JP4124129B2 - 光源装置及びプロジェクタ - Google Patents

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Description

本発明は、光源装置及びプロジェクタに関するものである。
プロジェクタは、近年小型化、高輝度化、長寿命化、廉価化等が図られてきている。例えば、小型化に対しては液晶パネル(光変調素子)サイズは対角1.3インチが0.5インチになり面積比で1/6強の小型化がされてきている。
一方、プロジェクタの光源として、固体光源である発光ダイオード(Light Emitting Diode:LED)光源を用いることよる小型化が提案されている。LED光源は、電源を含めて小型であり、瞬時点灯/消灯が可能であること、色再現性が広く長寿命であることなど、プロジェクタ用光源としてメリットを有している。また、水銀などの有害物質を含まないため、環境保全上からみても好ましいものである。
特開平06−005923号公報 特開平07−099372号公報 実開平06−009158号公報
しかしながら、LED光源をプロジェクタ用光源に用いるためには、光源としての明るさが不足しており、少なくとも放電型光源ランプレベルの明るさを確保(高輝度化、低エテンデュ化)する必要があった。
ところが、LED光源を高輝度化するにつれて益々LED光源からの発熱は増大し、LED光源の温度が上昇すると発光効率が低下するため、何らかの発熱対策をとる必要があった。一般的に採用されているファンによる強制空冷方式であるが、この他にも、液体を用いてLED光源を強制冷却する方法が提案されている。液体冷却方法によれば、強制空冷方式の騒音の解消にも効果が期待されるものである(例えば、特許文献1、2参照)
また、LED光源を高輝度化すべく、LED光源を大電流駆動する場合には、従来のLED光源では問題とならなかった配線等の電気抵抗を考慮する必要性がある。具体的には、従来のLED光源では、通電されることによって発光・発熱する発光チップに金等によって形成されたボンディングワイヤ等の細い電極配線を介して電流を注入しており(特許文献3参照)、LED光源を大電流駆動する場合に、ボンディングワイヤ等の細い電極配線の電気抵抗に起因して細い配線が発熱し、冷却系に対して余分な負荷となり、結果的にLED光源の放熱効果が悪化する恐れがある。また、配線の発熱により溶解し断線する恐れがある。
本発明は、上述する問題点に鑑みてなされたもので、電極配線の電気抵抗に起因する無用な発熱を防止することにより、冷却系に対する余分な負荷を軽減し、LED光源の放熱効果を向上することを目的とする。また、電極配線の断線を防止することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明に係る光源装置は、第1電極と第2電極とを介して通電されることによって発光・発熱する発光チップを備える光源装置であって、上記発光チップにおいて発光された光を所定の射出方向に反射する反射面を有しかつ導電性材料によって形成される反射部を備え、当該反射部を介して上記第1電極に通電することを特徴とする。
このような特徴を有する本発明に係る光源装置によれば、反射部を介して第1電極に通電される。このような反射部は、上述のように、発光チップにおいて発光された光を所定の射出方向に反射する反射面を有しているため、当然、従来のボンディングワイヤ等の細い金属配線より広い断面積を有している。したがって、この反射部を介して第1電極に通電することによって、第1電極に電気的に接続されている電極配線における発熱を防止することができる。また、電極配線が発熱することによって溶解することが防止されるため、電極配線の断線を防止することが可能となる。
また、本発明に係る光源装置では、上記第1電極と上記反射部とを物理的及び電気的に接続する接続材を有するという構成を採用することができる。このように、第1電極と反射部を物理的及び電気的に接続材を有することによって、容易に第1電極と反射部を物理的及び電気的に接続することが可能となる。なお、このような接続材としては、導電性を有する材料であれば使用することができるが、特にその形状変形が容易な半田や導電性接着剤を用いることが好ましい。
なお、光源装置においては、発光チップにおいて発熱する熱量を効率的に放熱し発光チップを冷却することが好ましい。
高熱源から低熱源への単位時間あたりの熱移動量dQは下式(1)で表される。なお、下式(1)において、λは熱媒体の熱伝導率、Sは低熱源の接触面積、Wは高熱源と低熱源との距離、θ2は高熱源の温度、θ1は低熱源の温度である。
