JP4118961B2 - 新規なホスフィノピロリジン化合物及びその製造方法 - Google Patents
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- -1 phosphinopyrrolidine compound Chemical class 0.000 title claims description 136
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 39
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 173
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 160
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 claims description 32
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 31
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 claims description 28
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Natural products P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 25
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 22
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 claims description 21
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 18
- 239000012453 solvate Substances 0.000 claims description 14
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 12
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 10
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N borane Chemical compound B UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 93
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 77
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 53
- 229910000085 borane Inorganic materials 0.000 description 47
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 44
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 32
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 27
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 description 26
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 21
- FEJUGLKDZJDVFY-UHFFFAOYSA-N 9-borabicyclo(3.3.1)nonane Chemical compound C1CCC2CCCC1B2 FEJUGLKDZJDVFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 17
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 17
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 14
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 13
- 238000011914 asymmetric synthesis Methods 0.000 description 12
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- YBRBMKDOPFTVDT-UHFFFAOYSA-N tert-butylamine Chemical compound CC(C)(C)N YBRBMKDOPFTVDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 11
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 11
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 10
- UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N borane Chemical class [10BH3] UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N 0.000 description 10
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 10
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 10
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 10
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 9
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 9
- ZDQWVKDDJDIVAL-UHFFFAOYSA-N catecholborane Chemical compound C1=CC=C2O[B]OC2=C1 ZDQWVKDDJDIVAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LUHUASWMJCSDTG-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylboron Chemical compound C1CCCCC1[B]C1CCCCC1 LUHUASWMJCSDTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 description 8
- MPQAQJSAYDDROO-VMAIWCPRSA-N bis[(1r,3r,4s,5r)-4,6,6-trimethyl-3-bicyclo[3.1.1]heptanyl]boron Chemical compound C([C@H]([C@@H]1C)[B][C@@H]2C[C@@H]3C[C@@H](C3(C)C)[C@H]2C)[C@H]2C(C)(C)[C@@H]1C2 MPQAQJSAYDDROO-VMAIWCPRSA-N 0.000 description 8
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 8
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 7
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 7
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 7
- 0 **(C1)C(C**#*)CC1O Chemical compound **(C1)C(C**#*)CC1O 0.000 description 6
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001584 benzyloxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 6
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 6
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229940115458 pantolactone Drugs 0.000 description 6
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 5
- FRZKYCBWRQUFDF-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylphosphane;lithium Chemical compound [Li].C1CCCCC1PC1CCCCC1 FRZKYCBWRQUFDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- SERHXTVXHNVDKA-UHFFFAOYSA-N pantolactone Chemical compound CC1(C)COC(=O)C1O SERHXTVXHNVDKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- SIEVQTNTRMBCHO-UHFFFAOYSA-N pantolactone Natural products CC1(C)OC(=O)CC1O SIEVQTNTRMBCHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- SERHXTVXHNVDKA-BYPYZUCNSA-N (R)-pantolactone Chemical compound CC1(C)COC(=O)[C@@H]1O SERHXTVXHNVDKA-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 4
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 4
- PGSOMMUORUIGHT-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylphosphane;sodium Chemical compound [Na].C1CCCCC1PC1CCCCC1 PGSOMMUORUIGHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 4
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 3
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 3
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 3
- 125000005098 aryl alkoxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- OBTIDFCSHQLONE-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphane;lithium Chemical compound [Li].C=1C=CC=CC=1PC1=CC=CC=C1 OBTIDFCSHQLONE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 3
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 125000006253 t-butylcarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(C(*)=O)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- UJOCELPDGJCWDG-UCGGBYDDSA-N tert-butyl (2s,4s)-4-dicyclohexylphosphanyl-2-(diphenylphosphanylmethyl)pyrrolidine-1-carboxylate Chemical compound C([C@@H]1C[C@@H](CN1C(=O)OC(C)(C)C)P(C1CCCCC1)C1CCCCC1)P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 UJOCELPDGJCWDG-UCGGBYDDSA-N 0.000 description 3
