JP4133118B2 - 洗浄剤 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、レジスト等を溶解或いは剥離・除去するために用いるリソグラフィー用洗浄剤、スクリーン印刷版の洗浄剤、印刷インキ類用洗浄剤、磁気カードの印刷面に塗布された保護膜を除去するために用いる磁気カード用洗浄剤、レンズ洗浄剤、ブレーキ装置の洗浄剤、液晶の洗浄剤等として有用な洗浄剤に関する。
【0002】
【従来の技術】
集積回路素子、カラーフィルタ、液晶表示素子等の製造にはレジストを使用するリソグラフィー技術が用いられている。集積回路素子の製造では基板上に必要に応じ反射防止膜を形成した後、ポジ型或いはネガ型のレジストが塗布され、ベーキングにより溶剤を除去した後、レジスト膜上に必要に応じ反射防止膜を形成し、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等の各種放射線により露光し、必要に応じてベーキングを行い、現像してレジストパターンが形成される。その後更に必要に応じてベーキングが行われ、下地基板のエッチング処理等が行われた後、レジストは一般的に剥離される。この剥離工程では通常有機溶剤からなる洗浄剤が用いられる。
【0003】
このようなリソグラフィー技術における洗浄については、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとプロピレングリコールモノメチルエーテルの混合物を用いて、基板から硬化及び未硬化のフォトレジスト層を剥離する方法(特公平4−49938号公報記載)や、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルと水との均質溶液からなるリソグラフィー用リンス液(特開平10−186680号公報記載)が知られている。また、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとエタノールとの混合溶液を用いた場合、特に溶解性が優れた洗浄剤を得ることができることも知られている(特開平11−44960号公報記載)。
【0004】
スクリーン印刷版の洗浄剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、グリセリン、エチレングリコールモノアセテート等の多価アルコールとアセチレン系の多価アルコール或いは非イオン性界面活性剤と水を含有してなる洗浄液(特願平7−167831号公報記載)等が知られている。印刷インキ類用洗浄剤としては、プロピレン系グリコールエーテル(プロピレングリコールモノメチルエーテル等)とプロピレン系グリコールエーテルアセテート(プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等)と水との混合組成物(特願平7−219188号公報記載)等が知られている。磁気カードの印刷面に塗布された保護膜を除去するために用いる磁気カード用洗浄剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶剤と共にギ酸ブチル等のエステル系溶剤を必要により用いた洗浄剤、これらエステル系溶剤と界面活性剤としてポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル等の1種以上とを配合してなる洗浄剤(特願平7−323550号公報記載)等が知られている。レンズ洗浄剤としては、炭化水素系溶剤(ドデシルベンゼン、ヘキサデカン等)と、ジエチレングリコールモノメチルエーテル或いはジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等を含有する洗浄剤(特願平8−79454記載)等が知られている。ブレーキ装置の洗浄剤としては、特定の脂肪族炭化水素に脂肪族二価アルコールモノ低級アルキルエーテル(アセテート)と脂肪族一価アルコールを組み合わせて構成する洗浄剤(特願平1−292570号公報記載)等が知られている。
【0005】
しかしながら、これらの洗浄剤は充分な洗浄を行うために時間がかかったり、多量の洗浄剤を必要としたり、また、溶剤中の可燃性有機化合物が揮発し、引火する危険性があるものもある。
【0006】
例えば,リソグラフィー用リンス液として溶解性が優れているといわれているプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとエタノールとの混合溶液ではエタノールの沸点が78℃と低いので、取り扱いに注意が必要とされている。
【0007】
従って、短時間で、経済的な量での洗浄効果が高く、しかも沸点が高く安全性の高い洗浄剤の開発が望まれていた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明が解決しようとする課題は、短時間の洗浄でも洗浄効果が高く、しかも、沸点が高く安全性の高い洗浄剤を提供することである。
【0009】
本発明者等は鋭意研究した結果、溶剤として一般式(I)を有する200℃以上の高沸点グライム系グリコールエーテル類を一種以上含有することを特徴とする洗浄剤を用いることにより、上記目的が達成できることを見出して本発明を完成させた。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明は、