Figure 0004124129
この式(1)から分かるように、S/Wの値を大きくすることによって、高熱源から低熱源に単位時間あたりに移動する熱量が多くなる。
したがって、本発明に係る光源装置は、上記発光チップが実装されかつ導電性材料によって形成される基台を有し、当該基台を上記第2電極として用いるという構成を採用することが好ましい。すなわち、基台を第2電極として用いることによって、発光チップ(高熱源)が基台(低熱源)上に直接実装される。このため、発光チップが基台に接触する低熱源(例えば、外気等)と近くなり、Wの値を小さくすることができる。このため、式(1)におけるS/Wの値を大きくすることができ、効率的に発光チップにおける熱量を放熱することが可能となる。
また、本発明に係る光源装置は、上記基台の内部に、冷却媒体が流れる流路が形成されていることが好ましい。このように、基台の内部に冷却媒体の流れる流路を形成することによって、低熱源として熱容量の大きな冷却媒体(例えば液体)を用いることが可能となる。したがって、高熱源(発光チップ)から低熱源(冷却媒体)に移動する単位時間あたりの熱量が大きくなるため、効率的に発光チップにおける熱量を放熱することが可能となる。
また、本発明に係る光源装置においては、絶縁層と導電層とが積層されてなる配線基板を上記基台上に有し、上記第1電極は、上記配線基板が有する上記導電層であるという構成を採用することができる。このような構成を採用することによって、例えば、絶縁層を薄くし、導電層を発光チップの下面と接続することによって、本発明に係る光源装置をいわゆるフリップチップ実装型の光源装置に応用することができる。また、絶縁層を厚くし、導電層を延在させて発光チップの上面と接続することによって、ボンディングワイヤを用いずに発光チップの上面に通電することができる。
なお、本発明に係る光源装置をフリップチップ実装型の光源装置とする場合には、上記配線基板を上記基台上に形成された凹部に填め込むことによって、上記配線基板の上面と上記基台の上面とを同一の高さにすることが好ましい。このように、配線基板の上面と基台の上面とを同一の高さにすることによって、容易に発光チップを水平に配置することができる。
また、本発明に係る光源装置は、上記配線基板、すなわち上記第1電極を複数備えることが好ましい。このように複数の第1電極を備えることによって、各第1電極に流れる電流量を小さくすることができ、第1電極の電気抵抗を小さくすることができる。このため、第1電極における発熱をさらに抑止することが可能となる。
また、本発明に係る光源装置において、上記第1電極は、上記発光チップの端部近傍に接続されていることが好ましい。このように、第1電極を上記発光チップの端部近傍に接続することによって、第1電極、すなわち導電層の長さを短くすることができる。しがって、第1電極の電気抵抗を小さくすることが可能となり、第1電極における発熱をさらに抑止することが可能となる。また、第1電極が発光チップの上面と接続されている場合には、第1電極が発光チップの端部近傍に接続されることによって、発光チップの発光領域を広く確保することができる。
次に、本発明に係るプロジェクタは、本発明に係る光源装置を光源として用いることを特徴とする。
本発明に係る光源装置によれば、電極配線の電気抵抗に起因する無用な発熱が防止されるため、冷却系に対する余分な負荷が軽減され、発光チップの放熱効果を向上することができる。したがって、発光チップから射出する光量を増加させることができ、本発明に係るプロジェクタにおける明るさが向上される。また、本発明に係る光源装置によれば、大電流駆動に起因する電極配線の断線が防止されるため、本発明に係るプロジェクタにおける信頼性が向上される。
以下、図面を参照して、本発明に係る光源装置及びプロジェクタの一実施形態について説明する。なお、以下の図面において、各部材及び各層を認識可能な大きさとするために、各部材及び各層の縮尺を適宜変更している。
(第1実施形態)