- 125000002088 tosyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])S(*)(=O)=O 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 102100029801 Calcium-transporting ATPase type 2C member 1 Human genes 0.000 description 2
- 101000728145 Homo sapiens Calcium-transporting ATPase type 2C member 1 Proteins 0.000 description 2
- LOUPRKONTZGTKE-WZBLMQSHSA-N Quinine Chemical compound C([C@H]([C@H](C1)C=C)C2)C[N@@]1[C@@H]2[C@H](O)C1=CC=NC2=CC=C(OC)C=C21 LOUPRKONTZGTKE-WZBLMQSHSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005129 aryl carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 150000001720 carbohydrates Chemical class 0.000 description 2
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- IGMXXCSYLIDCLZ-OUTSHDOLSA-N dicyclohexyl-[(3s,5s)-5-(diphenylphosphanylmethyl)pyrrolidin-3-yl]phosphane Chemical compound C1CCCCC1P([C@H]1C[C@H](NC1)CP(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1CCCCC1 IGMXXCSYLIDCLZ-OUTSHDOLSA-N 0.000 description 2
- HDULBKVLSJEMGN-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylphosphane Chemical compound C1CCCCC1PC1CCCCC1 HDULBKVLSJEMGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphine Chemical compound C=1C=CC=CC=1PC1=CC=CC=C1 GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- PKDHKQOKIXBGNG-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylformamide;1,2-xylene Chemical compound CN(C)C=O.CC1=CC=CC=C1C PKDHKQOKIXBGNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 150000007523 nucleic acids Chemical class 0.000 description 2
- 102000039446 nucleic acids Human genes 0.000 description 2
- 108020004707 nucleic acids Proteins 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- GHOKWGTUZJEAQD-UHFFFAOYSA-N pantothenic acid Chemical compound OCC(C)(C)C(O)C(=O)NCCC(O)=O GHOKWGTUZJEAQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 102000004196 processed proteins & peptides Human genes 0.000 description 2
- 108090000765 processed proteins & peptides Proteins 0.000 description 2
- MHZSEPBBOTVGFW-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-1-ylphosphane Chemical class PN1CCCC1 MHZSEPBBOTVGFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- SERHXTVXHNVDKA-SCSAIBSYSA-N (3s)-3-hydroxy-4,4-dimethyloxolan-2-one Chemical compound CC1(C)COC(=O)[C@H]1O SERHXTVXHNVDKA-SCSAIBSYSA-N 0.000 description 1
- 125000006732 (C1-C15) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000229 (C1-C4)alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- HRTOQFBQOFIFEE-UHFFFAOYSA-N 2-dehydropantolactone Chemical compound CC1(C)COC(=O)C1=O HRTOQFBQOFIFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- HBAQYPYDRFILMT-UHFFFAOYSA-N 8-[3-(1-cyclopropylpyrazol-4-yl)-1H-pyrazolo[4,3-d]pyrimidin-5-yl]-3-methyl-3,8-diazabicyclo[3.2.1]octan-2-one Chemical class C1(CC1)N1N=CC(=C1)C1=NNC2=C1N=C(N=C2)N1C2C(N(CC1CC2)C)=O HBAQYPYDRFILMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000001258 Cinchona calisaya Nutrition 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJWYOLJPSHDSAL-UHFFFAOYSA-N Pantethine Natural products OCC(C)(C)C(O)C(=O)NCCC(=O)NCCSSCCNC(=O)CCNC(=O)C(O)C(C)(C)CO DJWYOLJPSHDSAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005135 aryl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 1
- MCQRPQCQMGVWIQ-UHFFFAOYSA-N boron;methylsulfanylmethane Chemical compound [B].CSC MCQRPQCQMGVWIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWTDFICHZKXYAC-UHFFFAOYSA-N boron;oxolane Chemical compound [B].C1CCOC1 UWTDFICHZKXYAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- RRKTZKIUPZVBMF-IBTVXLQLSA-N brucine Chemical compound O([C@@H]1[C@H]([C@H]2C3)[C@@H]4N(C(C1)=O)C=1C=C(C(=CC=11)OC)OC)CC=C2CN2[C@@H]3[C@]41CC2 RRKTZKIUPZVBMF-IBTVXLQLSA-N 0.000 description 1
- RRKTZKIUPZVBMF-UHFFFAOYSA-N brucine Natural products C1=2C=C(OC)C(OC)=CC=2N(C(C2)=O)C3C(C4C5)C2OCC=C4CN2C5C31CC2 RRKTZKIUPZVBMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000006309 butyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004744 butyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002668 chloroacetyl group Chemical group ClCC(=O)* 0.000 description 1
- LOUPRKONTZGTKE-UHFFFAOYSA-N cinchonine Natural products C1C(C(C2)C=C)CCN2C1C(O)C1=CC=NC2=CC=C(OC)C=C21 LOUPRKONTZGTKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006310 cycloalkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- XNYOSXARXANYPB-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylborane Chemical compound C1CCCCC1BC1CCCCC1 XNYOSXARXANYPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ILCLANVYOPHXJF-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphane;sodium Chemical compound [Na].C=1C=CC=CC=1PC1=CC=CC=C1 ILCLANVYOPHXJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004914 dipropylamino group Chemical group C(CC)N(CCC)* 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000031 ethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N([H])[*] 0.000 description 1
- 125000006125 ethylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002510 isobutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 125000005394 methallyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000000250 methylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 125000006216 methylsulfinyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)=O 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000002715 modification method Methods 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004708 n-butylthio group Chemical group C(CCC)S* 0.000 description 1
- 125000004706 n-propylthio group Chemical group C(CC)S* 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004043 oxo group Chemical group O=* 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 125000003232 p-nitrobenzoyl group Chemical group [N+](=O)([O-])C1=CC=C(C(=O)*)C=C1 0.000 description 1