(1)一般式(I)で表される、沸点が200℃以上のグライム系
【0011】
【化2】
【0012】
グリコールエーテル類を一種又は二種以上含むことからなる洗浄剤
(式中、R1は炭素数1乃至12の直鎖若しくは分枝鎖状のアルキル基、炭素数1乃至6の直鎖若しくは分枝鎖状のアルキル基で置換されていても良いアラルキル基、炭素数1乃至6の直鎖又は分枝鎖状のアルキル基で置換されていても良いアリール基又は炭素数1乃至6の直鎖若しくは分枝鎖状のアルキル基で置換されていても良い5乃至7員環シクロアルキル基、又は炭素数1乃至6の直鎖又は分枝鎖状のアルキル基で置換されていても良い5乃至7員環シクロアルキルアルキル基を示す。R2は炭素数1乃至6の直鎖又は分枝鎖状のアルキル基を示す。Aはエチレン基、又はプロピレン基を示す。Oは酸素原子を示す。nは1乃至6の整数を示す。)、
(2)グライム系グリコールエーテル類がジエチレングリコールメチル2−エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールメチルベンジルエーテル、テトラエチレングリコールメチルブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールメチルブチルエーテルから選ばれる(1)記載の洗浄剤、
(3)(1)又は(2)記載のグライム系グリコールエーテル類から選択される化合物及びプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート(ここで、アルキル部分は炭素数1乃至6の直鎖又は分枝鎖状のアルキル基である。)を含むことからなる洗浄剤、
(4)プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートのアルキル部分がメチル又はブチルである(3)記載の洗浄剤、
(5)グライム系グリコールエーテルがテトラエチレングリコールメチルブチルエーテルであり、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートがプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートである(3)又は(4)記載の洗浄剤、
(6)水を加えてなる(1)乃至(5)記載の洗浄剤、
(7)均質溶液である、(1)乃至(6)記載の洗浄剤、
(8)グライム系グリコールエーテル10重量%乃至50重量%に対し、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートが50重量%乃至90重量%含有する(1)乃至(7)記載の洗浄剤、
(9)リソグラフィー用洗浄剤である、(1)乃至(8)記載の洗浄剤、
(10)(1)乃至(9)記載の洗浄剤を用いた洗浄方法、
(11)洗浄方法がリソグラフィーからのレジストの除去方法である(10)記載の洗浄方法、
(12)洗浄対象物1重量部に対して1乃至100重量部の洗浄剤を添加する(10)又は(11)記載の洗浄方法、
からなる。
【0013】
一般式(I)で示されるグライム系グリコールエーテル類において、R1の炭素数1乃至12の直鎖若しくは分枝鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、2-エチルヘキシル、デシル、ドデシル基を挙げることができ、好適にはプロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、2−エチルヘキシル基であり、更に好適にはブチル、ヘキシル、2−エチルヘキシル基である。
【0014】
R1の炭素数1乃至6の直鎖若しくは分枝鎖状のアルキル基(例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル基であり、好適にはメチル、エチル、プロピル基であり、更に好適にはメチル、エチル基を挙げることができる。)で置換されていても良いアラルキル基としては、例えば、ベンジル、フェネチル、4−メチルフェネチル、4−メチルベンジル、2,4−ジメチルベンジル、1−ナフチルメチル、2−ナフチルメチル基を挙げることができ、好適にはベンジル、フェネチル、4−メチルベンジル基であり、更に好適にはベンジル、4−メチルベンジル基である。
【0015】
R1の炭素数1乃至6の直鎖若しくは分枝鎖状のアルキル基(例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル基であり、好適にはメチル、エチル、プロピル基であり、更に好適にはメチル、エチル基を挙げることができる。)で置換されてもよいアリール基としては、例えば、フェニル、ナフチル、トリル、4−エチルフェニル、4−イソプロピルフェニル、ノニルフェニル基を挙げることができ、好適にはフェニル、トリル、4−イソプロピルフェニル、ノニルフェニル基であり、更に好適にはフェニル、トリル基である。
【0016】
R1の炭素数1乃至6の直鎖若しくは分枝鎖状のアルキル基(例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル基であり、好適にはメチル、エチル、プロピル基であり、更に好適にはメチル、エチル基を挙げることができる。)で置換されても良い5乃至7員環シクロアルキル基としては、例えばシクロヘキシル、4−メチルシクロヘキシル、4−エチルシクロヘキシル、シクロペンチル、シクロヘプチル基を挙げることができ、好適にはシクロヘキシル、4−メチルシクロヘキシル、シクロペンチル、シクロヘプチル基であり、更に好適にはシクロヘキシル、シクロペンチル基である。