図1は、本第1実施形態に係る光源装置の概略構成図であり、(b)が正面図、(a)が(b)におけるA−A’断面図である。この図1に示すように、本実施形態に係る光源装置1は、通電されることによって発光・発熱する発光チップ2を備えており、発光チップ2は金属材料によって形成される基台3に直接実装(支持)されている。そして、この基台3上には発光チップ2と略同一の厚みを有する絶縁層4が配置されており、この絶縁層4の上面には当該絶縁層4の上面から延在して発光チップ2の上面と接続される上側電極5(第1電極)が配置されている。そして、上側電極5上には接続材8が配置されている。この接続材8としては、導電性を有する材料であれば使用することができるが、製造時における形状変形が容易な半田や導電性接着剤を使用することが好ましい。なお、本発明における配線基板は、本実施形態において絶縁層4と上側電極5(導電層)とから構成されている。
また基台3の内部には、冷却媒体Xが流れる流路31が形成されており、この流路31は、発光チップ2の下方に位置されている。なお、この流路31は、図1(b)における紙面垂直方向に延設されており、当該流路31に冷却媒体Xを流すポンプ(不図示)と接続されている。
基台3の上面には、接続材8の上面と略同一の上面を有する絶縁性のスペーサ9が配置されており、接続材8とスペーサ9との上には、発光チップ2を囲むように、円環状の反射鏡6(反射部)が形成されている。反射鏡6は、発光チップ2から側方に射出された光を、図1(a)における紙面上方(所定の射出方向)に反射する内面6a(反射面)を有しており、この内面6aはバンク状の斜面とされ、鏡面状態ないし高反射率とされている。また、この反射鏡6は導電性材料によって形成されており、上記接続材8を介して上側電極5と電気的に接続されている。すなわち、上側電極5は、反射鏡6を介して通電される。また、基台3の上面全体を覆うように、レンズ7が形成されている。レンズ7は、発光チップ2から放射状に射出された光を光源装置1における射出方向に集光するものである。そのため、レンズ7は、発光チップ21からの射出光が損なわれることなく透過する光学機能を有している材料、例えば、ガラスやアクリル樹脂、ポリカーボネート、エポキシ樹脂等の透明材料によって構成され、周辺部より中央部の厚さが厚い凸レンズとされている。また、図示するように、反射鏡6の外側(非発光チップ側)には、外部接続端子10が接続されており、反射鏡6は、この外部接続端子10を介して通電される。
発光チップ2は、pn接合部に電流が流れると発光するダイオード(LED)である。同じ半導体材料を接合したホモ接合型のLEDでは、発光部に注入されたキャリアに対する障壁がないため、キャリアが半導体中の拡散距離にまで広がってしまう。これに対して、異なる半導体材料を接合したヘテロ接合型のLEDでは、キャリアに対する障壁を構造中に作りこむため、発光部に注入されるキャリアの密度を大幅に増大させることができる。特に、クラッド層の間に発光層を挟み込んだダブルヘテロ接合型のLEDでは、発光層の幅が狭いほどキャリア密度を高めることが可能になり、内部量子効率を向上させることができる。一方、ホモ接合型のLEDでは、外界に接する材料と発光部の材料とが同じであるため、発光が自分自身の材料で吸収されてしまう。これに対して、ダブルヘテロ接合型のLEDでは、バンドギャップの広い材料からなるクラッド層の間にバンドギャップの狭い材料からなる発光層が挟み込まれているので、自己吸収が減少して光取り出し効率を向上させることができる。したがって、発光効率に優れたダブルヘテロ接合型のLEDを採用することが望ましい。
また、本第1実施形態における発光チップ2は、赤色光を発光するものであり、ガリウムヒ素(GaAs)等の基板上に、AlGaInP系の化合物半導体結晶を成長させることによって形成する。なお、GaAs基板は可視光を吸収するため、LEDの光取り出し効率の向上に限界がある。そこで、本実施形態における発光チップ2では、半導体結晶を成長させた後にGaAs基板を取り除き、発光波長に対して透明なガリウムリン(GaP)基板を高温高圧化で貼り付けることが望ましい。そして、n−GaPからなるクラッド層と、p−GaPのクラッド層との間に、AlGaInPの発光層を挟み込んだダブルヘテロ接合構造を採用する。
また、図示するように、発光チップ2は、基台3に接続するためのバンプ21と上側電極5に接続するためのバンプ22とを有している。そして、基台3と上側電極5は電源装置(不図示)と接続されており、発光チップ2は、基台3と上側電極5とを介して通電されることによって、発光・発熱する。
すなわち、基台3が下側電極(第2電極)としての機能を有しており、発光チップ2はその基台3上に直接実装されていることで、上側電極5と基台3(下側電極)とに挟み込まれた状態とされている。