- DJWYOLJPSHDSAL-ROUUACIJSA-N pantethine Chemical compound OCC(C)(C)[C@@H](O)C(=O)NCCC(=O)NCCSSCCNC(=O)CCNC(=O)[C@H](O)C(C)(C)CO DJWYOLJPSHDSAL-ROUUACIJSA-N 0.000 description 1
- 229960000903 pantethine Drugs 0.000 description 1
- 239000011581 pantethine Substances 0.000 description 1
- 235000008975 pantethine Nutrition 0.000 description 1
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- BZBAYMUKLAYQEO-UHFFFAOYSA-N phenylborane Chemical compound BC1=CC=CC=C1 BZBAYMUKLAYQEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006308 propyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003235 pyrrolidines Chemical class 0.000 description 1
- 229960000948 quinine Drugs 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- DYHSDKLCOJIUFX-UHFFFAOYSA-N tert-butoxycarbonyl anhydride Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)OC(=O)OC(C)(C)C DYHSDKLCOJIUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 125000000464 thioxo group Chemical group S=* 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004044 trifluoroacetyl group Chemical group FC(C(=O)*)(F)F 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011782 vitamin Substances 0.000 description 1
- 229940088594 vitamin Drugs 0.000 description 1
- 235000013343 vitamin Nutrition 0.000 description 1
- 229930003231 vitamin Natural products 0.000 description 1
- 150000003722 vitamin derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
- C07F9/553—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07F9/572—Five-membered rings
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Description
本発明は、不斉合成触媒の配位子であるホスフィノピロリジン化合物の新規な製造法及びその製造法で得られる新規な中間体に関する。該製造法により、複雑な多段階の製造工程を簡略化でき、さらにその方法に使用する製造装置も簡単なものにすることができる。
背景技術
パントラクトンは、医薬品などの合成原料として広く利用されているが、特にD−パントラクトン(R−(−)−パントラクトン)は医学上または生理学上重要なビタミンとして有用なD−パントテン酸やパンテチンの製造における中間体として知られている。パントラクトンの構造の中には不斉中心が存在しているため、化学的に合成した場合には、生成物の光学分割をしなければならない。すなわち、D−パントラクトンは化学的に合成されたD,L−パントラクトンを光学分割することにより製造されている。こうした光学分割を利用した合成法は煩雑であるばかりでなくコストもかかるという問題がある。特に光学分割には特殊な試薬などを必要としたり、その操作に熟練を要するなどの問題がある。すなわち、光学分割を利用する方法は、キニーネ、ブルシン等の高価な分割剤を必要とするものであり、D−パントラクトンの回収も容易でない等の欠点を有している。こうした問題点を解決する手法として、不斉合成反応を利用した製造法により、光学活性なパントラクトンを合成しようとする試みが提案されている(米国特許第4,879,389号明細書)。
米国特許第4,879,389号明細書に記載の方法では、ホスフィノピロリジン化合物を用いる不斉還元により、光学活性なパントラクトンを工業的に極めて優れた不斉収率等により得ることができることが報告されているが、その重要な試薬であるホスフィノピロリジン化合物を得るには全部で14工程という長い工程が必要であり、それが全体的なコストを上昇させるという問題があった。またそのホスフィノピロリジン化合物を合成する従来の工程のうちには、4位のジフェニルホスフィノ基のベンゼン核を還元してジシクロヘキシルホスフィノ基に変換する工程が必須であったが、その変換反応では高温高圧反応(例えば150℃、150気圧)をしなければならず、そのための特別な設備を設けなければならないという問題がある。特に工業的に製造をする場合には、それに適した設備とすることは容易なことではなく、さらにコストもかかることとなるし、製造時における危険性も大きい。ホスフィノピロリジン化合物は、このようにパントラクトンにおけるのみでなく広く光学活性化合物を不斉合成するのに用いられて、優れた試薬であるが、そのホスフィノピロリジン化合物を簡単に且つ効率良く、そして安価に合成することができれば、その試薬を用いて更に各種の不斉合成に応用することができることから、こうした目的に合った製造方法の開発が強く求められていた。
発明の開示
本発明者等は、ホスフィノピロリジン化合物を簡単に且つ効率良く合成することを目指して鋭意研究の結果、ホウ素化合物の存在下に反応を行い、リン原子を保護しながら反応を進めると、ホウ素化合物で保護されたジシクロヘキシルホスフィノ基をピロリジン核の4位に効率良く導入することができ、非常に短い工程で、なおかつフェニル核を高温高圧で還元するなどという工程を用いることなく目的の不斉合成触媒の配位子として有用なホスフィノピロリジン化合物を得ることができることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、
〔1〕 一般式(I)の化合物
〔式中、R1はイミノ基の保護基であり、そしてR2及びR3は、同一又は相異なり、それぞれ独立に水酸基の保護基である〕
をホスフィン金属化合物及びホウ素化合物で処理し、次いで得られた一般式(II)の化合物
〔式中、R1及びR2は、それぞれ上記と同様の置換基を意味し、そしてR4及びR5は、同一又は相異なり、それぞれ独立に置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である〕
をジシクロヘキシルホスフィン金属化合物及びホウ素化合物で処理し、次いで得られた一般式(III)の化合物
〔式中、R1、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕
を処理して錯化しているホウ素化合物を脱離せしめ、一般式(IV)の化合物
〔式中、R4及びR5は、上記と同様の置換基を意味し、R6は水素原子または上記R1と同様の置換基を意味する〕
を得ることを特徴とする製造方法;
〔2〕 一般式(III)の化合物〔式中、R1はイミノ基の保護基であり、そしてR4及びR5は、同一又は相異なり、それぞれ独立に置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である〕またはその溶媒和物;
〔3〕 一般式(II)の化合物〔式中、R1はイミノ基の保護基であり、R2は、水酸基の保護基であり、そしてR4及びR5は、同一又は相異なり、それぞれ独立に置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である〕をジシクロヘキシルホスフィン金属化合物及びホウ素化合物で処理して一般式(III)の化合物〔式中、R1、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕を得ることを特徴とする製造方法;
〔4〕 一般式(II)の化合物〔式中、R1はイミノ基の保護基であり、R2は、水酸基の保護基であり、そしてR4及びR5は、同一又は相異なり、それぞれ独立に置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である〕またはその溶媒和物;
〔5〕 一般式(I)の化合物〔式中、R1はイミノ基の保護基であり、そしてR2及びR3は、同一又は相異なり、それぞれ独立に水酸基の保護基である〕をホスフィン金属化合物及びホウ素化合物で処理し、次いで得られた一般式(II)の化合物〔式中、R1及びR2は、それぞれ上記と同様の置換基を意味し、そしてR4及びR5は、同一又は相異なり、それぞれ独立に置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である〕を得ることを特徴とする製造方法;及び
〔6〕 一般式(III)の化合物〔式中、R1はイミノ基の保護基であり、そしてR4及びR5は、同一又は相異なり、それぞれ独立に置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である〕を処理して錯化しているホウ素化合物を脱離せしめ、一般式(IV)の化合物〔式中、R4及びR5は、上記と同様の置換基を意味し、R6は水素原子または上記R1と同様の置換基を意味する〕を得ることを特徴とする製造方法を提供する。
さらに別の態様では、本発明は、
〔7〕 一般式(I)の化合物〔式中、R1は、カルボニル基を介する基またはイオウ原子を介する基を示し、そしてR2及びR3は、同一又は相異なり、それぞれ独立にイオウ原子を介する基を示す〕を一般式R4R5PMのホスフィン金属化合物〔式中、R4及びR5は、同一又は相異なり、それぞれ独立に置換基(例えば、アルキル基、アルコキシ基、モノ−,ジ−又はトリ−アルキル置換アミン基、ハロゲンなど)を有していてもよい芳香族炭化水素基(以下、該芳香族炭化水素基を単にR4a基という)で、Mは金属原子である〕及びボラン又はそのアルキル誘導体で処理し、次いで得られた一般式(II)の化合物〔式中、R1、R2、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕をジシクロヘキシルホスフィン金属化合物及びボラン又はそのアルキル誘導体で処理し、次いで得られた一般式(III)の化合物〔式中、R1、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕を、CH3SO3H、CF3SO3H、HBF4・O(CH3)2などの酸及びルイス酸からなる群から選ばれた処理剤で処理してリン−ホウ素結合を開裂せしめ、一般式(IV)の化合物〔式中、R4及びR5は、上記と同様の置換基を意味し、R6は水素原子または上記R1と同様の置換基を意味する〕を得ることを特徴とする上記〔1〕記載の製造方法;
〔8〕 一般式(I)の化合物〔式中、R1は、−CO−R1a(式中、R1aは、置換基を有していてもよい炭化水素基)、−COOR1b(式中、R1bは、置換基を有していてもよい炭化水素基)、−CONR1cR1d(式中、R1c及びR1dは、同一又は相異なり、それぞれ独立に水素原子または置換基を有していてもよい炭化水素基)または−S(O)nR1e(式中、R1eは、置換基を有していてもよい炭化水素基で、nは0、1または2を示す)を示し、そしてR2及びR3は、同一又は相異なり、それぞれ独立に−SO2R2a(式中、R2aは、置換基を有していてもよい炭化水素基を示す)を示す〕を一般式R4R5PMのホスフィン金属化合物〔式中、R4及びR5は、同一又は相異なり、それぞれ独立に置換基(例えば、アルキル基、アルコキシ基、モノ−,ジ−又はトリ−アルキル置換アミン基、ハロゲンなど)を有していてもよいアリール基(以下、該アリール基を単にR4b基という)を示し、Mは、金属原子である〕及びボラン又はそのアルキル誘導体で処理し、次いで得られた一般式(II)の化合物〔式中、R1、R2、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕をジシクロヘキシルホスフィン金属化合物及びボラン又はそのアルキル誘導体で処理し、次いで得られた一般式(III)の化合物〔式中、R1、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕を、CH3SO3H、CF3SO3H、HBF4・O(CH3)2などの酸及びルイス酸からなる群から選ばれた処理剤で処理してリン−ホウ素結合を開裂せしめ、一般式(IV)の化合物〔式中、R4及びR5は、上記と同様の置換基を意味し、R6は水素原子または上記R1と同様の置換基を意味する〕を得ることを特徴とする上記〔1〕記載の製造方法;及び
