、上述の各実施の形態の説明では、本発明を、送信回路14の電力増幅器に適用することとしたが、これは、出力電力の可変制御を行う回路であれば、どのような回路に適用してもよい。
最後に、本発明は、一例として開示した上述の各実施の形態に限定されることはない。このため、上述の各実施の形態以外であっても、本発明に係る技術的思想を逸脱しない範囲であれば、設計等に応じて種々の変更が可能であることは勿論であることを付け加えておく。
本発明を適用した第1の実施の形態となる携帯電話機のブロック図である。 上記携帯電話機の送信回路に設けられている電力増幅回路の回路図である。 上記電力増幅回路に設けられている各FETの構成を示す断面図である。 本発明を適用した第2の実施の形態となる携帯電話機の送信回路に設けられている電力増幅回路の回路図である。 本発明を適用した第3の実施の形態となる携帯電話機の送信回路に設けられている電力増幅回路の回路図である。
符号の説明
14 送信回路、21 第1の増幅用FET、22 第2の増幅用FET、23 入力端子、24 第1の整合回路、25 直流電圧切断用のコンデンサ、26 直流電圧切断用のコンデンサ、27 直流電圧切断用のコンデンサ、28 直流電圧切断用のコンデンサ、29 第2の整合回路、30 第3の整合回路、31 第1のスイッチ用FET、32 第2のスイッチ用FET、33 第4の整合回路、51 第1の出力端子、52 第2の出力端子、81 分圧抵抗、82 分圧抵抗、83 分圧抵抗、84 分圧抵抗、85 第1の調整用FET、86 第2の調整用FET、87 基準電圧供給端子、88 電力調整部、90 位相調整部

Claims (6)

  1. 増幅用の第1のソース接地FET(電界効果トランジスタ)のゲート端子と入力端子との間に第1の整合回路を設け、
    上記第1のソース接地FETのドレイン端子に、直流電圧切断用のコンデンサを介してスイッチ用の第1のFETのソース端子を接続し、
    上記スイッチ用の第1のFETのドレイン端子に、直流電圧切断用のコンデンサを介して第2の整合回路を接続し、
    上記第2の整合回路のもう一方の端子を、増幅用の第2のソース接地FETのゲートに接続し、
    上記増幅用の第2のソース接地FETのドレイン端子に第3の整合回路を接続し、
    上記第3の整合回路のもう一方の端子を第1の出力端子と接続し、
    上記増幅用の第1のソース接地FETのドレイン端子に、直流電圧切断用のコンデンサを介して上記スイッチ用の第1のFETと並列的に、スイッチ用の第2のFETのソース端子を接続し、
    上記スイッチ用の第2のFETのドレイン端子に、直流電圧切断用のコンデンサを介して第4の整合回路を接続し、
    上記第4の整合回路のもう一方の端子を第2の出力端子と接続し、
    上記スイッチ用の第1のFETのゲート端子を第1の制御端子に接続し、
    上記スイッチ用の第2のFETのゲート端子を第2の制御端子に接続し、
    ソース端子と接地との間に第3の分圧抵抗を接続した電力調整用の第1のFETのドレイン端子を、第1の分圧抵抗を介して電源に接続し、
    ソース端子と接地との間に第4分圧抵抗を接続した電力調整用の第2のFETのドレイン端子を、第2の分圧抵抗を介して上記電源に接続し、
    上記第1の分圧抵抗、上記第2の分圧抵抗、及び上記第3の分圧抵抗で上記電源の電圧を分圧した際の電圧値よりも、上記第1の分圧抵抗、上記第2の分圧抵抗、及び上記第4の分圧抵抗で上記電源の電圧を分圧した際の電圧値の方が高い電圧値となるように、該各分圧抵抗の抵抗値を設定し、
    上記電力調整用の第1及び第2のFETの各ドレイン端子同士を接続した接続点を、上記増幅用の第1のソース接地FETのゲート端子と上記第1の整合回路との間に接続し、
    上記電力調整用の第1のFETのゲート端子、及び上記スイッチ用の第1のFETのゲート端子を、それぞれ上記第1の制御端子に接続し、
    上記電力調整用の第2のFETのゲート端子、及び上記スイッチ用の第2のFETのゲート端子を、それぞれ上記第2の制御端子に接続した
    電力増幅装置。
  2. 上記スイッチ用の第2のFETのドレインに接続された直流切断用コンデンサと、上記第4の整合回路との間に位相調整回路を設けた
    請求項1に記載の電力増幅装置。