上側電極5は、上述のように絶縁層4の上面から延在して、発光チップ2の上面の端部近傍に配置されたバンプ22と接続されている。ここで、絶縁層4が発光チップ2の厚みと略同一あるいは若干厚めの厚みを有しているため、図示するように、上側電極5を絶縁層4の上面から略水平に延在させることでバンプ22と接続することができる。したがって、従来のボンディングワイヤと異なり、容易に上側電極5の幅を太くし、電気抵抗を低くすることができる。また、上側電極5が発光チップ2の上面の端部近傍に配置されたバンプ22と接続されているため、発光チップ2の発光領域を広く確保することができる。
なお、上側電極5を形成する材料としては従来のボンディングワイヤと同様のAu、またはAgやCu等を用いることができる。Auを上側電極5の材料として用いた場合には、例えば上側電極5とバンプ22との接触部における上側電極5の腐食を防止することができる。しかしながら、本実施形態に係る上側電極5は、従来のボンディングワイヤよりも太いため、形成材料としてAuを用いた場合には、光源装置1の製造コストの増加につながる。したがって、Auとほぼ同一の電気抵抗を有し、安価なAgやCuあるいはAuメッキしたCuを用いることが好ましい。
このような構成を有する本第1実施形態に係る光源装置1の発光チップ2に基台3と上側電極5とを介して通電される場合には、上側電極5の電気抵抗が従来のボンディングワイヤより太いため、上側電極5における発熱を抑止することができる。したがって、本第1実施形態に係る光源装置1によれば、上側電極5の発熱を抑止するとともに、上側電極5の断線を防止することが可能となる。
そして、発光チップ2は、基台3と上側電極5とを介して通電されることによって、発光・発熱する。この際、発光チップ2が基台3上に直接実装されることによって、発光チップ2(高熱源)と低熱源が近接されるため、発光チップ2において発熱された熱量が効率的に放熱される。したがって、光源装置1の放熱効果を向上させることができる。また、本第1実施形態に係る光源装置1では、基台3の内部に流路31が形成され、この流路31内を冷却媒体Xが流れている。したがって、流れる冷却媒体Xが低熱源として用いられるため、光源装置1としての放熱効果がさらに高まる。
なお、発光チップ2において発光された光は、そのうち図1(a)における紙面上方に射出された光がそのままレンズ7を介して射出され、側方に射出された光が反射鏡6の内面6aにおいて反射された後にレンズ7を介して射出され、紙面下方に射出された光は基台3の上面に反射された後レンズ7を介して射出される。
このような本第1実施形態に係る光源装置1によれば、反射鏡6を介して上側電極5に通電される。このような反射鏡6は、従来のボンディングワイヤ等の細い電極配線よりも格段に広い断面積を有しており、これによって、通電による発熱量が細い電極配線よりも低い。したがって、本第1実施形態に係る光源装置1では、電極配線における無用な発熱を防止することができるため、冷却系に対する余分な負荷が軽減され、発光チップの放熱効果を向上することができる。また、電極配線における発熱が抑止されることによって、電極配線が溶解することを防止できるため、電極配線の断線を防止することが可能となる。
次に、図2〜図8を参照して、上記第1実施形態に係る光源装置1の製造方法について説明する。なお、図2〜図8において、(b)は正面図であり、(a)は(b)におけるA−A’断面図である。
まず、図2(a),(b)に示すように、流路31が内部に形成された基台3を用意する。このような基台3の形成方法としては、例えば、基台本体32に流路31に対応する溝を形成し、この溝が形成された基台本体3上に当該基台3本体と同じ材料によって形成された蓋部33を配置することによって形成することができる。
続いて、図3(a),(b)に示すように、バンプ21,22が形成された発光チップ2を基台3の上面の略中央部、すなわち、流路31上にバンプ21が基台3と接続されるように配置する。その後、図4(a),(b)に示すように、絶縁層4及び上側電極5が積層されてなる配線基板を基台3上に配置し、上側電極5とバンプ22とを接続する。そして、図5(a),(b)に示すように、上側電極5上に接続材8を配置する。次に、図6(a),(b)に示すように、発光チップ2の周辺の基台3上に複数のスペーサ9と接着剤を配置する。その後、図7に(a),(b)に示すように、スペーサ9及び接続材8上に反射鏡6を配置する。なお、ここで、上記接続材8として形状変形が容易な半田や導電性接着剤を使用している場合には、反射鏡6を配置する際に、容易に反射鏡6の傾きを変化させ、容易に反射鏡6の角度を微調整することが可能となり、反射鏡6の配置が容易となる。続いて、図8(a),(b)に示すように、基台3上にレンズ7を形成し、その後、反射鏡6の外側に外部接続端子10を接続することによって、図1に示す光源装置1が製造される。