〔9〕 一般式(I)の化合物〔式中、R1は、炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基及び炭素数2〜6のアルキルカルボニル基からなる群から選ばれたもので、該基中のアルキル残基、アリール残基及びアラルキル残基は、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン、水酸基及びアミノ基からなる群から選ばれた置換基を有していてもよい(以下、該R1の基を単にR11基という)、そしてR2及びR3は、同一又は相異なり、それぞれ独立に炭素数1〜6のアルキルスルホニル基及びアリールスルホニル基からなる群から選ばれたもので、該基中のアルキル残基及びアリール残基は、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン、水酸基及びアミノ基からなる群から選ばれた置換基を有していてもよい(以下、該R2及びR3の基を単にR22基という)〕を一般式R4R5PMのホスフィン金属化合物〔式中、R4及びR5は、同一又は相異なり、それぞれ独立に置換基(例えば、炭素数1〜5の低級アルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、モノ−,ジ−又はトリ−炭素数1〜5のアルキル置換アミン基、ハロゲンなど)を有していてもよいフェニル基(以下、該フェニル基を単にR4c基という)を示し、Mは、金属原子である〕及びボラン、BH3・THF、BH3・S(CH3)2、ボランのアミン類との錯体(アミン類としては、NH3、t−ブチルアミン、ジメチルアミン、トリアルキルアミン、モルホリン、ピロリジン、ピペリジン、ピリジンなどからなる群から選ばれたもの)、ボラン誘導体(例えば、ThxBH2、IpcBH2、Ipc2BH、9−BBN、Sia2BH、Cy2BH、カテコールボランなど)、該ボラン誘導体のTHF、S(CH3)2、アミン類との錯体からなる群から選ばれたもので処理し、次いで得られた一般式(II)の化合物〔式中、R1、R2、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕をジシクロヘキシルホスフィン金属化合物並びにボラン、BH3・THF、BH3・S(CH3)2、ボランのアミン類との錯体(アミン類としては、NH3、t−ブチルアミン、ジメチルアミン、トリアルキルアミン、モルホリン、ピロリジン、ピペリジン、ピリジンなどからなる群から選ばれたもの)、ボラン誘導体(例えば、ThxBH2、IpcBH2、Ipc2BH、9−BBN、Sia2BH、Cy2BH、カテコールボランなど)及び該ボラン誘導体のTHF、S(CH3)2、アミン類との錯体からなる群から選ばれたもので処理し、次いで得られた一般式(III)の化合物〔式中、R1、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕を、CH3SO3H、CF3SO3H、HBF4・O(CH3)2などの酸からなる群から選ばれた処理剤で処理してリン−ホウ素結合を開裂せしめ、一般式(IV)の化合物〔式中、R4及びR5は、上記と同様の置換基を意味し、R6は水素原子または上記R1と同様の置換基を意味する〕を得ることを特徴とする上記〔1〕記載の製造方法;及び
〔10〕 一般式(I)の化合物〔式中、R1は、t−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、アセチル基及びp−メトキシベンジルオキシカルボニル基からなる群から選ばれ(以下、該R1の基を単にR12基という)、そしてR2及びR3は、同一又は相異なり、それぞれ独立にp−メチルフェニルスルホニル基(トシル基)及びメチルスルホニル基(メシル基)からなる群から選ばれる(以下、該R2及びR3の基を単にR23基という)〕を一般式R4R5PMのホスフィン金属化合物〔式中、R4及びR5は、同一又は相異なり、それぞれ独立に置換基(例えば、o−、m−又はp−メトキシ基、3,5−ジメチル−4−メトキシ基、4−ジメチルアミノ基、4−クロロ基など)を有していてもよいフェニル基(以下、該フェニル基を単にR4d基という)で、Mは、Li、Na、Kなどのアルカリ金属原子である〕並びに、ボラン、BH3・THF、BH3・S(CH3)2及びボランのアミン類との錯体(アミン類としては、NH3、t−ブチルアミン、ジメチルアミン、トリアルキルアミン、モルホリン、ピロリジン、ピペリジン、ピリジンなどからなる群から選ばれたもの)からなる群から選ばれたもので処理し、次いで得られた一般式(II)の化合物〔式中、R1、R2、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕をジシクロヘキシルホスフィンリチウム、ジシクロヘキシルホスフィンナトリウムなどのジシクロヘキシルホスフィンアルカリ金属化合物及びボランで処理し、次いで得られた一般式(III)の化合物〔式中、R1、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕をHBF4・O(CH3)2で処理してリン−ホウ素結合を開裂せしめ、一般式(IV)の化合物〔式中、R4及びR5は、上記と同様の置換基を意味し、R6は水素原子または上記R1と同様の置換基を意味する〕を得ることを特徴とする上記〔1〕記載の製造方法を提供する。
さらに別の態様では、本発明は、
〔11〕 一般式(III)の化合物〔式中、R1は、カルボニル基を介する基またはイオウ原子を介する基を示し、そしてR4及びR5は、R4a基と同様の置換基を意味する〕またはその溶媒和物であることを特徴とする上記〔2〕記載の化合物;
〔12〕 一般式(III)の化合物〔式中、R1は、−CO−R1a、−COOR1b、−CONR1cR1dまたは−S(O)nR1e(式中、R1a、R1b、R1c、R1d及びR1eは、上記と同様の置換基を意味し、nは0、1または2を示す)を示し、そしてR4及びR5は、R4b基と同様の置換基を意味する〕またはその溶媒和物であることを特徴とする上記〔2〕記載の化合物;
〔13〕 一般式(III)の化合物〔式中、R1は、R11基と同様の置換基を意味し、そしてR4及びR5は、R4c基と同様の置換基を意味する〕またはその溶媒和物であることを特徴とする上記〔2〕記載の化合物;及び
〔14〕 一般式(III)の化合物〔式中、R1は、R12基と同様の置換基を意味し、そしてR4及びR5は、R4d基と同様の置換基を意味する〕またはその溶媒和物であることを特徴とする上記〔2〕記載の化合物を提供する。
さらに別の態様では、本発明は、
〔15〕 一般式(II)の化合物〔式中、R1は、カルボニル基を介する基またはイオウ原子を介する基を示し、R2は、イオウ原子を介する基を示し、そしてR4及びR5は、R4a基と同様の置換基を意味する〕をジシクロヘキシルホスフィン金属化合物及びボラン又はそのアルキル誘導体で処理して一般式(III)の化合物〔式中、R1、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕を得ることを特徴とする上記〔3〕記載の製造方法;
〔16〕 一般式(II)の化合物〔式中、R1は、−CO−R1a、−COOR1b、−CONR1cR1dまたは−S(O)nR1e(式中、R1a、R1b、R1c、R1d及びR1eは、上記と同様の置換基を意味し、nは0、1または2を示す)を示し、R2は、−SO2R2a(式中、R2aは、上記と同様の置換基を意味する)を示し、そしてR4及びR5は、R4b基と同様の置換基を意味する〕をジシクロヘキシルホスフィン金属化合物及びボラン又はそのアルキル誘導体で処理して一般式(III)の化合物〔式中、R1、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕を得ることを特徴とする上記〔3〕記載の製造方法;
〔17〕 一般式(II)の化合物〔式中、R1は、R11基と同様の置換基を意味し、R2は、R22基と同様の置換基を意味し、そしてR4及びR5は、R4c基と同様の置換基を意味する〕をジシクロヘキシルホスフィン金属化合物並びにボラン、BH3・THF、BH3・S(CH3)2、ボランのアミン類との錯体(アミン類としては、NH3、t−ブチルアミン、ジメチルアミン、トリアルキルアミン、モルホリン、ピロリジン、ピペリジン、ピリジンなどからなる群から選ばれたもの)、ボラン誘導体(例えば、ThxBH2、IpcBH2、Ipc2BH、9−BBN、Sia2BH、Cy2BH、カテコールボランなど)、該ボラン誘導体のTHF、S(CH3)2、アミン類との錯体からなる群から選ばれたもので処理して一般式(III)の化合物〔式中、R1、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕を得ることを特徴とする上記〔3〕記載の製造方法;及び
〔18〕 一般式(II)の化合物〔式中、R1は、R12基と同様の置換基を意味し、R2は、R23基と同様の置換基を意味し、そしてR4及びR5は、R4d基と同様の置換基を意味する〕をジシクロヘキシルホスフィン金属化合物並びにボラン、BH3・THF、BH3・S(CH3)2及びボランのアミン類との錯体(アミン類としては、NH3、t−ブチルアミン、ジメチルアミン、トリアルキルアミン、モルホリン、ピロリジン、ピペリジン、ピリジンなどからなる群から選ばれたもの)からなる群から選ばれたもので処理して一般式(III)の化合物〔式中、R1、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕を得ることを特徴とする上記〔3〕記載の製造方法を提供する。
さらに別の態様では、本発明は、
〔19〕 一般式(II)の化合物〔式中、R1は、カルボニル基を介する基またはイオウ原子を介する基を示し、R2は、イオウ原子を介する基を示し、そしてR4及びR5は、R4a基と同様の置換基を意味する〕またはその溶媒和物であることを特徴とする上記〔4〕記載の化合物;
〔20〕 一般式(II)の化合物〔式中、R1は、−CO−R1a、−COOR1b、−CONR1cR1dまたは−S(O)nR1e(式中、R1a、R1b、R1c、R1d及びR1eは、上記と同様の置換基を意味し、nは0、1または2を示す)を示し、R2は、−SO2R2a(式中、R2aは、上記と同様の置換基を意味する)を示し、そしてR4及びR5は、R4b基と同様の置換基を意味する〕またはその溶媒和物であることを特徴とする上記〔4〕記載の化合物;
〔21〕 一般式(II)の化合物〔式中、R1は、R11基と同様の置換基を意味し、R2は、R22基と同様の置換基を意味し、そしてR4及びR5は、R4c基と同様の置換基を意味する〕またはその溶媒和物であることを特徴とする上記〔4〕記載の化合物;及び
〔22〕 一般式(II)の化合物〔式中、R1は、R12基と同様の置換基を意味し、R2は、R23基と同様の置換基を意味し、そしてR4及びR5は、R4d基と同様の置換基を意味する〕またはその溶媒和物であることを特徴とする上記〔4〕記載の化合物を提供する。
さらに別の態様では、本発明は、
〔23〕 一般式(I)の化合物〔式中、R1は、カルボニル基を介する基またはイオウ原子を介する基を示し、そしてR2及びR3は、同一又は相異なり、それぞれ独立にイオウ原子を介する基を示す〕を一般式R4R5PMのホスフィン金属化合物〔式中、R4及びR5は、R4a基と同様の置換基を意味し、Mは金属原子である〕及びボラン又はそのアルキル誘導体で処理し、次いで得られた一般式(II)の化合物〔式中、R1、R2、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を示す〕を得ることを特徴とする上記〔5〕記載の製造方法;
〔24〕 一般式(I)の化合物〔式中、R1は、−CO−R1a、−COOR1b、−CONR1cR1dまたは−S(O)nR1e(式中、R1a、R1b、R1c、R1d及びR1eは、上記と同様の置換基を意味し、nは0、1または2を示す)を示し、そしてR2及びR3は、同一又は相異なり、それぞれ独立に−SO2R2a(式中、R2aは、上記と同様の置換基を意味する)を示す〕を一般式R4R5PMのホスフィン金属化合物〔式中、R4及びR5は、R4b基と同様の置換基を意味し、Mは、金属原子である〕及びボラン又はそのアルキル誘導体で処理し、次いで得られた一般式(II)の化合物〔式中、R1、R2、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を示す〕を得ることを特徴とする上記〔5〕記載の製造方法;