【0017】
R1の炭素数1乃至6の直鎖若しくは分枝鎖状のアルキル基(例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル基であり、好適にはメチル、エチル、プロピル基であり、更に好適にはメチル、エチル基を挙げることができる。)で置換されても良い5乃至7員環シクロアルキルアルキル基としては、例えば、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル、4−メチルシクロヘキシルメチル、4−メチルシクロヘキシルエチル、シクロペンチルメチル、シクロヘプチルメチル基を挙げることができる。好適にはシクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル、4−メチルシクロヘキシルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘプチルメチル基であり、更に好適にはシクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル、シクロペンチルメチル基である。
【0018】
R2の炭素数1乃至6の直鎖若しくは分枝鎖状のアルキル基としては前述のR1の定義と同様の基を挙げることができるが、好適にはメチル、エチル、プロピル、ブチル基であり、更に好適にはメチル、エチル基である。
【0019】
一般式(I)中のAはエチレン基若しくはプロピレン基を示すが、好適にはエチレン基である。Oは酸素原子を示す。nは1乃至6の整数を示すが、好適には2乃至4である。
【0020】
グライム系グリコールとしては沸点が200℃以上である、ジエチレングリコールメチル2−エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールメチルベンジルエーテル、テトラエチレングリコールメチルブチルエーテル、テトラエチレングリコールメチルイソプロピルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールメチルエチルエーテル、テトラエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールメチルブチルエーテル、トリエチレングリコールメチルブチルエーテル、テトラエチレングリコールメチルイソブチルエーテルを挙げることができる。好適なグライム系グリコールエーテルとしては、ジエチレングリコールメチル2−エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールメチルベンジルエーテル、テトラエチレングリコールメチルブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールメチルブチルエーテルを挙げることができる。特に好適なものとして、テトラエチレングリコールメチルブチルエーテルを挙げることができる。
【0021】
グライム系グリコールエーテルは、洗浄剤として単独で用いることもできるが2種以上を組み合わせて用いることもできる。
【0022】
グライム系グリコールエーテルを2種以上組み合わせる場合、グライム系グリコールは用途に応じて適当な組み合わせを選択することができる。また、混合割合も用途に応じて適宜選択することができる。
【0023】
グライム系グリコールエーテルは、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートと組み合わせて用いることもできる。
【0024】
プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートとしては、好適にはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート若しくはプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテートが挙げられ、更に好適にはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。
【0025】
プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートとグライム系グリコールエーテルとを組み合わせるときには組み合わせは用途に応じて適当に選択することができる。また、混合割合も用途に応じて適当に選択することができる。例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとテトラエチレングリコールブチルメチルエーテルを60:40で混合したものや、90:10で混合したものを挙げることができるが洗浄効果を有する限りこれらに制限されない。
【0026】
洗浄剤の添加量は洗浄対象物に応じて適当に調節することができる。
例えば、レジスト樹脂を洗浄する場合はレジスト樹脂1重量部に対して0.1乃至100重量部の割合で添加することで洗浄することができる。
【0027】