(第2実施形態)
次に、図9を参照して、本発明の第2実施形態に係る光源装置について説明する。なお、本第2実施形態の説明において、上記第1実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化する。
図9は、本第2実施形態に係る光源装置40の概略構成図であり、(b)が正面図、(a)が(b)におけるA−A’断面図である。この図に示すように、本第2実施形態に係る光源装置では、2つの絶縁層4が発光チップ2の両端に配置されており、各絶縁層4から延在する上側電極5が各々バンプ22を介して発光チップ2の端部近傍に接続されている。このように発光チップ2の両端に上側電極5を接続することによって、各上側電極5に流れる電流量を小さくすることができる。このような本第2実施形態に係る光源装置40によれば、上記第1実施形態に係る光源装置1よりもさらに上側電極5全体の電気抵抗を低くすることができ、より確実に上側電極5の断線を防止することが可能となる。
(第3実施形態)
次に、図10を参照して、本発明の第3実施形態に係る光源装置について説明する。なお、本第3実施形態の説明においても、上記第1実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化する。
図10は、本第3実施形態に係る光源装置50の概略構成図であり、(b)が正面図、(a)が(b)におけるA−A’断面図である。この図に示すように、本第3実施形態に係る光源装置50では、2つの絶縁層4及び上側電極5が発光チップ2の両端に配置されており、さらに、絶縁層4の上面から延在する上側電極2を複数に分割し、これらの各々と上記発光チップ2の上面とが接続されている。このような本第3実施形態に係る光源装置50によれば、上記第2実施形態で示した光源装置40よりも上側電極2全体の電気抵抗は高くなるが、上側電極2が発光チップ2の発光領域を覆う部分が少なくなるため、より発光特性に優れた光源装置とすることが可能となる。
(第4実施形態)
次に、図11を参照して本発明の第4実施形態に係る光源装置について説明する。なお、本第4実施形態の説明においても、上記第1実施形態と同一の部分については、その説明を省略あるいは簡略化する。
図11は、本第4実施形態に係る光源装置60の概略構成図であり、(b)が正面図、(a)が(b)におけるA−A’断面図である。この図に示すように、本第4実施形態に係る光源装置60は、フリップチップ実装型の光源装置であり、青色光あるいは緑色光を射出するものである。
基台3上には、絶縁層61と導電層62(第1電極)とが積層されてなる配線基板66が配置されている。この配線基板66は、その上面が発光チップ63の下面よりも下方に位置するような厚みとされている。そして、本実施形態に係る発光チップ63は、基台3上に、いわゆるフリップチップ実装されている。具体的には、発光チップ63は、基台3と物理的及び電気的に接続されるバンプ64と、上記導電層62と物理的及び電気的に接続されるバンプ65を有しており、このバンプ64,65によって基台3上に支持されている。
この発光チップ63は、通電されることによって、青色光あるいは緑色光を射出するものであり、サファイヤ(Al)等の基板の表面に、GaInN系の化合物半導体結晶を成長させることによって形成する。そして、n−GaNからなるクラッド層と、p−GaNからなるクラッド層との間に、InGaNからなる発光層を挟み込んだダブルヘテロ接合構造を採用することが好ましい。
また、導電層62上には、接続材8が配置されており、基台3の上面には、接続材8の上面と略同一の上面を有する絶縁性のスペーサ9が配置されており、接続材8とスペーサ9との上には、発光チップ63を囲むように、円環状の反射鏡6(反射部)が形成されている。
そして、基台3と配線基板66の導電層62は電源装置(不図示)と接続されており、発光チップ63は基台3と配線基板66の導電層62とを介して通電されることによって発光・発熱する。すなわち、本第4実施形態においては、基台3及び導電層62とが発光チップ63に電流を注入するための電極としての機能を有している。
このような本第4実施形態に係る光源装置60においても、反射鏡6を介して導電層62に通電されるため、上記第1実施形態に係る光源装置1と同様の効果を奏することができる。
(第5実施形態)
次に、図12を参照して本発明の第5実施形態に係る光源装置70ついて説明する。なお、本第5実施形態の説明において、上記第4実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化する。
図12は、本第5実施形態に係る光源装置70の概略構成図であり、(b)が正面図、(a)が(b)におけるA−A’断面図である。この図に示すように、本第5実施形態に係る光源装置70の基台3の上部には、配線基板66が填め込まれる凹部34が形成されており、この凹部34に配線基板66が填め込まれることによって、導電層62の上面と基台3の上面とが同一の高さとなるようにされている。
このような本第5実施形態に係る光源装置70によれば、導電層62の上面と基台3の上面とが同一の高さとなるようにされているため、容易に発光チップ63を水平配置することができる。また、本第5実施形態に係る光源装置70によれば、バンプ64の厚みを薄くし、発光チップ63を基台3に近づけることができるため、より発光チップ63の冷却効率の良い光源装置とすることができる。
(第6実施形態)
次に、図13を参照して、本発明の第6実施形態に係る光源装置80について説明する。なお、本第6実施形態の説明において、上記第5実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化する。
図13は、本第6実施形態に係る光源装置80の概略構成図であり、(b)が正面図、(a)が(b)におけるA−A’断面図である。この図に示すように、本第6実施形態に係る光源装置80は、2つの配線基板66が発光チップ63の両端に配置されており、各配線基板66の導電層62が各々バンプ65を介して発光チップ63に接続されている。このように発光チップ63の両端に導電層62を接続することによって、各導電層62に流れる電流量を小さくすることができ、より確実に電極配線の断線を防止することが可能となる。
(第7実施形態)
次に、図14を参照して、本発明の第7実施形態に係るプロジェクタについて説明する。
図14は、本実施形態に係る光源装置を備えたプロジェクタの概略構成図である。図中、符号512,513,514は本実施形態の光源装置、522,523,524は液晶ライトバルブ(光変調手段)、525はクロスダイクロイックプリズム(色光合成手段)、526は投写レンズ(投写手段)を示している。
図14のプロジェクタは、本実施形態のように構成した3個の光源装置512,513,514を備えている。各光源装置512,513,514には、それぞれ赤(R)、緑(G)、青(B)に発光するLEDが採用されている。また、各光源装置512,513,514には、各々に対応する集光レンズ535が配置されている。
そして、赤色光源装置512からの光束は、集光レンズ535Rを透過して反射ミラー517で反射され、赤色光用液晶ライトバルブ522に入射する。また、緑色光源装置513からの光束は、集光レンズ535Gを透過して緑色光用液晶ライトバルブ523に入射する。また、青色光源装置514からの光束は、集光レンズ535Bを透過して反射ミラー516で反射され、青色光用液晶ライトバルブ524に入射する。
また、各液晶ライトバルブの入射側および射出側には、偏光板(不図示)が配置されている。そして、各光源からの光束のうち所定方向の直線偏光のみが入射側偏光板を透過して、各液晶ライトバルブに入射する。また、入射側偏光板の後方に偏光変換手段(不図示)を設けてもよい。この場合、入射側偏光板で反射された光束をリサイクルして各液晶ライトバルブに入射させることが可能になり、光の利用効率を向上させることができる。
各液晶ライトバルブ522,523,524によって変調された3つの色光は、クロスダイクロイックプリズム525に入射する。このプリズムは4つの直角プリズムを貼り合わせて形成され、その内面に赤色光を反射する誘電体多層膜と青色光を反射する誘電体多層膜とが十字状に配置されている。これらの誘電体多層膜によって3つの色光が合成され、カラー画像を表す光が形成される。そして、合成された光は投写光学系である投写レンズ526により投写スクリーン527上に投写され、拡大された画像が表示される。