〔25〕 一般式(I)の化合物〔式中、R1は、R11基と同様の置換基を意味し、そしてR2及びR3は、R22基と同様の置換基を意味する〕を一般式R4R5PMのホスフィン金属化合物〔式中、R4及びR5は、R4c基と同様の置換基を意味し、Mは、Li、Na、Kなどのアルカリ金属原子である〕並びにボラン、BH3・THF、BH3・S(CH3)2、ボランのアミン類との錯体(アミン類としては、NH3、t−ブチルアミン、ジメチルアミン、トリアルキルアミン、モルホリン、ピロリジン、ピペリジン、ピリジンなどからなる群から選ばれたもの)、ボラン誘導体(例えば、ThxBH2、IpcBH2、Ipc2BH、9−BBN、Sia2BH、Cy2BH、カテコールボランなど)、該ボラン誘導体のTHF、S(CH3)2、アミン類との錯体からなる群から選ばれたもので処理し、次いで得られた一般式(II)の化合物〔式中、R1、R2、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を示す〕を得ることを特徴とする上記〔5〕記載の製造方法;及び
〔26〕 一般式(I)の化合物〔式中、R1は、R12基と同様の置換基を意味し、そしてR2及びR3は、R23基と同様の置換基を意味する〕を一般式R4R5PMのホスフィン金属化合物〔式中、R4及びR5は、R4d基と同様の置換基を意味し、Mは、Li、Na、Kなどのアルカリ金属原子である〕並びにボラン、BH3・THF、BH3・S(CH3)2及びボランのアミン類との錯体(アミン類としては、NH3、t−ブチルアミン、ジメチルアミン、トリアルキルアミン、モルホリン、ピロリジン、ピペリジン、ピリジンなどからなる群から選ばれたもの)からなる群から選ばれたもので処理し、次いで得られた一般式(II)の化合物〔式中、R1、R2、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を示す〕を得ることを特徴とする上記〔5〕記載の製造方法を提供する。
さらに別の態様では、本発明は、
〔27〕 一般式(III)の化合物〔式中、R1は、カルボニル基を介する基またはイオウ原子を介する基を示し、そして、R4及びR5は、R4a基と同様の置換基を意味する〕を、CH3SO3H、CF3SO3H、HBF4・O(CH3)2などの酸及びルイス酸からなる群から選ばれた処理剤で処理してリン−ホウ素結合を開裂せしめ、一般式(IV)の化合物〔式中、R4及びR5は、上記と同様の置換基を意味し、R6は水素原子または上記R1と同様の置換基を意味する〕を得ることを特徴とする上記〔6〕記載の製造方法;
〔28〕 一般式(III)の化合物〔式中、R1は、−CO−R1a、−COOR1b、−CONR1cR1dまたは−S(O)nR1e(式中、R1a、R1b、R1c、R1d及びR1eは、上記と同様の置換基を意味し、nは0、1または2を示す)を示し、そしてR4及びR5は、R4b基と同様の置換基を意味する〕を、CH3SO3H、CF3SO3H、HBF4・O(CH3)2などの酸及びルイス酸からなる群から選ばれた処理剤で処理してリン−ホウ素結合を開裂せしめ、一般式(IV)の化合物〔式中、R4及びR5は、上記と同様の置換基を意味し、R6は水素原子または上記R1と同様の置換基を意味する〕を得ることを特徴とする上記〔6〕記載の製造方法;
〔29〕 一般式(III)の化合物〔式中、R1は、R11基と同様の置換基を意味し、そしてR4及びR5は、R4c基と同様の置換基を意味する〕をCH3SO3H、CF3SO3H、HBF4・O(CH3)2などの酸からなる群から選ばれた処理剤で処理してリン−ホウ素結合を開裂せしめ、一般式(IV)の化合物〔式中、R4及びR5は、上記と同様の置換基を意味し、R6は水素原子または上記R1と同様の置換基を意味する〕を得ることを特徴とする上記〔6〕記載の製造方法;及び
〔30〕 一般式(III)の化合物〔式中、R1は、R12基と同様の置換基を意味し、そしてR4及びR5は、R4d基と同様の置換基を意味する〕をHBF4・O(CH3)2で処理してリン−ホウ素結合を開裂せしめ、一般式(IV)の化合物〔式中、R4及びR5は、上記と同様の置換基を意味し、R6は水素原子または上記R1と同様の置換基を意味する〕を得ることを特徴とする上記〔6〕記載の製造方法を提供する。
さらに別の態様では、本発明は、
〔31〕 一般式(I)の化合物〔式中、R1はイミノ基の保護基であり、そしてR2及びR3は、同一又は相異なり、それぞれ独立に水酸基の保護基である〕をホスフィン金属化合物及びホウ素化合物で処理し、次いで得られた一般式(II)の化合物〔式中、R1及びR2は、それぞれ上記と同様の置換基を意味し、そしてR4及びR5は、同一又は相異なり、それぞれ独立には置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である〕をジシクロヘキシルホスフィン金属化合物及びホウ素化合物で処理し、次いで得られた一般式(III)の化合物〔式中、R1、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕を処理して錯化しているホウ素化合物を脱離せしめ、得られた一般式(IV)の化合物〔式中、R4及びR5は、上記と同様の置換基を意味し、R6は水素原子または上記R1と同様の置換基を意味する〕においてR6が水素原子の場合、必要に応じて置換基R〔式中、Rは、イミノ基の保護基を示す〕を導入して、一般式(V)の化合物
〔式中、R4、R5及びRは、上記と同様の置換基を表す〕を得ることを特徴とする製造方法;
〔32〕 一般式(I)の化合物〔式中、R1は、カルボニル基を介する基またはイオウ原子を介する基を示し、そしてR2及びR3は、同一又は相異なり、それぞれ独立にイオウ原子を介する基を示す〕を一般式R4R5PMのホスフィン金属化合物〔式中、R4及びR5は、R4a基と同様の置換基を意味し、Mは金属原子である〕及びボラン又はそのアルキル誘導体で処理し、次いで得られた一般式(II)の化合物〔式中、R1、R2、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕をジシクロヘキシルホスフィン金属化合物及びボラン又はそのアルキル誘導体で処理し、次いで得られた一般式(III)の化合物〔式中、R1、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕を、CH3SO3H、CF3SO3H、HBF4・O(CH3)2などの酸及びルイス酸からなる群から選ばれた処理剤で処理してリン−ホウ素結合を開裂せしめ、一般式(IV)の化合物〔式中、R4及びR5は、上記と同様の置換基を意味し、R6は水素原子または上記R1と同様の置換基を意味する〕を得、該化合物においてR6が水素原子の場合、必要に応じて置換基R〔式中、Rは、カルボニル基を介する基またはイオウ原子を介する基を示す〕を導入して、一般式(V)の化合物〔式中、R4、R5及びRは、上記と同様の置換基を表す〕を得ることを特徴とする上記〔31〕記載の製造方法;
〔33〕 一般式(I)の化合物〔式中、R1は、−CO−R1a、−COOR1b、−CONR1cR1dまたは−S(O)nR1e(式中、R1a、R1b、R1c、R1d及びR1eは、上記と同様の置換基を意味し、nは0、1または2を示す)を示し、そしてR2及びR3は、同一又は相異なり、それぞれ独立に−SO2R2a(式中、R2aは、上記と同様の置換基を意味する)を示す〕を一般式R4R5PMのホスフィン金属化合物〔式中、R4及びR5は、R4b基と同様の置換基を意味し、Mは、金属原子である〕及びボラン又はそのアルキル誘導体で処理し、次いで得られた一般式(II)の化合物〔式中、R1、R2、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕をジシクロヘキシルホスフィン金属化合物及びボラン又はそのアルキル誘導体で処理し、次いで得られた一般式(III)の化合物〔式中、R1、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕を、CH3SO3H、CF3SO3H、HBF4・O(CH3)2などの酸及びルイス酸からなる群から選ばれた処理剤で処理してリン−ホウ素結合を開裂せしめ、一般式(IV)の化合物〔式中、R4及びR5は、上記と同様の置換基を意味し、R6は水素原子または上記R1と同様の置換基を意味する〕を得、該化合物においてR6が水素原子の場合、必要に応じて置換基R〔式中、Rは、−CO−R3a(式中、R3aは、置換基を有していてもよい炭化水素基)、−COOR3b(式中、R3bは、置換基を有していてもよい炭化水素基)、−CONR3cR3d(式中、R3c及びR3dは、同一又は相異なり、それぞれ独立に水素原子または置換基を有していてもよい炭化水素基)または−S(O)nR3e(式中、R3eは、置換基を有していてもよい炭化水素基で、nは0、1または2を示す)を示す〕を導入して、一般式(V)の化合物〔式中、R4、R5及びRは、上記と同様の置換基を表す〕を得ることを特徴とする上記〔31〕記載の製造方法;
〔34〕 一般式(I)の化合物〔式中、R1は、R11基と同様の置換基を意味し、そしてR2及びR3は、R22基と同様の置換基を意味する〕を一般式R4R5PMのホスフィン金属化合物〔式中、R4及びR5は、R4c基と同様の置換基を意味し、Mは、Li、Na、Kなどのアルカリ金属原子である〕並びにボラン、BH3・THF、BH3・S(CH3)2、ボランのアミン類との錯体(アミン類としては、NH3、t−ブチルアミン、ジメチルアミン、トリアルキルアミン、モルホリン、ピロリジン、ピペリジン、ピリジンなどからなる群から選ばれたもの)、ボラン誘導体(例えば、ThxBH2、IpcBH2、Ipc2BH、9−BBN、Sia2BH、Cy2BH、カテコールボランなど)、該ボラン誘導体のTHF、S(CH3)2、アミン類との錯体からなる群から選ばれたもので処理し、次いで得られた一般式(II)の化合物〔式中、R1、R2、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕をジシクロヘキシルホスフィンリチウム、ジシクロヘキシルホスフィンナトリウムなどのジシクロヘキシルホスフィンアルカリ金属化合物並びにボラン、BH3・THF、BH3・S(CH3)2、ボランのアミン類との錯体(アミン類としては、NH3、t−ブチルアミン、ジメチルアミン、トリアルキルアミン、モルホリン、ピロリジン、ピペリジン、ピリジンなどからなる群から選ばれたもの)、ボラン誘導体(例えば、ThxBH2、IpcBH2、Ipc2BH、9−BBN、Sia2BH、Cy2BH、カテコールボランなど)及び該ボラン誘導体のTHF、S(CH3)2、アミン類との錯体からなる群から選ばれたもので処理し、次いで得られた一般式(III)の化合物〔式中、R1、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕をCH3SO3H、CF3SO3H、HBF4・O(CH3)2などの酸及びルイス酸からなる群から選ばれた処理剤で処理してリン−ホウ素結合を開裂せしめ、一般式(IV)の化合物〔式中、R4及びR5は、上記と同様の置換基を意味し、R6は水素原子または上記R1と同様の置換基を意味する〕を得、該化合物においてR6が水素原子の場合、必要に応じて置換基R〔式中、Rは、炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基及び炭素数2〜6のアルキルカルボニル基からなる群から選ばれたもので、該基中のアルキル残基、アリール残基及びアラルキル残基は、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン、水酸基及びアミノ基からなる群から選ばれた置換基を有していてもよい〕を導入して、一般式(V)の化合物〔式中、R4、R5及びRは、上記と同様の置換基を表す〕を得ることを特徴とする上記〔31〕記載の製造方法;及び
〔35〕 一般式(I)の化合物〔式中、R1は、R12基と同様の置換基を意味し、そしてR2及びR3は、R23基と同様の置換基を意味する〕を一般式R4R5PMのホスフィン金属化合物〔式中、R4及びR5は、R4d基と同様の置換基を意味し、Mは、Li、Na、Kなどのアルカリ金属原子である〕並びにボラン、BH3・THF、BH3・S(CH3)2及びボランのアミン類との錯体(アミン類としては、NH3、t−ブチルアミン、ジメチルアミン、トリアルキルアミン、モルホリン、ピロリジン、ピペリジン、ピリジンなどからなる群から選ばれたもの)、ボラン誘導体(例えば、ThxBH2、IpcBH2、Ipc2BH、9−BBN、Sia2BH、Cy2BH、カテコールボランなど)及び該ボラン誘導体のTHF、S(CH3)2、アミン類との錯体からなる群から選ばれたもので処理し、次いで得られた一般式(II)の化合物〔式中、R1、R2、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕をジシクロヘキシルホスフィンリチウム、ジシクロヘキシルホスフィンナトリウムなどのジシクロヘキシルホスフィンアルカリ金属化合物並びにボラン、BH3・THF、BH3・S(CH3)2及びボランのアミン類との錯体(アミン類としては、NH3、t−ブチルアミン、ジメチルアミン、トリアルキルアミン、モルホリン、ピロリジン、ピペリジン、ピリジンなどからなる群から選ばれたもの)、ボラン誘導体(例えば、ThxBH2、IpcBH2、Ipc2BH、9−BBN、Sia2BH、Cy2BH、カテコールボランなど)及び該ボラン誘導体のTHF、S(CH3)2、アミン類との錯体からなる群から選ばれたもので処理し、次いで得られた一般式(III)の化合物〔式中、R1、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕をHBF4・O(CH3)2で処理してリン−ホウ素結合を開裂せしめ、一般式(IV)の化合物〔式中、R4及びR5は、上記と同様の置換基を意味し、R6は水素原子または上記R1と同様の置換基を意味する〕を得、該化合物においてR6が水素原子の場合、必要に応じて置換基R〔式中、Rは、t−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、アセチル基及びp−メトキシベンジルオキシカルボニル基からなる群から選ばれる〕を導入して、一般式(V)の化合物〔式中、R4、R5及びRは、上記と同様の置換基を表す〕を得ることを特徴とする上記〔31〕記載の製造方法を提供する。