  3. 少なくとも上記増幅用の第1、第2のソース接地FET、及び上記スイッチ用の第1、第2のFETを、
    トランジスタのチャネルを形成するために半導体基板上に積層された複数の半導体層内で2つの半導体層間のヘテロ接合近傍に高移動度電荷チャネルが形成され、上記複数の半導体層上にゲート電極を有する高電荷移動トランジスタであって、不純物がドーピングされた半導体材料からなるコンタクト半導体層が、上記複数の半導体層の少なくとも一方の側面に形成され、上記コンタクト半導体層上に、ソース電極またはドレイン電極がオーミック接続層を介して形成された高電荷移動トランジスタで形成した
    請求項1又は請求項2に記載の電力増幅装置。
  4. 送信信号の送信出力を変更して送信する電力増幅部を有し、
    上記電力増幅部は、
    増幅用の第1のソース接地FET(電界効果トランジスタ)のゲート端子と入力端子との間に第1の整合回路を設け、
    上記第1のソース接地FETのドレイン端子に、直流電圧切断用のコンデンサを介してスイッチ用の第1のFETのソース端子を接続し、
    上記スイッチ用の第1のFETのドレイン端子に、直流電圧切断用のコンデンサを介して第2の整合回路を接続し、
    上記第2の整合回路のもう一方の端子を、増幅用の第2のソース接地FETのゲートに接続し、
    上記増幅用の第2のソース接地FETのドレイン端子に第3の整合回路を接続し、
    上記第3の整合回路のもう一方の端子を第1の出力端子と接続し、
    上記増幅用の第1のソース接地FETのドレイン端子に、直流電圧切断用のコンデンサを介して上記スイッチ用の第1のFETと並列的に、スイッチ用の第2のFETのソース端子を接続し、
    上記スイッチ用の第2のFETのドレイン端子に、直流電圧切断用のコンデンサを介して第4の整合回路を接続し、
    上記第4の整合回路のもう一方の端子を第2の出力端子と接続し、
    上記スイッチ用の第1のFETのゲート端子を第1の制御端子に接続し、
    上記スイッチ用の第2のFETのゲート端子を第2の制御端子に接続し、
    ソース端子と接地との間に第3の分圧抵抗を接続した電力調整用の第1のFETのドレイン端子を、第1の分圧抵抗を介して電源に接続し、
    ソース端子と接地との間に第4の分圧抵抗を接続した電力調整用の第2のFETのドレイン端子を、第2の分圧抵抗を介して上記電源に接続し、
    上記第1の分圧抵抗、上記第2の分圧抵抗、及び上記第3の分圧抵抗で上記電源の電圧を分圧した際の電圧値よりも、上記第1の分圧抵抗、上記第2の分圧抵抗、及び上記第4の分圧抵抗で上記電源の電圧を分圧した際の電圧値の方が高い電圧値となるように、該各分圧抵抗の抵抗値を設定し、
    上記電力調整用の第1及び第2のFETの各ドレイン端子同士を接続した接続点を、上記増幅用の第1のソース接地FETのゲート端子と上記第1の整合回路との間に接続し、
    上記電力調整用の第1のFETのゲート端子、及び上記スイッチ用の第1のFETのゲート端子を、それぞれ上記第1の制御端子に接続し、
    上記電力調整用の第2のFETのゲート端子、及び上記スイッチ用の第2のFETのゲート端子を、それぞれ上記第2の制御端子に接続した
    携帯通信端末装置。
  5. 上記電力増幅部は、
    上記スイッチ用の第2のFETのドレインに接続された直流切断用コンデンサと、上記第4の整合回路との間に位相調整回路を設けた
    請求項4に記載の携帯通信端末装置。
  6. 上記電力増幅部は、少なくとも上記増幅用の第1、第2のソース接地FET、及び上記スイッチ用の第1、第2のFETを、
    トランジスタのチャネルを形成するために半導体基板上に積層された複数の半導体層内で2つの半導体層間のヘテロ接合近傍に高移動度電荷チャネルが形成され、上記複数の半導体層上にゲート電極を有する高電荷移動トランジスタであって、不純物がドーピングされた半導体材料からなるコンタクト半導体層が、上記複数の半導体層の少なくとも一方の側面に形成され、上記コンタクト半導体層上に、ソース電極またはドレイン電極がオーミック接続層を介して形成された高電荷移動トランジスタで形成した
    請求項4又は請求項5に記載の携帯通信端末装置。
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