上述した本実施形態の光源装置では、光源装置512,513,514の大電流駆動に起因する電極配線の電気抵抗による無用な発熱が防止されるため、冷却系に対する余分な負荷が軽減され、発光チップの放熱効果を向上することができる。したがって、発光チップから射出する光量を増加させることができ、明るさが向上されたプロジェクタとすることができる。また、電極配線における発熱が抑止されることによって、断線が防止されるので信頼性が向上されたプロジェクタとすることができる。
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る光源装置及びプロジェクタの好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されないことは言うまでもない。上述した実施形態において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
例えば、上記実施形態において、プロジェクタにおける光変調手段として、液晶ライトバルブを用いた。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、光変調手段として微小ミラーアレイデバイス等を用いることも可能である。
本発明の第1実施形態に係る光源装置の概略構成図である。 本発明の第1実施形態に係る光源装置の製造方法について説明するための図である。 本発明の第1実施形態に係る光源装置の製造方法について説明するための図である。 本発明の第1実施形態に係る光源装置の製造方法について説明するための図である。 本発明の第1実施形態に係る光源装置の製造方法について説明するための図である。 本発明の第1実施形態に係る光源装置の製造方法について説明するための図である。 本発明の第1実施形態に係る光源装置の製造方法について説明するための図である。 本発明の第1実施形態に係る光源装置の製造方法について説明するための図である。 本発明の第2実施形態に係る光源装置の概略構成図である。 本発明の第3実施形態に係る光源装置の概略構成図である。 本発明の第4実施形態に係る光源装置の概略構成図である。 本発明の第5実施形態に係る光源装置の概略構成図である。 本発明の第6実施形態に係る光源装置の概略構成図である。 本発明の第7実施形態に係るプロジェクタの概略構成図である。
符号の説明
1,40,50,60,70,80……光源装置、2,63……発光チップ、3……基台(第2電極)、31……流路、4……絶縁層、5……上側電極(第1電極)、6……反射鏡(反射部)、6a……内面(反射面)、8……接続材、61……絶縁層、62……導電層(第1電極)、66……配線基板、500……プロジェクタ

Claims (9)

  1. 第1電極と第2電極とを介して通電されることによって発光・発熱する発光チップと、該発光チップが実装される基台とを備える光源装置であって、
    前記基台上に配置されると共に上面に前記第1電極が配置される絶縁層と、
    該絶縁層の上面に配置された前記第1電極上に配置される導電性を有する接続材と、
    前記発光チップにおいて発光された光を所定の射出方向に反射する反射面を有し、かつ、導電性材料によって形成され、かつ、前記基台上に配置される絶縁性のスペーサ上に配置され、かつ、前記接続材を介して前記第1電極と電気的に接続される反射部と、
    該反射部に接続されると共に前記反射部に通電する外部接続端子と
    を備えることを特徴とする光源装置。
  2. 前記基台を前記第2電極として用いることを特徴とする請求項1記載の光源装置。
  3. 前記基台の内部には、冷却媒体が流れる流路が形成されることを特徴とする請求項1または2に記載の光源装置。
  4. 前記絶縁層と前記第1電極とによって配線基板が構成されていることを特徴とする請求項1〜3いずれかに記載の光源装置。
  5. 前記基台上に凹部を形成し、当該凹部に前記配線基板を填め込むことによって、前記配線基板の上面と前記基台上面とを同一の高さとすることを特徴とする請求項4記載の光源装置。
  6. 前記配線基板を複数備えることを特徴とする請求項4または5記載の光源装置。
  7. 前記第1電極は、前記発光チップの端部近傍に接続されていることを特徴とする請求項1〜6いずれかに記載の光源装置。
  8. 前記第1電極は、前記発光チップの前記基台に対して反対側に接続される上側電極であることを特徴とする請求項1〜7いずれかに記載の光源装置。
  9. 請求項1〜8いずれかに記載の光源装置を光源として用いることを特徴とするプロジェクタ。
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