本発明において、ピロリジン環の2位及び4位には光学活性中心の炭素原子が存在し、それぞれの立体配置に従い、光学異性体(あるいはエナンチオマー)及びジアステレオマーが存在する。ピロリジン環の2位及び4位の炭素原子の配位の組合わせとしては、(2S,4R)体、(2S,4S)体、(2R,4S)体及び(2R,4R)体が挙げられる。例えば、(2S,4R)体であるピロリジン環の2位及び4位炭素原子をもつ一般式(I)の化合物を原料として用いた場合、(2S,4R)体であるピロリジン環の2位及び4位炭素原子をもつ一般式(II)の化合物が得られ、そして(2S,4S)体であるピロリジン環の2位及び4位炭素原子をもつ一般式(III)の化合物及び一般式(IV)の化合物が得られる。同様に、一般式(I)の化合物において、(2R,4S)体を用いた場合、一般式(II)の化合物においては(2R,4S)体が、そして一般式(III)の化合物及び一般式(IV)の化合物においては(2R,4R)体が得られる。
発明を実施するための最良の形態
本発明は、一般式(IV)の不斉合成触媒ホスフィノピロリジン化合物の新規な製造法及びその製造法で得られる新規な一般式(II)及び/又は一般式(III)の中間体化合物を提供する。
上記置換基R1及びRは、イミノ基の保護基である。このイミノ基の保護基としては、一般の有機合成の分野で使用されるイミノ基の保護基であり、反応を阻害しないものであれば制限なく使用することができる。該イミノ基の保護基としては、通常の反応条件では安定であるが、特殊な条件または試薬により容易に離脱されるような保護基、あるいは必要とするイミノ基のみを選択的に保護しうることが知られているものであり、例えばペプチド、核酸、糖類に関係した保護基も使用することが可能である。イミノ基の保護としては、t−ブチルメチルシリール誘導体による保護、例えばトリベンジルシリール誘導体などのトリアラルキルシリール誘導体による保護、アシル基による保護などが挙げられる。
R1及びRは、カルボニル基を介する基またはイオウ原子を介する基であることができる。該イミノ基の保護基としては、例えばホルミル基、例えばアセチル基、クロロアセチル基、ジクロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、メトキシアセチル基、フェノキシアセチル基などの置換されていてもよいアルキルカルボニル基、例えばベンゾイル基、p−ニトロベンゾイル基などの置換されていてもよいアリールカルボニル基、例えばエトキシカルボニル基、β,β,β−トリクロロエトキシカルボニル基、β,β,β−トリブロモエトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基、トリチルオキシカルボニル基などのアルコキシカルボニル基、例えばフェノキシカルボニル基、p−ニトロフェノキシカルボニル基などの置換されていてもよいアリールオキシカルボニル基、例えばベンジロキシカルボニル基などの置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル基、例えばベンゼンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基などの置換されていてもよいアリールスルホニル基、例えばメチルスルホニル基などの置換されていてもよいアルキルスルホニル基、例えばメチルカルバモイル基、t−ブチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などの置換されていてもよいカルバモイル基などが挙げられる。
上記R及びR1におけるカルボニル基を介する基としては、例えば、式:−CO−Ra(式中、Raは、置換基を有していてもよい炭化水素基)、式:−COORb(式中、Rbは、置換基を有していてもよい炭化水素基)、式:−CONRcRd(式中、Rc及びRdは、同一又は相異なり、それぞれ独立に水素原子または置換基を有していてもよい炭化水素基)で表される基等が挙げられる。Ra、Rb、Rc及びRdで示される炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基などの炭素数1〜15のアルキル基、例えばビニル基、アリル基、2−メチルアリル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、3−オクテニル基などの炭素数2〜12のアルケニル基、例えばエチニル基、2−プロピニル基、3−ヘキシニル基などの炭素数2〜12のアルキニル基、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基などの炭素数3〜12のシクロアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルケニル基、例えばフェニル基、ナフチル基などの炭素数6〜12のアリール基、例えばベンジル基、フェニルエチル基、トリフェニルメチル基(トリチル基)などの炭素数7〜14のアラルキル基等が挙げられる。
また「置換基を有していてもよい炭化水素基」のその置換基としては、同一又は相異なるものであってよく、1個から複数個存在していてよく、上記したような炭素数1〜15のアルキル基、炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数2〜12のアルキニル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数7〜14のアラルキル基、ニトロ基、水酸基、メルカプト基、オキソ基、チオキソ基、シアノ基、カルバモイル基、カルボキシ基(例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などの炭素数1〜4のアルキル−カルボニル基など)、スルホ基、例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、t−ブトキシ基などの炭素数1〜4のアルコキシ基、例えばフェノキシ基などの炭素数6〜12のアリールオキシ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基などの炭素数1〜4のアルキルチオ基、例えばフェニルチオ基などの炭素数6〜12のアリールチオ基、例えばメチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基などの炭素数1〜4のアルキルスルフィニル基、例えば、フェニルスルフィニル基などの炭素数6〜12のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基などの炭素数1〜4のアルキルスルホニル基、例えば、フェニルスルホニル基などの炭素数6〜12のアリールスルホニル基、アミノ基、例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基などの炭素数2〜8のアシルアミノ基、例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基などのモノ−またはジ−炭素数1〜5アルキル置換アミノ基、例えばシクロヘキシルアミノ基などの炭素数3〜7のシクロアルキルアミノ基、例えばアニリノ基などの炭素数6〜12のアリールアミノ基、例えばアセチル基などの炭素数2〜8のアシル基、例えばベンゾイル基などの炭素数6〜12のアリール−カルボニル基などが挙げられる。上記R及びR1におけるイオウ原子を介する基としては、例えば、式:−S(O)n−Re(式中、Reは、置換基を有していてもよい炭化水素基を表し、nは0、1または2を表す)で表される基等が挙げられる。Reで示される炭化水素基としては、上記Ra、Rb、Rc及びRdで示された炭化水素基が挙げられる。
上記置換基R2及びR3は、同一又は相異なり、それぞれ独立に水酸基の保護基である。この水酸基の保護基としては、一般の有機合成の分野で使用される水酸基の保護基であり、反応を阻害しないものであれば制限なく使用することができる。該水酸基の保護基としては、通常の反応条件では安定であるが、特殊な条件または試薬により容易に離脱されるような保護基、あるいは必要とする水酸基のみを選択的に保護しうることが知られているものであり、例えばペプチド、核酸、糖類に関係した保護基も使用することが可能である。
該水酸基の保護基としては、例えばベンゼンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基などの置換されていてもよいアリールスルホニル基、例えばメチルスルホニル基などの置換されていてもよいアルキルスルホニル基などが特に好ましく、水酸基の脱離、さらにホスフィノ化が効率よく行われる。
R2及びR3は、同一又は相異なり、それぞれ独立にイオウ原子を介する基であることができる。R2及びR3におけるイオウ原子を介する基としては、例えば、式:−SO2−R2a(式中、R2aは、置換基を有していてもよい炭化水素基)で表される基等が挙げられる。R2aで示される炭化水素基としては、上記Ra、Rb、Rc及びRdで示された炭化水素基が挙げられる。
上記R4及びR5は、同一又は相異なり、それぞれ独立に置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である。該R4及びR5の「芳香族炭化水素基」としては、上記Ra、Rb、Rc及びRdで示される炭化水素基において示された、例えばフェニル基、ナフチル基などの炭素数6〜12のアリール基、例えばベンジル基、フェニルエチル基、トリフェニルメチル基(トリチル基)などの炭素数7〜14のアラルキル基等が挙げられる。「置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基」における置換基としては、同じく上記「置換基を有していてもよい炭化水素基」のその置換基として挙げられたものを用いることができる。好ましいR4及びR5としては、非置換芳香族炭化水素基または置換基(例えば、アルキル基、アルコキシ基、モノ−,ジ−又はトリ−アルキル置換アミノ基、ハロゲンなど)を有していてもよい芳香族炭化水素基などが挙げられ、より好ましいものとしては、フェニル基または置換基(例えば、アルキル基、アルコキシ基、モノ−,ジ−又はトリ−アルキル置換アミノ基、ハロゲンなど)を有していてもよいフェニル基などが挙げられる。特に好適には、R4及びR5としては、同一であって、例えば、o−、m−又はp−メトキシフェニル基、3,5−ジメチル−4−メトキシフェニル基、4−ジメチルアミノフェニル基、4−クロロフェニル基などの置換基を有していてもよいフェニル基が挙げられる。
一般式(I)の化合物から一般式(II)の化合物を製造する工程で用いられるホスフィン金属化合物としては、当該有機合成の分野で置換基−OR3と置換反応させて、基−PR4R5を導入することができることが知られているものを使用することができ、例えば、一般式R4R5PMのホスフィン金属化合物〔式中、R4及びR5は上記と同義で、Mは金属原子である〕などが挙げられる。特に好ましくは、一般式(R4)2PMのホスフィン金属化合物〔式中、R4は、上記と同義で、Mは金属原子である〕が挙げられる。該一般式R4R5PMのホスフィン金属化合物は、相当するホスフィンハロゲン化物を、金属(例えばナトリウム、リチウム、カリウムなどのアルカリ金属など)と反応させて得ることもできるが、通常は当該分野で試薬として市販されているものを利用することができる。該ホスフィン金属化合物としては、例えばジフェニルホスフィンリチウム(Ph2P−Li)、ジフェニルホスフィンナトリウム(Ph2P−Na)などが挙げられる。