洗浄時間は洗浄対象物の種類、洗浄剤の種類に応じて適当に選択することができる。例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとテトラエチレングリコールブチルメチルエーテルを60:40で混合したものや、90:10で混合した洗浄剤でレジスト樹脂を洗浄する場合、レジスト樹脂1重量部に対して30重量部の洗浄剤を添加したときには0.1時間乃至24時間の洗浄時間で洗浄することができる。
【0028】
洗浄温度は、洗浄対象物、洗浄剤の種類に応じて適当に選択することができる。
【0029】
グライム系グリコールエーテルとしては沸点が200℃以上のものを用いるのが適しているが、好適にはテトラエチレングリコールブチルメチルエーテルを挙げることができる。
【0030】
これらの有機溶剤は洗浄効果と引火点を上げるため水との混合物としても使用することもできる。
【0031】
グライム系グリコールエーテルの沸点としては、ジエチレングリコールメチル2-エチルヘキシルエーテルが251℃、ジエチレングリコールメチルベンジルエーテルが280℃、テトラエチレングリコールメチルブチルエーテルが297℃、ジエチレングリコールメチルヘキシルエーテルが249℃、ジプロピレングリコールメチルブチルエーテルが230℃である。
【0032】
本発明は、レジスト等を溶解或いは剥離除去するために用いるリソグラフィー用洗浄剤、スクリーン印刷版の洗浄剤、印刷インキ類用洗浄剤、磁気カードの印刷面に塗布された保護膜を除去するために用いる磁気カード用洗浄剤、レンズ洗浄剤、ブレーキ装置の洗浄剤、液晶の洗浄剤等に用いることができるが、これらに限定されるものではない。
【0033】
以下、実施例をあげて説明するが、本発明はこれらにより制限されるものではない。尚、本実施例において%とあるのは重量%である。
【0034】
【実施例】
実施例1乃至20.
各種組成の洗浄剤20種類を作製した。各洗浄剤の組成と組成物の重量比率を表1に示す。
【0035】
【表1】
【0036】
実施例21.レジスト樹脂0.3gにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとテトラエチレングリコールブチルメチルエーテルを60:40で混合した溶液を10.0g加えて浸漬させた。1時間後、混合溶液を除去して残渣を乾燥し、レジスト樹脂の残量を測定した。溶解性試験の結果を表2に示す。
【0037】
【表2】
実施例22.レジスト樹脂0.3gにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとテトラエチレングリコールブチルメチルエーテルを90:10で混合した溶液を10.0g加えて浸漬させ、実施例21と同様に溶解性試験を行った。結果を表2に示す
比較例1.レジスト樹脂0.3gにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとエタノールを60:40若しくは90:10で混合した溶液を10.0g加えて浸漬させ、実施例21と同様に溶解性試験を行った。結果を表2に示す。
【0038】
比較例2.比較例1で用いた溶剤について沸点を調べた。各溶剤中のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとエタノールは共沸することなく、それぞれの沸点で蒸発した。
【0039】
表2に示すように本発明の洗浄剤は比較例1(特開平11−44960)に比べ優れた洗浄効果を示した。
【0040】
【発明の効果】
本発明により、一般式(I)を有する200℃以上の高沸点グライム系グリコールエーテル類を一種以上含有することを特徴とする洗浄剤を用いることにより、洗浄効果が高く且つ引火する危険性が少なく、安全に使用できる洗浄剤が提供できる。
Claims (5)
- 沸点が200℃以上であるジエチレングリコールメチル2-エチルへキシルエーテル、ジエチレングリコールメチルベンジルエーテル、テトラエチレングリコールメチルブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルへキシルエーテル、ジプロピレングリコールメチルブチルエーテルから選ばれる1種以上のグライム系グリコールエーテルと、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート(ここで、アルキル部分は炭素数1乃至6の直鎖又は分枝鎖状のアルキル基である。)とからなるリソグラフィー用洗浄剤。
- プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートのアルキル部分がメチル又はブチルである請求項1記載のリソグラフィー用洗浄剤。
- プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートのアルキル部分がメチルである請求項1記載のリソグラフィー用洗浄剤。
- グライム系グリコールエーテル10〜90重量%と、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート90〜10重量%とからなる請求項1乃至3のいずれか1項に記載のリソグラフィー用洗浄剤。
- テトラエチレングリコールブチルメチルエーテル10〜40重量%と、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート90〜60重量%とからなる請求項1記載のリソグラフィー用洗浄剤。
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