一般式(I)の化合物から一般式(II)の化合物を製造する工程及び一般式(II)の化合物から一般式(III)の化合物を製造する工程においてそれぞれ用いられるホウ素化合物は、同一又は相異なっていてよく、ボラン(BH3)、ボランのテトラヒドロフラン(THF)配位体(BH3・THF)、ボランのジメチルスルフィド(S(CH3)2)配位体(BH3・S(CH3)2)、ボランのアミン類(NH3、t−ブチルアミン、ジメチルアミン、トリアルキルアミン、モルホリン、ピロリジン、ピペリジン、ピリジンなど)との錯体、ボラン誘導体(例えば、セキシルボラン(テキシルボラン;(CH3)2CHC(CH3)2BH2)(ThxBH2)、モノイソピノカンフェニルボラン(IpcBH2-)、ジイソピノカンフェニルボラン(Ipc2BH)、9−ボラビシクロ〔3.3.1〕ノナン(9−BBN)、ジシアミルボラン(〔(CH3)2CHCH(CH3)〕2BH)(Sia2BH)、ジシクロヘキシルボラン(Cy2BH)、カテコールボランなど)、ボラン誘導体のTHF、S(CH3)2、アミン類との錯体などを挙げることができる。例えば、BH3、BH3・THF、BH3・S(CH3)2、ボラン・モルホリン錯塩、ボラン・ピロリジン錯塩、ボラン・ピペリジン錯塩、ボラン・トリアルキルアミン錯塩などが好ましい。より好ましくは、BH3・THF、BH3・S(CH3)2などが挙げられる。該ホウ素化合物は、通常例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどの非プロトン溶媒の溶液として反応に用いることができる。またアミン類との錯体の場合には、さらに通常の溶媒、アルコール、水などをその溶媒として用いることができる。好適には、BH3・THFのテトラヒドロフラン溶液、BH3・S(CH3)2のテトラヒドロフラン溶液を用いることができる。通常は当該分野で試薬として市販されているものを利用することができる。
一般式(I)の化合物は、例えば、米国特許第4,879,389号明細書に記載の方法あるいはそれと類似の方法などにより得ることができる。
一般式(I)の化合物から一般式(II)の化合物を製造する工程及び一般式(II)の化合物から一般式(III)の化合物を製造する工程においては、反応は溶媒中で行うのが好ましく、溶媒としては非プロトン溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、メチル・t−ブチルエーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)等が挙げられる。これらは1種または2種以上を適当な割合で混合して適宜使用できる。
一般式(II)の化合物を製造する工程においては、ホスフィン金属化合物とホウ素化合物は、段階的に作用させてもよいし、あるいは一度に作用させることもでき、選択的に一級水酸基をホスフィノ基に置換する。この工程においては、反応は極めて低温下に行うのが好ましいが、反応温度としては、約−70℃〜+10℃、好ましくは約−60℃〜−20℃、より好ましくは約−50℃〜−30℃、さらに好ましくは約−40℃である。
代表的な方法では、次の工程式で表されるようにして反応が行われる。
上記において、ジトシレート化合物[I′]をテトラヒドロフラン中、約−40℃でジフェニルホスフィンリチウムを作用させると、その一級水酸基を選択的にジフェニルホスフィノ基に置換することができ、次いでボランを作用させることにより、化合物[II′]を得る。上記反応において、代表的な反応条件は
1)溶媒;テトラヒドロフラン、イソプロピルエーテル、ジエチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、ベンゼン、トルエン、キシレン DMF
2)試薬;Ph2P−Li、Ph2P−Na、Ph2P−K、他
3)温度;−40℃、−70〜+10℃
4)時間;16hrs、2〜24hrs
である。上記においてジフェニルホスフィン化工程で生成する化合物[II′]のリン原子はボランのホウ素原子と錯結合し、保護されている。したがって空気中の酸素に接触し酸化されて、酸化化合物が副生することはない。ジフェニルホスフィンリチウム及びボランを段階的に作用させるか、あるいは一度に作用させることにより、選択的に一級水酸基をホスフィノ基に置換できる。上記反応式では、(2S,4R)体であるピロリジン環の2位及び4位炭素原子をもつ一般式(I)の化合物を原料として用いた場合を示してあるが、その他の立体配置を有するものを使用することができることはいうまでもない。
一般式(II)の化合物から一般式(III)の化合物を製造する工程において用いられるジシクロヘキシルホスフィン金属化合物としては、例えばナトリウム、リチウム、カリウムなどのアルカリ金属などのジシクロヘキシルホスフィンを好適に用いることができる。ジシクロヘキシルホスフィン金属化合物は、相当するホスフィンハロゲン化物を、金属(例えばナトリウム、リチウム、カリウムなどのアルカリ金属など)と反応させて得ることもできるが、通常は当該分野で試薬として市販されているものを利用することができる。該ホスフィン金属化合物としては、例えばジシクロヘキシルホスフィンリチウム(Cy2P−Li)、ジシクロヘキシルホスフィンナトリウム(Cy2P−Na)などが挙げられる。
一般式(II)の化合物から一般式(III)の化合物を製造する工程においては、ジシクロヘキシルホスフィン金属化合物とホウ素化合物は、一般式(II)の化合物を製造する工程よりはより高い温度で反応させることが好ましく、二級水酸基をホスフィノ基に置換できる。この工程においては、反応は通常低温下から常温で行うことができ、例えば反応温度としては、約0℃〜40℃、好ましくは約5℃〜30℃、より好ましくは約10℃〜25℃、さらに好ましくは約20℃である。
代表的な方法では、次の工程式で表されるようにして反応が行われる。
上記において、ジフェニルホスフィン・ボラン錯体化合物[II′]に、テトラヒドロフラン中、ジシクロヘキシルホスフィンリチウム及びボランを作用させることにより、二級水酸基をジシクロヘキシルホスフィノ基に置換した化合物
[III′]が得られる。上記反応において、代表的な反応条件は
1)溶媒;テトラヒドロフラン、イソプロピルエーテル、ジエチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、ベンゼン、トルエン、キシレン DMF
2)試薬;Cy2P−Li、Cy2P−Na、Cy2P−K、他
3)温度;20℃、0〜40℃
4)時間;16hrs、2〜24hrs
である。上記においてジシクロヘキシルホスフィノ化工程で生成する化合物[III′]のリン原子はボランのホウ素原子と錯結合し、保護されている。したがって空気中の酸素に接触し酸化され、酸化化合物が副生することはない。上記反応式では、(2S,4R)体であるピロリジン環の2位及び4位炭素原子をもつ一般式(II)の化合物を用いた場合を示してあり、(2S,4S)体であるピロリジン環の2位及び4位炭素原子をもつ一般式(III)の化合物が得られることが示してあるが、その他の立体配置を有するものを使用することができ、それに対応した配置を持つ化合物が得られることはいうまでもない。
一般式(III)の化合物から一般式(IV)の化合物を製造する工程においては、リン原子の上に錯化しているホウ素化合物を脱離せしめることのできる方法を制限なく使用できる。こうした処理に用いることのできるものとしては、CH3SO3H、CF3SO3H、HBF4・O(CH3)2などの酸、ルイス酸などを挙げることができる。ルイス酸は、電子対と結合するものである。本発明においては、リン原子とホウ素原子の結合を開裂することが知られたものであれば、これを使用することができる。一般式(IV)の化合物のピロリジン環の窒素原子上のイミノ保護基は脱離せしめられて水素原子となる場合もあるし、またそのまま残る場合もある。
代表的な方法では、次の工程式で表されるようにして反応が行われる。
上記において、化合物[III′]をジクロロメタン中、HBF4OMeを作用し、脱ボラン化を行い、化合物[IV′]を高収率で得る。なお代表的には上記反応式中、R6は、水素原子またはt−ブトキシカルボニル基を表す。上記反応において、代表的な反応条件は
1)溶媒;ジクロロメタン、ジクロロエタン、ベンゼン、トルエン
2)試薬;HBF4OMe2、CH3SO3H、CF3SO3H
3)温度;20℃、−5℃〜40℃
4)時間;12hrs、1〜24hrs
である。ジフェニルホスフィノ基のリン原子に錯結合しているボランは、例えばモルホリン、ジエチルアミン等の2級アミンで脱離するが、ジシクロヘキシルホスフィノ基のリン原子に錯結合しているボランは外れない。しかしながら、本発明にしたがい、上記の如き酸及びルイス酸では容易に外すことができる。上記反応式では、(2S,4S)体であるピロリジン環の2位及び4位炭素原子をもつ一般式(III)の化合物から、(2S,4S)体であるピロリジン環の2位及び4位炭素原子をもつ一般式(IV)の化合物が得られる(ピロリジン環の2位及び4位炭素原子の立体配置は保持されている)ことが示してあるが、その他の立体配置を有するものを使用することができ、それに対応した配置を持つ化合物が得られることはいうまでもない。
こうして得られた一般式(IV)の化合物は、R6が水素原子などの場合、必要に応じてイミノ基を保護することができる。イミノ基を保護するためには、上記したイミノ保護基のエステル反応性化合物、例えば炭酸エステル、ハロゲン誘導体、酸無水物などを用いることができるが、当該分野で知られた方法、例えば、米国特許第4,879,389号明細書に記載の方法あるいはそれの改変方法を用いて行うことができる。こうして一般式(V)の化合物を得ることができる。
本発明に従った合成工程を、その代表的な試薬とともに次の式にフローシートとして示す。
上記フローシートに記載の化合物の代表的な置換基は、例えば、
R1:イミノ基の保護基(t−ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ベンゾイル基、p−メトキシベンジルオキシカルボニル基、アセチル基、t−ブチルカルボニル基、メチルカルバモイル基、t−ブチルカルバモイル基など);
R2、R3:水酸基の保護基(トシル基、メシル基など)
ここで、R2とR3は同じであってもよいし、相異なっていてもよい;
R4:置換基を有していてもよいフェニル基、置換基としては、アルコキシ基、アルキル基、ハロゲン、置換アミノ基などである(置換基の具体例としては、o、m又はp−メトキシ、3,5−ジメチル−4−メトキシ、4−ジメチルアミノ、4−クロロなど);
R6:水素原子またはイミノ基の保護基(t−ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ベンゾイル基、p−メトキシベンジルオキシカルボニル基、アセチル基、t−ブチルカルボニル基、メチルカルバモイル基、t−ブチルカルバモイル基など);
R:イミノ基の保護基(t−ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ベンゾイル基、p−メトキシベンジルオキシカルボニル基、アセチル基、t−ブチルカルボニル基、メチルカルバモイル基;t−ブチルカルバモイル基など);
が挙げられる。
一般式(II)の化合物、一般式(III)の化合物、一般式(IV)の化合物の溶媒和物としては、例えば非プロトン溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、メチル・t−ブチルエーテルなどのエーテル類との溶媒和物などが挙げられる。本発明においては、一般式(II)の化合物、一般式(III)の化合物、一般式(IV)の化合物は単離することなく次の工程に用いることができ、例えば、米国特許第4,879,389号明細書に開示の方法あるいはそれに類似の方法で、ピロリジン環のN原子に基Rを導入することができる。
本発明の前述した種々の態様を利用することにより、不斉合成触媒の配位子として有用なホスフィノピロリジン化合物を得ることができ、更には新規で有用なホスフィノピロリジン化合物(一般式(II)の化合物及び一般式(III)の化合物)を得ることができる。特に本発明で得られるホスフィノピロリジン化合物は、それを配位子としたロジウム錯体触媒などの金属錯体触媒形成に用いられ、その金属錯体触媒は不斉還元反応に用いられて有用である。こうしたホスフィノピロリジン化合物は、例えば、ピロリジン環の2位及び4位炭素原子として(2S,4S)配置であるものなどの光学活性体が好適に使用できるので、本発明では出発原料として特定の立体配置の光学活性体などを用い、対応する目的化合物を光学活性体として得ることは好ましい。例えば、米国特許第4,879,389号明細書に開示の方法あるいはそれに類似の方法で、ケトパントラクトンからのD−パントラクトン合成などの不斉合成に使用できる。本発明ではさらに効率的な不斉合成システムなどの種々の技術手段を提供することができる。以下に実施例を掲げ、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されず、本明細書の思想に基づく様々な実施形態が可能であることは理解されるべきである。なお、明細書及び図面において、用語は、当該分野において慣用的に使用される用語の意味に基づくものである。
Cy: シクロヘキシル基
Ts: トシル基
Me: メチル基
BOC:t−ブトキシカルボニル基
Ph: フェニル基
t−Bu:t−ブチル基
実施例
以下に実施例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されること無く様々な態様が含まれることは理解されるべきである。
実施例1
(2S,4R)−N−tert−ブトキシカルボニル−4−トシルオキシ−2−ジフェニルホスフィノメチルピロリジンボラン錯塩[II′]の製造
ジフェニルホスフィン0.35ml(2.0ミリモル)をテトラヒドロフラン3mlに溶解し、アルゴン雰囲気下、−40℃でn−ブチルリチウムのヘキサン(1.57M)溶液1.27ml(2.0ミリモル)を滴下する。同温度で15分間撹拌した後、得られた赤色溶液を(2S,4R)−N−tert−ブトキシカルボニル−4−ヒドロキシプロリノールジトシレート[I′]1.05g(2.0ミリモル)をテトラヒドロフラン5mlに溶解した溶液にゆっくり滴下する。滴下後、同温度で16時間撹拌する。次いで溶媒を減圧留去しボランのテトラヒドロフラン(1.0M)溶液2.0ml(2.0ミリモル)をアルゴン雰囲気下、氷冷しながら滴下する。同温度で15分間撹拌した後、さらに室温で3時間撹拌する。溶媒を減圧留去し、氷冷下残留物に水を加え、トルエンで抽出する。トルエン層を飽和重曹水・飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。後、溶媒を留去し、残留物をシリカゲルクロマトグラフィー(展開溶媒、トルエン:酢酸エチル=10:1)で精製し化合物[II′]の白色結晶を得る。0.7g(67%),mp135〜138℃
1H−NMR(CDCl3)ppm;1.42(9H,s,t−Bu−),2.45(3H,s,P−CH3),3.19〜4.21(7H,m,−CH2NCH(CH2)CH2−),4.89(1H,brs,TsO−CH),7.15〜7.92(14H,m,Ar−H)
実施例2
(2S,4S)−N−tert−ブトキシカルボニル−4−ジシクロヘキシルホスフィノ−2−ジフェニルホスフィノメチルピロリジンジボラン錯塩[III′]の製造
ジシクロヘキシルホスフィン59mg(0.3ミリモル)をテトラヒドロフラン2mlに溶解し、氷冷下、アルゴン雰囲気にてボランのテトラヒドロフラン(1.0M)溶液0.3ml(0.3ミリモル)を滴下した。4時間撹拌後n−ブチルリチウムのヘキサン(1.63M)溶液0.25ml(0.4ミリモル)を氷冷下で滴下した。同温度で15分間撹拌した後、(2S,4R)−N−tert−ブトキシカルボニル−4−トシルオキシ−2−ジフェニルホスフィノメチルピロリジンボラン錯塩[II′]111mg(0.2ミリモル)をテトラヒドロフラン2mlに溶解した溶液をゆっくり滴下する。氷冷下で30分撹拌した後、さらに室温にて一晩撹拌する。溶媒を減圧留去し残留物に水を加え、トルエンで抽出する。トルエン層を飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。乾燥後、溶媒を留去し、残留物をシリカゲルクロマトグラフィー(展開溶媒、トルエン:酢酸エチル=10:1)で精製し化合物[III′]の結晶を得る。34mg(50%),mp101〜104℃
1H−NMR(CDCl3)ppm:1.02〜1.95(22H,m,−Cy−H),1.47(9H,s,t−Bu−),2.95〜4.31(8H,m,−CHCH2NCH(CH2)CH2−),7.12〜7.91(10H,m,Ph−H)
実施例3
(2S,4S)−4−ジシクロヘキシルホスフィノ−2−ジフェニルホスフィノメチルピロリジン[IV′]の製造
(2S,4S)−N−tert−ブトキシカルボニル−4−ジシクロヘキシルホスフィノ−2−ジフェニルホスフィノメチルピロリジンジボラン錯塩[III′]60mg(0.1ミリモル)をメチレンクロライド2mlに溶解し、HBF4OMe2 0.12ml(1.0ミリモル)を氷冷下加え、その後室温で12時間撹拌する。次いで2Nの苛性ソーダ水溶液を加えトルエンで抽出する。分液した後、濃縮乾固し化合物[IV′]を得る。42mg(90%)
実施例4
(2S,4S)−N−tert−ブトキシカルボニル−4−ジシクロヘキシルホスフィノ−2−ジフェニルホスフィノメチルピロリジン(BCPM)の製造
(2S,4S)−4−ジシクロヘキシルホスフィノ−2−ジフェニルホスフィノメチルピロリジン[IV′]46mg(0.1ミリモル)をメチレンクロリド1mlに溶かす。これにトリエチルアミン11mg(0.11ミリモル)とメチレンクロライド2mlに溶かしたジターシャリーブチルジカーボネート24mg(0.11ミリモル)を加え、窒素雰囲気で室温で2〜3時間撹拌する。反応液を減圧濃縮し白色結晶BCPMを得る。50mg(86%),mp171〜174℃
産業上の利用可能性
不斉合成触媒の配位子であるホスフィノピロリジン化合物を極めて簡単な工程で且つベンゼン核を還元してシクロヘキシル基に変換するなどという高温高圧反応(例えば150℃、150気圧)を避けることが可能であり、特別な製造設備を必要としないことから、工業的に簡単に且つ効率良く、そして安価に製造することができる。従来に比べて非常に短い工程で目的とする不斉合成触媒の配位子であるホスフィノピロリジン化合物を得ることを可能にする。ホスフィノピロリジン化合物を使用した、不斉合成の適用を拡大することを可能にする。従来得ることが困難であった光学活性化合物をホスフィノピロリジン化合物試薬を用いて各種の不斉合成により得ることを可能にする。
Claims (6)
- 一般式(I)の化合物
〔式中、R1はイミノ基の保護基であり、そしてR2及びR3は、同一又は相異なり、それぞれ独立に水酸基の保護基である〕
をホスフィン金属化合物及びホウ素化合物で処理し、次いで得られた一般式(II)の化合物
〔式中、R1及びR2は、それぞれ上記と同様の置換基を意味し、そしてR4及びR5は、同一又は相異なり、それぞれ独立に置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である〕
をジシクロヘキシルホスフィン金属化合物及びホウ素化合物で処理し、次いで得られた一般式(III)の化合物
〔式中、R1、R4及びR5は、それぞれ上記と同様の置換基を意味する〕
を処理して錯化しているホウ素化合物を脱離せしめ、一般式(IV)の化合物
〔式中、R4及びR5は、上記と同様の置換基を意味し、R6は水素原子または上記R1と同様の置換基を意味する〕
を得ることを特徴とする製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33467396 | 1996-11-29 | ||
PCT/JP1997/004334 WO1998023624A1 (fr) | 1996-11-29 | 1997-11-27 | Nouveaux composes de phosphinopyrrolidine et procede de fabrication |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP4118961B2 true JP4118961B2 (ja) | 2008-07-16 |
Family
ID=18279976
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52452898A Expired - Fee Related JP4118961B2 (ja) | 1996-11-29 | 1997-11-27 | 新規なホスフィノピロリジン化合物及びその製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6229019B1 (ja) |
EP (1) | EP0989135B1 (ja) |
JP (1) | JP4118961B2 (ja) |
AU (1) | AU5191898A (ja) |
CA (1) | CA2273031A1 (ja) |
DE (1) | DE69719567T2 (ja) |
WO (1) | WO1998023624A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ES2240297T3 (es) * | 2000-09-21 | 2005-10-16 | Solvias Ag | Fosfinito-oxazolinas y complejos metalicos. |
DE10100708A1 (de) * | 2001-01-10 | 2002-07-11 | Oxeno Olefinchemie Gmbh | Neue N-Phenylpyrrolbisphosphanverbindungen und deren Metallkomplexe |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4343741A (en) | 1981-04-22 | 1982-08-10 | Hoffmann-La Roche Inc. | Chiral phosphines |
US4539411A (en) * | 1982-02-05 | 1985-09-03 | Hoffmann-La Roche Inc. | Rhodium complexes of chiral phosphines |
JPS60166692A (ja) | 1984-09-28 | 1985-08-29 | Kazuo Achinami | 新規不斉還元試薬 |
DE3446303A1 (de) | 1984-12-19 | 1986-06-19 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur herstellung von optisch aktivem 1-benzyl-3,4-bis-(diphenylphosphino)-pyrrolidin |
DE3783084T2 (de) * | 1986-06-25 | 1993-04-15 | Kazuo Achiwa | Chirale phosphinopyrrolidin-verbindungen und ihre verwendung fuer asymetrische synthese optisch aktiver verbindungen. |
JP2816555B2 (ja) * | 1988-03-07 | 1998-10-27 | 富士薬品工業株式会社 | 新規なホスフイノピロリジン化合物およびそれを用いる不斉合成法 |
-
1997
- 1997-11-27 WO PCT/JP1997/004334 patent/WO1998023624A1/ja active IP Right Grant
- 1997-11-27 US US09/319,007 patent/US6229019B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-11-27 DE DE69719567T patent/DE69719567T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-11-27 EP EP97946804A patent/EP0989135B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-11-27 AU AU51918/98A patent/AU5191898A/en not_active Abandoned
- 1997-11-27 CA CA002273031A patent/CA2273031A1/en not_active Abandoned
- 1997-11-27 JP JP52452898A patent/JP4118961B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0989135A1 (en) | 2000-03-29 |
DE69719567T2 (de) | 2003-12-11 |
AU5191898A (en) | 1998-06-22 |
US6229019B1 (en) | 2001-05-08 |
DE69719567D1 (de) | 2003-04-10 |
WO1998023624A1 (fr) | 1998-06-04 |
EP0989135B1 (en) | 2003-03-05 |
CA2273031A1 (en) | 1998-06-04 |
EP0989135A4 (en) | 2000-04-19 |
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Legal Events
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040914 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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|
S533 | Written request for registration of change of name |
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|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |