JP4106345B2 - 蒸気調理器 - Google Patents

Description

この発明は、蒸気調理器に関する。

従来、蒸気を用いて食品などの被加熱物の加熱調理を行う蒸気調理器として、オーブン庫内に過熱蒸気を送り込むものがある(例えば、特許文献１(特開平８−４９８５４号公報)参照)。この蒸気調理器は、ポット内にヒータを設けて蒸気を発生させる蒸気発生装置と、その蒸気発生装置により発生させた蒸気を加熱することにより過熱蒸気を生成する蒸気昇温装置とを備え、蒸気昇温装置で生成された過熱蒸気をオーブン庫内に送り込んで食品を調理する。

ところで、上記従来の蒸気調理器では、蒸気昇温装置のヒータの非発熱部に電気配線が接続されている。このとき、上記従来の蒸気調理器では、ヒータの発熱部からの熱が非発熱部に伝わり、非発熱部が高温となって電気配線が加熱され、電気配線が溶けたり、絶縁不良となったりして、信頼性が低下するという問題がある。
特開平８−４９８５４号公報

そこで、この発明の目的は、電気配線が接続される側のヒータの非発熱部の温度上昇を低減でき、高い信頼性が得られる蒸気調理器を提供することにある。

上記目的を達成するため、この発明の蒸気調理器は、蒸気を発生する蒸気発生装置と、上記蒸気発生装置からの蒸気を昇温する蒸気昇温装置と、上記蒸気昇温装置から供給される蒸気によって被加熱物を加熱するための加熱室とを備え、上記蒸気昇温装置は、上記蒸気発生装置からの蒸気が流入する蒸気供給口が側壁に設けられた凹部を有し、上記加熱室の天井蒸気吹出口上に上記凹部の開口を下側に向けて配置された皿形ケースと、上記皿形ケースの凹部内に配置され、発熱部と非発熱部とを有するヒータと、上記ヒータの上記発熱部と、上記非発熱部の少なくとも一部とに設けられた放熱フィンとを含むことを特徴とする。

上記構成の蒸気調理器によれば、上記蒸気発生装置により発生させた蒸気を蒸気昇温装置により昇温して過熱蒸気とし、その過熱蒸気を加熱室内に供給することにより加熱室内の被加熱物を加熱する。このとき、上記加熱室の天井蒸気吹出口上に配置された蒸気昇温装置の皿形ケースの側壁に設けられた蒸気供給口から、蒸気発生装置の蒸気が流入する。そうして、上記皿形ケースの凹部内に満たされた蒸気が、凹部の開口側の上記加熱室の天井蒸気吹出口を介して加熱室内に供給される。

上記皿形ケースの凹部内に配置されたヒータの発熱部と非発熱部の少なくとも一部に放熱フィンを設けることによって、放熱フィンによる熱交換効率を向上しつつ、ヒータの発熱部から非発熱部に伝わる熱を非発熱部の少なくとも一部から放熱フィンを介して放熱するので、ヒータの非発熱部が過熱することにより高温になるのを防いで、電気配線が接続される側のヒータの非発熱部の温度上昇を低減でき、高い信頼性を得ることができる。

また、一実施形態の蒸気調理器は、上記ヒータの上記発熱部と上記非発熱部との接続部またはその接続部近傍が、上記蒸気供給口から流入する蒸気が直接当たる位置に配置されていることを特徴とする。

上記実施形態の蒸気調理器によれば、上記ヒータの発熱部と非発熱部との接続部またはその接続部近傍が、蒸気供給口から流入する蒸気が直接当たる位置に配置されているので、ヒータにより昇温された蒸気の温度に比べて低温の蒸気が蒸気供給口からヒータの発熱部と非発熱部との接続部またはその接続部近傍に供給される。したがって、低温の蒸気によりヒータの発熱部から非発熱部に伝わる熱を、非発熱部の少なくとも一部に設けられた放熱フィンを介して放熱することができ、電気配線が接続される側のヒータの非発熱部の温度上昇を効果的に低減できる。

また、一実施形態の蒸気調理器は、上記ヒータが、大電力の第１蒸気加熱ヒータと小電力の第２蒸気加熱ヒータとを有し、上記放熱フィンは、上記大電力の第１蒸気加熱ヒータの発熱部と非発熱部の少なくとも一部に設けられていることを特徴とする。

上記実施形態の蒸気調理器によれば、上記ヒータの大電力の第１蒸気加熱ヒータと小電力の第２蒸気加熱ヒータのうち、大電力の第１蒸気加熱ヒータの発熱部と非発熱部の少なくとも一部に上記放熱フィンを設けることによって、発熱量の大きい第１蒸気加熱ヒータの発熱部から非発熱部に伝わる熱を、非発熱部の少なくとも一部に設けられた放熱フィンを介して放熱することができ、電気配線が接続される側のヒータの非発熱部の温度上昇をより効果的に低減できる。

以上より明らかなように、この発明の蒸気調理器によれば、電気配線が接続される側のヒータの非発熱部の温度上昇を低減でき、高い信頼性が得られる蒸気調理器を実現することにある。

以下、この発明の蒸気調理器を図示の実施の形態により詳細に説明する。

図１はこの発明の実施の一形態の蒸気調理器１の外観斜視図であり、直方体形状のキャビネット１０の正面の上部に操作パネル１１を設け、上記キャビネット１０の正面の操作パネル１１の下側に、下端側の辺を中心に回動する扉１２を設けている。上記扉１２の上部にハンドル１３を設け、上記扉１２に耐熱ガラス製の窓１４を設けている。

また、図２は上記蒸気調理器１の扉１２を開いた状態の外観斜視図を示しており、上記キャビネット１０内に直方体形状の加熱室２０が設けられている。上記加熱室２０は、扉１２に面する正面側に開口部２０aを有し、加熱室２０の側面,底面および天面をステンレス鋼板で形成している。また、上記扉１２は、加熱室２０に面する側をステンレス鋼板で形成している。上記加熱室２０の周囲および扉１２の内側に断熱材(図示せず)を配置して、加熱室２０内と外部とを断熱している。

また、上記加熱室２０の底面に、ステンレス製の受皿２１が置かれ、受皿２１上に被加熱物を載置するためのステンレス鋼線製のラック２４(図３に示す)が置かれる。さらに、上記加熱室２０の両側面に、長手方向が略水平の略長方形状の側面蒸気吹出口２２(図２では一方のみを示す)を設けている。

図３は上記蒸気調理器１の基本構成を示す概略構成図を示している。図３に示すように、上記蒸気調理器１は、加熱室２０と、蒸気用の水を貯める水タンク３０と、上記水タンク３０から供給された水を蒸発させる蒸気発生装置４０と、上記蒸気発生装置４０からの蒸気を加熱する蒸気昇温装置５０と、上記蒸気発生装置４０や蒸気昇温装置５０などを制御する制御装置８０とを備える。

上記加熱室２０内に置かれた受皿２１上に格子状のラック２４を載置し、そのラック２４の略中央に被加熱物９０が置かれる。

また、水タンク３０の下側に設けられた接続部３０aを、第１給水パイプ３１の一端に設けられた漏斗形状の受入口３１aに接続している。上記第１給水パイプ３１から分岐して上方に延びる第２給水パイプ３２の他端にポンプ３５の吸込側を接続し、そのポンプ３５の吐出側に第３給水パイプ３３の一端を接続している。また、上記第１給水パイプ３１から分岐して上方に延びる水位センサ用パイプ３８の上端に水タンク用水位センサ３６を配設している。さらに、上記第１給水パイプ３１から分岐して上方に延びる大気開放用パイプ３７の上端を後述する排気ダクト６５に接続している。

そして、上記第３給水パイプ３３は、垂直に配置された部分から略水平に屈曲するＬ字形状をしており、第３給水パイプ３３の他端に補助タンク３９を接続している。上記補助タンク３９の下端に第４給水パイプ３４の一端を接続し、その第４給水パイプ３４の他端を蒸気発生装置４０の下端に接続している。また、上記蒸気発生装置４０の第４給水パイプ３４が接続された下端に、排水バルブ７０の一端を接続している。そして、排水バルブ７０の他端に排水パイプ７１の一端を接続し、排水パイプ７１の他端に排水タンク７２を接続している。なお、上記補助タンク３９の上部は、大気開放用パイプ３７と排気ダクト６５を介して大気に連通している。

上記水タンク３０が接続されると、水タンク３０内の水は、水タンク３０と同水位になるまで大気開放用パイプ３７内に水が上昇する。上記水タンク用水位センサ３６につながる水位センサ用パイプ３８は先端が密閉されているため、水位は上がらないが、水タンク３０の水位に応じて水位センサ用パイプ３８の密閉された空間の圧力は大気圧から上昇する。この圧力変化を、水タンク用水位センサ３６内の圧力検出素子(図示せず)により検出することにより、水タンク３０内の水位が検出される。ポンプ３５の静止中の水位測定では、大気開放用パイプ３７は不要であるが、ポンプ３５の吸引圧力が直接圧力検出素子に働いて水タンク３０の水位検出の精度が低下するのを防止するため、開放端を有する大気開放用パイプ３７を用いている。

また、上記蒸気発生装置４０は、下側に第４給水パイプ３４の他端が接続されたポット４１と、上記ポット４１内の底面近傍に配置されたヒータ４２と、上記ポット４１内のヒータ４２の上側近傍に配置された水位センサ４３と、上記ポット４１の上側に取り付けられた蒸気吸引エジェクタ４４とを有している。そして、加熱室２０の側面上部に設けられた吸込口２５の外側にファンケーシング２６を配置している。上記ファンケーシング２６に配置された送風ファン２８により、加熱室２０内の蒸気は、吸込口２５から吸い込まれる。吸い込まれた蒸気は、第１パイプ６１と第２パイプ６２を介して蒸気発生装置４０の蒸気吸引エジェクタ４４の入口側に送り込まれる。上記第１パイプ６１は、略水平に配置されており、一端がファンケーシング２６に接続されている。また、上記第２パイプ６２は、略垂直に配置されており、一端が第１パイプ６１の他端に接続され、他端が蒸気吸引エジェクタ４４のインナーノズル４５の入口側に接続されている。

上記蒸気吸引エジェクタ４４は、インナーノズル４５の外側を包み込むアウターノズル４６を備えており、インナーノズル４５の吐出側がポット４１の内部空間と連通している。そして、上記蒸気吸引エジェクタ４４のアウターノズル４６の吐出側を第３パイプ６３の一端に接続し、その第３パイプ６３の他端に蒸気昇温装置５０を接続している。

上記ファンケーシング２６,第１パイプ６１,第２パイプ６２,蒸気吸引エジェクタ４４,第３パイプ６３および蒸気昇温装置５０で外部循環路６０を形成している。また、上記加熱室２０の側面の下側に設けられた放出口２７に放出通路６４の一端を接続し、放出通路６４の他端を排気ダクト６５の一端に接続している。上記排気ダクト６５の他端に排気口６６を設けている。蒸気放出通路６４の排気ダクト６５側にラジエータ６９を外嵌して取り付けている。そして、上記外部循環路６０を形成する第１パイプ６１,第２パイプ６２との接続部を、排気通路６７を介して排気ダクト６５に接続している。上記排気通路６７の第１,第２パイプ６１,６２の接続側に、排気通路６７を開閉するダンパ６８を配置している。

また、上記蒸気昇温装置５０は、加熱室２０の天井側かつ略中央に、開口を下側にして配置された皿形ケース５１と、上記皿形ケース５１内に配置された第１蒸気加熱ヒータ５２と、上記皿形ケース５１内に配置された第２蒸気加熱ヒータ５３とを有している。上記皿形ケース５１の底面は、加熱室２０の天井面に設けられた金属製の天井パネル５４で形成されている。上記天井パネル５４には、複数の天井蒸気吹出口５５を形成している。また、上記天井パネル５４は、上下両面が塗装などにより暗色に仕上げられている。なお、使用を重ねることにより暗色に変色する金属素材や暗色のセラミック成型品によって天井パネル５４を形成してもよい。

さらに、上記蒸気昇温装置５０は、加熱室２０の左右両側に延びる蒸気供給通路２３(図３では一方のみを示す)の一端が夫々接続されている。そして、上記蒸気供給通路２３の他端は、加熱室２０の両側面に沿って下方に延び、加熱室２０の両側面かつ下側に設けられた側面蒸気吹出口２２に接続されている。

次に、図４,図５を用いて上記蒸気発生装置４０について詳細に説明する。

まず、図４(a)は上記蒸気発生装置４０のポット４１を上方から見た平面図であり、図４(b)は上記ポット４１の側面図である。

図４(a),(b)に示すように、ポット４１は、水平面図が略長方形状の筒部４１aと、上記筒部４１aの下側に設けられ、中央に向かって徐々に低くなる傾斜面からなる底部４１bと、上記底部４１bの略中央に設けられた給水口４１cとを有している。上記ポット４１の平面形状は、縦横比が１：２.５であるが、細長い形状、つまり長方形状や楕円形状であればよい。もっとも、長方形の場合の縦横比が１／２であるのが好ましく、１／２.５であればより好ましく、１／３以下であればさらに好ましい。

上記ポット４１内の底部４１b近傍にヒータ４２を配置しており、そのヒータ４２は、Ｕ字形状の大管径のシーズヒータである第１蒸気発生ヒータ４２Ａと、そのＵ字形状の第１蒸気発生ヒータ４２Ａの内側に略同一平面上に配置されたＵ字形状の小管径のシーズヒータである第２蒸気発生ヒータ４２Ｂで構成されている。上記ヒータ４２は、ポット４１の筒部４１aの側壁に沿って近接して配置されており、ヒータ４２の外縁と筒部４１aの側壁の最短距離は２ｍｍ〜５ｍｍとしている。また、ヒータ４２の下端は、ポット４１の底部４１bに近接して配置されており、ヒータ４２の最下部とポット４１の底部４１bの最短距離は２ｍｍ〜５ｍｍとしている。

この実施の形態では、第１蒸気発生ヒータ４２Ａは７００Ｗの大管径のシーズヒータを用い、第２蒸気発生ヒータ４２Ｂは３００Ｗの小管径のシーズヒータを用いている。上記第１蒸気発生ヒータ４２Ａは、略半円弧形状の湾曲部４２Ａaと、その湾曲部４２Ａaの両端から略平行に延びる２ヶ所の直線部４２Ａb,４２Ａcとを有している。また、上記第２蒸気発生ヒータ４２Ｂは、略半円弧形状の湾曲部４２Ｂaと、その湾曲部４２Ｂaの両端から略平行に延びる２ヶ所の直線部４２Ｂb,４２Ｂcとを有している。上記第１蒸気発生ヒータ４２Ａの湾曲部４２Ａaは、使用する大管径のシーズヒータにより定まる最小曲率半径ｒ1となっており、第２蒸気発生ヒータ４２Ｂの湾曲部４２Ｂaは、使用する小管径のシーズヒータにより定まる最小曲率半径ｒ2(＜ｒ1)となっている。

上記ポット４１内のヒータ４２の上側近傍かつ第２蒸気発生ヒータ４２Ｂの内側の非発熱部(図４(a)のＣ領域)側の側壁に、水位センサ４３を配置している。また、上記ポット４１内に水位センサ４３の周りを囲む断面コの字形状の仕切板４７を設けている。上記仕切板４７は、ポット４１内の側壁とで断面長方形状の筒体を形成している。上記仕切板４７の下端は、ポット４１の底部４１bより上側かつ第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂの最下部よりも下側に位置する。一方、上記仕切板４７の上端は、ヒータ４２の最下部から水位センサ４３の取り付け位置までの高さの２倍以上の高さにしている。また、上記ポット４１内の水位センサ４３に対向する側壁に温度センサ４８を配置している。

上記水位センサ４３は、自己加熱サーミスタであり、水中では、２０℃〜１００℃の水の温度に応じて１００℃〜１４０℃程度の温度が検出され、空気中では、略１４０℃〜１５０℃前後の温度が検出される。そして、温度センサ４８により検出された水の温度に基づいて、水位センサ４３により検出される温度を判定することにより、水の有無すなわち水位センサ４３の取付位置に水があるか否かを判定する。

また、図５(a)は上記蒸気発生装置４０の側面図であり、図５(b)は図５(a)のＶ−Ｖ線から見た断面図である。

図５(a),(b)に示すように、内側に第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂが配置されたポット４１の上側開口を覆うように、蒸気吸引エジェクタ４４を取り付けている。上記蒸気吸引エジェクタ４４のインナーノズル４５の入口４５aから流入した流体(蒸気)は、インナーノズル４５の吐出口４５bから吐出され、アウターノズル４６の吐出口４６aから吐出される。このとき、上記インナーノズル４５の吐出側がポット４１の内部空間と連通しているので、ポット４１内で発生した飽和蒸気は、アウターノズル４６の吐出口４６a側に引き込まれ、インナーノズル４５の吐出口４５bから吐出された蒸気と共にアウターノズル４６の吐出口４６aから吐出される。すなわち、ポット４１内の水が沸騰して発生した１００℃,１気圧の飽和蒸気は、外部循環路６０(図３に示す)を通る循環気流に吸引される。上記蒸気吸引エジェクタ４４の構造によって、飽和蒸気は速やかに吸い上げられ、蒸気発生装置４０内に圧力がかからないので、飽和蒸気の放出が妨げられることがない。

次に、図６に示す上記蒸気調理器１の制御ブロックについて説明する。

図６に示すように、制御装置８０には、送風ファン２８と、第１蒸気加熱ヒータ５２と、第２蒸気加熱ヒータ５３と、ダンパ６８と、排水バルブ７０と、第１蒸気発生ヒータ４２Ａと、第２蒸気発生ヒータ４２Ｂと、操作パネル１１と、水タンク用水位センサ３６と、水位センサ４３と、加熱室２０(図３に示す)内の温度を検出する温度センサ８１と、加熱室２０内の湿度を検出する湿度センサ８２と、ポンプ３５が接続されている。

上記制御装置８０は、マイクロコンピュータと入出力回路などからなり、水タンク用水位センサ３６,水位センサ４３,温度センサ８１および湿度センサ８２からの検出信号に基づいて、送風ファン２８,第１蒸気加熱ヒータ５２,第２蒸気加熱ヒータ５３,ダンパ６８,排水バルブ７０,第１蒸気発生ヒータ４２Ａ,第２蒸気発生ヒータ４２Ｂ,操作パネル１１およびポンプ３５を所定のプログラムに従って制御する。

上記構成の蒸気調理器１において、操作パネル１１中の電源スイッチ(図示せず)が押されて電源がオンし、操作パネル１１の操作により加熱調理の運転を開始する。そうすると、まず、制御装置８０は、排水バルブ７０を閉ざして、ダンパ６８により排気通路６７を閉じた状態でポンプ３５の運転を開始する。上記ポンプ３５により水タンク３０から第１〜第４給水パイプ３１〜３４を介して蒸気発生装置４０のポット４１内に給水される。そして、上記ポット４１内の水位が所定水位に達したことを水位センサ４３が検出すると、ポンプ３５を停止して給水を止める。

次に、第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂを通電し、ポット４１内に溜まった所定量の水を第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂにより加熱する。

次に、第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂの通電と同時、または、ポット４１内の水の温度が所定温度に達すると、送風ファン２８をオンすると共に、蒸気昇温装置５０の第１蒸気加熱ヒータ５２を通電する。そうすると、送風ファン２８は、加熱室２０内の空気(蒸気を含む)を吸込口２５から吸い込み、外部循環路６０に空気(蒸気を含む)を送り出す。上記送風ファン２８に遠心ファンを用いているので、プロペラファンに比べて高圧を発生させることができる。さらに、送風ファン２８に用いる遠心ファンを直流モータで高速回転させることによって、循環気流の流速を極めて速くすることができる。

次に、上記蒸気発生装置４０のポット４１内の水が沸騰すると、飽和蒸気が発生し、発生した飽和蒸気は、蒸気吸引エジェクタ４４のところで外部循環路６０を通る循環気流に合流する。上記蒸気吸引エジェクタ４４から出た蒸気は、第３パイプ６３を介して高速で蒸気昇温装置５０に流入する。

そして、上記蒸気昇温装置５０に流入した蒸気は、第１蒸気加熱ヒータ５２により加熱されて略３００℃(調理内容により異なる)の過熱蒸気となる。この過熱蒸気の一部は、下側の天井パネル５４に設けられた複数の天井蒸気吹出口５５から加熱室２０内の下方に向かって噴出する。また、過熱蒸気の他の一部は、蒸気昇温装置５０の左右両側に設けられた蒸気供給通路２３を介して加熱室２０の両側面の側面蒸気吹出口２２から噴出する。

これにより、上記加熱室２０の天井側から噴出した過熱蒸気が中央の被加熱物９０側に向かって勢いよく供給されると共に、加熱室２０の左右の側面側から噴出した過熱蒸気は、受皿２１に衝突した後、被加熱物９０の下方から被加熱物９０を包むように上昇しながら供給される。それによって、上記加熱室２０内において、中央部では吹き下ろし、その外側では上昇するという形の対流が生じる。そして、対流する蒸気は、順次吸込口２５に吸い込まれて、外部循環路６０を通って再び加熱室２０内に戻るという循環を繰り返す。

このようにして上記加熱室２０内で過熱蒸気の対流を形成することにより、加熱室２０内の温度,湿度分布を均一に維持しつつ、蒸気昇温装置５０からの過熱蒸気を天井蒸気吹出口５５と側面吹出口２２から噴出して、ラック２４上に載置された被加熱物９０に効率よく衝突させることが可能となる。そうして、過熱蒸気の衝突により被加熱物９０を加熱する。このとき、上記被加熱物９０の表面に接触した過熱蒸気は、被加熱物９０の表面で結露するときに潜熱を放出することによっても被加熱物９０を加熱する。これにより、過熱蒸気の大量の熱を確実にかつ速やかに被加熱物９０全面に均等に与えることができる。したがって、むらがなく仕上がりよい加熱調理を実現することができる。

また、上記加熱調理の運転において、時間が経過すると、加熱室２０内の蒸気量が増加し、量的に余剰となった分の蒸気は、放出口２７から放出通路６４,排気ダクト６５を介して排気口６６から外部に放出される。このとき、放出通路６４に設けたラジエータ６９により放出通路６４を通過する蒸気を冷却して結露させることによって、外部に蒸気がそのまま放出されるのを抑制している。上記ラジエータ６９により放出通路６４内で結露した水は、放出通路６４内を流れ落ちて受皿２１に導かれ、調理により発生した水と共に調理終了後に処理する。

調理終了後、制御装置８０により操作パネル１１に調理終了のメッセージを表示し、さらに操作パネル１１に設けられたブザー(図示せず)により合図の音を鳴らす。それにより、調理終了を知った使用者が扉１２を開けると、制御装置８０は、扉１２が開いたことをセンサ(図示せず)により検知して、排気通路６７のダンパ６８を瞬時に開く。それにより、外部循環路６０の第１パイプ６１が排気通路６７を介して排気ダクト６５に連通し、加熱室２０内の蒸気は、送風ファン２８により吸込口２５,第１パイプ６１,排気通路６７および排気ダクト６５を介して排気口６６から排出される。このダンパ動作は、調理中に使用者が扉１２を開いても同様である。したがって、使用者は、蒸気にさらされることなく、安全に被加熱物９０を加熱室２０内から取り出すことができる。

また、上記蒸気発生装置４０のポット４１内の底部４１b近傍かつ略同一水平面上にヒータ４２を配置することによって、ポット４１内に供給される水の水位を、ポット４１の底部４１bからヒータ４２の上部のわずか上側までとすることが可能となる。したがって、ポット４１内の水位を、ポット４１の底部４１bからヒータ４２の上部のわずか上側までとし、水位を可能な限り低くすることによって、ヒータ４２により加熱するポット４１内の水量をできるだけ少なくでき、蒸気発生装置４０による蒸気発生の立ち上がりを早くすることができる。上記蒸気発生装置４０による蒸気発生の立ち上がりを早くすることにより、過熱蒸気の立ち上がりを早くできて、調理時間を短縮することができる。特に、長時間運転を停止した後の最初の加熱調理時において、停止中に予熱などを行うことなく、加熱室２０に供給する過熱蒸気の立ち上がりを早くできるので、調理時間の短縮化の効果が顕著である。

また、上記蒸気発生装置４０の平面形状が細長い形状(この実施形態では略長方形)のポット４１内にヒータ４２が配置され、そのヒータ４２として用いられるシーズヒータ(４２Ａ,４２Ｂ)をポット４１の側壁に沿うように配置することによって、ヒータ４２の外縁で囲まれる領域の占有面積が小さくなり、ポット４１内のヒータ占有床面積(または水面の面積)に対するヒータ電力を高くすることができると共に、ポット４１の平面形状の面積も小さくすることができる。したがって、上記ポット４１内のヒータ占有床面積(または水面の面積)に対するヒータ電力を高くし、さらにポット４１の平面形状の面積も小さくして水量を低減することにより、蒸気発生装置４０による蒸気の発生をより早く立ち上げることができる。

また、上記Ｕ字形状の大管径のシーズヒータである第１蒸気発生ヒータ４２Ａと、その第１蒸気発生ヒータ４２Ａの内側に略同一平面上に配置されたＵ字形状の小管径のシーズヒータである第２蒸気発生ヒータ４２Ｂにおいて、湾曲部４２Ｂaの曲率半径を、シーズヒータの管径などにより定まる最小曲率半径にすることによって、ヒータ４２への投入電力が同一の条件であれば、径の異なる２種類のシーズヒータで構成されるヒータ４２の外縁で囲まれる領域の占有面積を、ポット４１内のヒータ占有床面積(または水面の面積)に対するヒータ電力が最も高くなるように小面積化ができる。上記ポット４１内のヒータ占有床面積(または水面の面積)に対するヒータ電力を高くすることにより、上記蒸気発生装置による蒸気発生の立ち上がりをさらに早くすることができる。また、上記大電力(７００Ｗ)の第１蒸気発生ヒータ４２Ａと小電力(３００Ｗ)の第２蒸気発生ヒータ４２Ｂの通電を制御装置８０により切り換えることによって、その組み合わせにより蒸気発生のために投入される電力を制御することが可能となり、調理内容に応じた蒸気発生が可能となる。

また、図７(a)は上記蒸気調理器の蒸気昇温装置５０を下側から見た平面図を示しており、図７(b)は上記蒸気昇温装置５０の蒸気供給口側から見た側面図を示している。上記蒸気昇温装置５０は、図７(a),(b)に示すように、平面形状が略五角形の凹部５１aを有する皿形ケース５１内に、大電力(１０００Ｗ)の大管径のシーズヒータである第１蒸気加熱ヒータ５２と小電力(３００Ｗ)の小管径のシーズヒータである第２蒸気加熱ヒータ５３とを配置している。上記第１蒸気加熱ヒータ５２よりも第２蒸気加熱ヒータ５３の単位表面積あたりの電力密度が高くなっている。また、図７(a),(b)では示していないが、皿形ケース５１の凹部５１aの開口は、加熱室２０の天井面に設けられた金属製の天井パネル５４(図３に示す)で覆われている。

上記皿形ケース５１の凹部５１aは、蒸気供給管９４Ａ,９４Ｂ,９４Ｃが接続された第１側壁９１と、その第１側壁９１の一方の側にＲ部１０５Ａを介して隣接し、第１側壁９１に対して略直角な第２側壁９２Ａと、上記第１側壁９１の他方の側にＲ部１０５Ｂを介して隣接し、第１側壁９１に対して略直角かつ第２側壁９２Ａに平行な第３側壁９２Ｂと、上記第２側壁９２ＡとＲ部１０６Ａを介して隣接し、第２側壁９２Ａに対して鈍角をなす第４側壁９３Ａと、上記第３側壁９２ＢとＲ部１０６Ｂを介して隣接し、第３側壁９２Ｂに対して鈍角をなしかつ第４側壁９３Ａに対して鈍角をなす第５側壁９３Ｂとを有している。上記第４側壁９３Ａと第５側壁９３ＢとはＲ部１０７を介して隣接している。上記皿形ケース５１は、しぼり加工で形成することにより、凹部５１aのコーナー部である湾曲面を有するＲ部１０５Ａ,１０６Ａ,１０６Ｂ,１０７を設けている。

上記皿形ケース５１において、蒸気供給管９４Ａ,９４Ｂ,９４Ｃが接続された第１側壁９１側がこの蒸気調理器１の背面側(図７(a)の右側)であり、第４側壁９３Ａ,第５側壁９３Ｂ側が蒸気調理器１の前面側(図７(a)の左側)である。上記第１側壁９１の略中央に蒸気供給口９５Ａを有する蒸気供給管９４Ａを接続し、その蒸気供給管９４Ａの両側に所定の間隔をあけて蒸気供給口９５Ｂ,９５Ｃを有する蒸気供給管９４Ｂ,９４Ｃを夫々接続している。また、上記第２側壁９２Ａの前面側から背面側に向かって、所定の間隔をあけて蒸気吹出口１０１Ａ,１０２Ａ,１０３Ａ,１０４Ａを設けると共に、その蒸気吹出口１０１Ａ〜１０４Ａに対向する第３側壁９２Ｂの位置に、蒸気吹出口１０１Ｂ,１０２Ｂ,１０３Ｂ,１０４Ｂを設けている。上記蒸気吹出口１０１Ａ〜１０４Ａおよび蒸気吹出口１０１Ｂ〜１０４Ｂは、図３に示す蒸気供給通路２３に接続されている。また、上記蒸気供給管９４Ａ,９４Ｂ,９４Ｃの入口側に、図３に示す第３パイプ６３を介して蒸気発生装置４０の蒸気吸引エジェクタ４４の吐出側を接続している。

また、上記第１側壁９１の蒸気供給管９４Ａ,９４Ｃの外側に、第１蒸気加熱ヒータ５２の第１,第２非発熱部５２b,５２cを貫通して固定している。上記第１蒸気加熱ヒータ５２の第１,第２非発熱部５２b,５２cの先端に電気配線(図示せず)が接続される。上記第１蒸気加熱ヒータ５２は、蒸気供給口９５Ａ,９５Ｂ,９５Ｃから流入する蒸気の流れの中心線Ｌに対して略線対称な平面形状であって、上記中心線Ｌに略平行に所定の間隔をあけて配置された２ヶ所の第１,第２非発熱部５２b,５２cと、その第１,第２非発熱部５２b,５２cの先端に一端が夫々接続され、凹部５１a中央に向かって湾曲する略Ｕ字形状の２ヶ所の第１,第２発熱部５２a-1,５２a-2とその２ヶ所の第１,第２発熱部５２a-1,５２a-2の他端間を接続する略コの字形状の第３発熱部５２a-3とを有する。また、上記第１蒸気加熱ヒータ５２の第１〜第３発熱部５２a-1〜５２a-3の外周および第１,第２非発熱部５２b,５２cの一部の外周に、螺旋状の放熱フィン５６を巻きつけている。

さらに、上記第１側壁９１の蒸気供給管９４Ａ,９４Ｂの間と蒸気供給管９４Ｂ,９４Ｃの間に、第２蒸気加熱ヒータ５３の両端の非発熱部５３b,５３cを貫通して固定している。上記第２蒸気加熱ヒータ５３の両端の非発熱部５３b,５３cの先端に電気配線(図示せず)が接続される。上記第２蒸気加熱ヒータ５３は、発熱部５３aが円形をしており、その円形の発熱部５３aの両端が非発熱部５３b,５３cに連なる形状をしている。上記第２蒸気加熱ヒータ５３は、蒸気供給口９５Ａ,９５Ｂ,９５Ｃから流入する蒸気の流れの中心線Ｌに対して略線対称な平面形状である。

上記皿形ケース５１の凹部５１aの蒸気の一部が、上記中心線Ｌを挟んで対向する第２,第３側壁９２Ａ,９２Ｂにかつ蒸気供給口９５Ａ,９５Ｂ,９５Ｃと反対の側(前面側)に設けられた蒸気吹出口１０１Ａ〜１０４Ａ,１０１Ｂ〜１０４Ｂと蒸気供給通路２３(図３に示す)を介して側面蒸気吹出口２２Ａ,２２Ｂ(図１２に示す)から加熱室２０内に吹き出す。

また、図８(a)は第２蒸気加熱ヒータのない蒸気昇温装置を下側から見た平面図を示しており、図８(b)は上記蒸気昇温装置の蒸気供給口側から見た側面図を示している。この蒸気昇温装置１５０は、第２蒸気加熱ヒータがないのと第１蒸気加熱ヒータの形状を除いて図７(a),(b)に示す蒸気昇温装置と同一の構成をしており、同一構成部は同一参照番号を付して説明を省略する。図８(a)において、１５１は第２蒸気加熱ヒータの取り付け箇所を設けていない皿形ケース、１５２は第１蒸気加熱ヒータ、１０５Ａ,１０５Ｂ,１０６Ａ,１０６Ｂ,１０７はＲ部である。

次に、上記蒸気昇温装置５０の蒸気の流れを図９(a)を用いて説明する。

図９(a)に示すように、蒸気発生装置４０(図３に示す)から供給された蒸気は、図面上側(背面側)の蒸気供給口９５Ａ,９５Ｂ,９５Ｃを通って図面下側(前面側)に向かって皿形ケース５１内に流れ込む。そして、例えば蒸気供給口９５Ｂから流入した蒸気の流れＲ１に着目すると、皿形ケース５１の凹部５１aのＲ部１０７近傍で、第４側壁９３Ａ側と第５側壁９３Ｂ側に分岐して分岐流Ｒ２Ａ,Ｒ２Ｂとなる。そして、上記分岐流Ｒ２Ａの一部は、第４側壁９３Ａに沿って側方に向かって流れ、Ｒ部１０６Ａ近傍で第２側壁９２Ａに沿って流れるように向きを変え、さらに、Ｒ部１０５Ａで内側に向きを変えて再び流れＲ１に合流する。同様に、上記分岐流Ｒ２Ｂの一部は、第５側壁９３Ｂに沿って側方に向かって流れ、Ｒ部１０６Ｂ近傍で第３側壁９２Ｂに沿って流れるように向きを変え、さらに、Ｒ部１０５Ｂで内側に向きを変えて再び流れＲ１に合流する。また、他の蒸気供給口９５Ａ,９５Ｃから流入する蒸気についても、蒸気供給口９５Ｂから流入する蒸気の流れＲ１に沿って流れることになる。

こうして、皿形ケース５１の凹部５１a内の蒸気を第１,第２蒸気加熱ヒータ５２,５３で加熱することにより過熱蒸気を生成し、生成された過熱蒸気を天井蒸気吹出口５５(図３に示す)および蒸気吹出口１０１Ａ〜１０４Ａ,１０１Ｂ〜１０４Ｂから吹き出す。

上記実施形態の蒸気昇温装置５０では、皿形ケース５１の凹部５１aの平面形状を、コの字形状をなす３辺と、その３辺の両端に連なり外側に向かって屈曲するくの字形状をなす２辺とを有する略５角形としたが、皿形ケースの凹部の平面形状はこれに限らず、例えば図９(b)に示すように、コの字形状をなす３辺と、その３辺の両端に連なり外側に向かって湾曲する円弧状の外周縁を有する壁面９６とを有する形状であってもよい。

これに対して、例えば、蒸気昇温装置の皿形ケースの形状が図１０に示すような前面側かつ両側のコーナー部が鋭角である場合、図面上側(背面側)の蒸気供給口９５Ａ,９５Ｂ,９５Ｃから図面下側(前面側)に向かって皿形ケース２５１内に流れ込み、例えば蒸気供給口９５Ｂから流入した蒸気の流れＲ１１に着目すると、蒸気供給口９５Ｂの反対側で分岐して分岐流Ｒ１２Ａ,Ｒ１２Ｂとなる。このとき、鋭角なコーナー部には、蒸気溜りＳA,ＳBができ、この蒸気溜りＳA,ＳBが原因となって、皿形ケース２５１内の蒸気の温度分布が不均一になってしまう。

また、図１１(a)はこの発明の実施形態の蒸気調理器の蒸気昇温装置の放熱フィンについて説明するための図を示しており、皿形ケース５１(図７(a),(b)に示す)の第１側壁９１近傍における第１蒸気加熱ヒータ５２の第１,第２発熱部５２a-1,５２a-2の互いに平行な部分を示している。第１蒸気加熱ヒータ５２に同じ旋回方向で螺旋状の放熱フィン５６を巻きつけているので、放熱フィン５６の傾斜面は同じ方向に傾いている。このため、例えば図１１(a)に示す第１蒸気加熱ヒータ５２の第１,第２発熱部５２a-1,５２a-2の互いに平行な部分の中央を図中の上側から下側に向けて流れる蒸気に対して、放熱フィン５６の傾斜面の影響は異なることになる。しかしながら、この実施の形態では、第１蒸気加熱ヒータ５２に巻回する螺旋状の放熱フィン５６のフィンピッチを１０ｍｍとすることによって、蒸気供給口９４Ａ,９４Ｂ,９４Ｃ(図９に示す)から吹き出す蒸気の流れに対する放熱フィン５６の影響度(乱れや抵抗損失)の分布を蒸気の中心線Ｌに対して略線対称にしている。

なお、図１１(b)に示すように、図１１(a)よりもフィンピッチが広い場合の放熱フィン５７を第１蒸気加熱ヒータ５２に巻回した場合は、蒸気供給口９４Ａ,９４Ｂ,９４Ｃ(図９に示す)から吹き出す蒸気の流れに対して放熱フィン５７の影響が左右で異なってしまい、皿形ケース５１の凹部５１a内の蒸気の流れが乱れて安定せず、温度分布を均一にできなくなる。

また、図１２は上記蒸気調理器の扉を開いた状態の正面図を示しており、加熱室２０の奥の側面上部の隅に吸込口２５が配置され、加熱室２０の天井側の略中央に、複数の天井蒸気吹出口５５を有する円形の天井パネル５４を取り付けている。また、加熱室２０の左右の側面の下側に、蒸気昇温装置５０からの蒸気が吹き出す側面蒸気吹出口２２Ａ,２２Ｂを配置している。上記加熱室２０の左側に水タンク３０を配置している。

このように、上記構成の蒸気調理器によれば、皿形ケース５１の凹部５１aの平面形状およびその凹部５１a内に配置された第１蒸気加熱ヒータ５２の平面形状を、蒸気供給口９５Ａ,９５Ｂ,９５Ｃから流入する蒸気の流れの中心線Ｌに対して略線対称にすることによって、凹部５１a内の蒸気の流れに偏りができず、温度分布が均一化され、加熱室２０の天井パネル５４の天井蒸気吹出口５５から加熱室２０内に供給される蒸気の温度分布を均一にすることができる。

さらに、上記皿形ケース５１の凹部５１a内に配置された第１蒸気加熱ヒータ５２に巻回された螺旋形状の放熱フィン５６のフィンピッチを１０ｍｍ以下とすることによって、蒸気供給口９５Ａ,９５Ｂ,９５Ｃから吹き出す蒸気の流れに対する放熱フィン５６の影響度(乱れや抵抗損失)の分布を上記中心線Ｌに対して略線対称に分布させることができ、凹部５１a内の蒸気の温度分布がより均一化され、加熱室２０の天井パネル５４の天井蒸気吹出口５５から加熱室２０内に供給される蒸気の温度分布を均一にすることができる。したがって、加熱室２０内の温度分布を均一にでき、加熱ムラのない調理が行うことができる。

また、上記皿形ケース５１の凹部５１aの中心線Ｌを挟んで対向する第２,第３側壁９２Ａ,９２Ｂかつ蒸気供給口９５Ａ,９５Ｂ,９５Ｃと反対の側に蒸気吹出口１０１Ａ〜１０４Ａ,１０１Ｂ〜１０４Ｂを設けると共に、その蒸気吹出口１０１Ａ〜１０４Ａ,１０１Ｂ〜１０４Ｂを上記中心線Ｌに対して略線対称に凹部５１a内に配置することによって、凹部５１a内から蒸気吹出口１０１Ａ〜１０４Ａ,１０１Ｂ〜１０４Ｂを介して左右の側方に向かって吹き出す蒸気の量や流速および温度の分布を均一にできるので、蒸気供給通路２３(図３に示す)を介して加熱室２０内に側方から供給する蒸気の温度分布の偏りを低減でき、加熱室２０内の温度分布をより均一にできる。

なお、上記皿形ケースの凹部の平面形状およびヒータ５の平面形状が略線対称でなくとも、皿形ケースの凹部の蒸気供給口が設けられた側壁に隣接する両側壁かつその両側壁の上記蒸気供給口と反対の側に、加熱室内に側方から蒸気を供給するための複数の蒸気吹出口を設けることにより、凹部内から複数の蒸気吹出口を介して両側外向に向かって吹き出す蒸気の温度分布を均一にすることができる。

また、上記皿形ケース５１の凹部５１aの第４,第５側壁９３Ａ,９３Ｂが、蒸気供給口９５Ａ,９５Ｂ,９５Ｃから流入する蒸気の流れの中心線Ｌに略直角な平面に対して傾斜しているので、凹部５１a内に流入した蒸気が、第４,第５側壁９３Ａ,９３Ｂにぶつかって左右に分かれるときに、蒸気の分流をスムーズにして、温度分布ムラを生じさせる蒸気溜り等の発生を抑制して、凹部５１a内を流れる蒸気の温度分布をより均一にできる。

また、上記皿形ケース５１の略５角形の凹部５１aにおいて、コの字形状をなす３辺の両端に連なり外側に向かって屈曲するくの字形状をなす２辺が、上記中心線Ｌに略直角な平面に対して傾斜する第４,第５側壁９３Ａ,９３Ｂとなる。これにより、上記中心線Ｌに対して略線対称な平面形状の皿形ケース５１の凹部５１a内に流入した蒸気が、第４,第５側壁９３Ａ,９３Ｂにぶつかって左右に分かれるときに、蒸気の分流をスムーズにして、温度分布ムラを生じさせる蒸気溜り等の発生を抑制して、凹部５１a内を流れる蒸気の温度分布をより均一にできる。

なお、図９(b)に示すように、上記皿形ケース５１の凹部５１aの平面形状を、コの字形状をなす３辺と、その３辺の両端に連なり外側に向かって湾曲する円弧状の外周縁とを有する形にしてもよい。この場合、湾曲する円弧状の外周縁が上記中心線Ｌに略直角な平面に対して傾斜する壁面９６となる。これにより、上記蒸気供給口９５Ａ,９５Ｂ,９５Ｃから凹部５１a内に流入した蒸気が、円弧状の外周縁を有する壁面９６にぶつかって左右に分かれるときに、蒸気の分流をスムーズにして、温度分布ムラを生じさせる蒸気溜り等の発生を抑制して、凹部５１a内を流れる蒸気の温度分布をより均一にできる。

さらに、上記皿形ケース５１の凹部５１aのコーナー部に、隣り合う側壁同士がなだらかに連なるように湾曲面を有するＲ部１０５Ａ,１０５Ｂ,１０６Ａ,１０６Ｂ,１０７を設けることによって、凹部５１a内に流入した蒸気が凹部５１aの側面に沿ってスムーズに流れる。したがって、凹部５１a内の蒸気の流れが安定し、凹部５１a内を流れる蒸気の温度分布をより均一にすることができる。

また、図７(a)に示すように、上記皿形ケース５１の凹部５１a内に配置された第１蒸気加熱ヒータ５２の第１〜第３発熱部５２a-1〜５２a-3および第１,第２非発熱部５２b,５２cの一部に放熱フィン５６を巻回することによって、第１蒸気加熱ヒータ５２の第１,第２発熱部５２a-1,５２a-2側から第１,第２非発熱部５２b,５２c側に伝わる熱を、第１,第２非発熱部５２b,５２c側の放熱フィン５６を介して放熱するので、第１蒸気加熱ヒータ５２の第１,第２非発熱部５２b,５２cが過熱により高温になるのを防いで、電気配線が接続される側の第１蒸気加熱ヒータ５２の非発熱部５２b,５２cの温度上昇を低減でき、高い信頼性を得ることができる。

また、上記第１蒸気加熱ヒータ５２の第１,第２発熱部５２a-1,５２a-2と第１,第２非発熱部５２b,５２cとの接続部近傍が、蒸気供給口９５Ａ,９５Ｃから流入する蒸気が直接当たる位置に配置されているので、第１蒸気加熱ヒータ５２により昇温された蒸気の温度に比べて低温の蒸気が蒸気供給口９５Ａ,９５Ｃから第１蒸気加熱ヒータ５２の第１,第２発熱部５２a-1,５２a-2と第１,第２非発熱部５２b,５２cとの接続部近傍に供給される。したがって、低温の蒸気により第１蒸気加熱ヒータ５２の第１,第２発熱部５２a-1,５２a-2から第１,第２非発熱部５２b,５２cに伝わる熱を、第１,第２非発熱部５２b,５２c側の放熱フィン５６を介して放熱することができ、電気配線が接続される側の非発熱部５２b,５２cの温度上昇を効果的に低減することができる。なお、上記第１蒸気加熱ヒータの第１,第２発熱部と第１,第２非発熱部との接続部が、蒸気供給口から流入する蒸気が直接当たる位置に配置されていてもよい。

また、大電力の第１蒸気加熱ヒータ５２と小電力の第２蒸気加熱ヒータ５３のうち、大電力の第１蒸気加熱ヒータ５２の第１〜第３発熱部５２a-1〜５２a-3および第１,第２非発熱部５２b,５２cの一部に放熱フィン５６を設けることによって、発熱量の大きい第１蒸気加熱ヒータ５２の第１,第２発熱部５２a-1,５２a-2から第１,第２非発熱部５２b,５２cに伝わる熱を、第１,第２非発熱部５２b,５２c側の放熱フィン５６を介して放熱することができ、電気配線が接続される側のヒータの非発熱部の温度上昇をより効果的に低減できる。

さらに、上記蒸気昇温装置５０の皿形ケース５１の凹部５１a内に、蒸気供給口９５Ａ,９５Ｂ,９５Ｃ近傍の空間の単位体積あたりの発熱密度が高くなるように第１,第２蒸気加熱ヒータ５２,５３を配置することによって、蒸気供給口９５Ａ,９５Ｂ,９５Ｃから流入するい温度の蒸気が単位体積あたりの発熱密度が高い領域の第１,第２蒸気加熱ヒータ５２,５３の部分に当たって加熱され、皿形ケース５１の凹部５１a内全体の温度分布が均一化されて、加熱室２０の天井蒸気吹出口５５から加熱室２０内に供給される蒸気の温度分布を均一にすることができる。したがって、加熱室２０内の温度分布を均一にでき、加熱ムラのない調理ができる。

また、単位表面積あたりの電力密度が異なる第１,第２蒸気加熱ヒータ５２,５３のうちの単位表面積あたりの電力密度が高い第２蒸気加熱ヒータ５３を蒸気供給口９５Ａ,９５Ｂ,９５Ｃ近傍に配置することによって、蒸気供給口９５Ａ,９５Ｂ,９５Ｃから流入する低い温度の蒸気が単位表面積あたりの電力密度が高い第２蒸気加熱ヒータ５３により加熱されるので、蒸気の温度上昇の立ち上がりを早くでき、調理時間を短縮化が図れると共に、皿形ケース５１の凹部５１a内全体の温度分布をより効果的に均一化できる。

また、単位表面積あたりの電力密度が異なりかつ蒸気供給口９５Ａ,９５Ｂ,９５Ｃから流入する蒸気の流れの中心線Ｌに対して略線対称な平面形状をしている第１,第２蒸気加熱ヒータ５２,５３のうち、単位表面積あたりの電力密度が高い第２蒸気加熱ヒータ５３を内側に配置し、単位表面積あたりの電力密度が低い第１蒸気加熱ヒータ５２を外側に配置することによって、蒸気供給口９５Ａ,９５Ｂ,９５Ｃから流入する低い温度の蒸気が、内側に配置された単位表面積あたりの電力密度が高い第２蒸気加熱ヒータ５３により加熱され、その外側では単位表面積あたりの電力密度が低い第１蒸気加熱ヒータ５２により加熱されるので、皿形ケース５１の凹部５１a内全体の温度分布をより効果的に均一化できる。

また、上記蒸気供給口９５Ａ,９５Ｂ,９５Ｃから流入する蒸気の流れの中心線Ｌに対して略線対称な平面形状をしている第１,第２蒸気加熱ヒータ５２,５３を用いることによって、凹部５１a内の蒸気の流れに左右の偏りができず、皿形ケース５１の凹部５１a内全体の温度分布をより効果的に均一化できる。

また、上記中心線Ｌに略平行に所定の間隔をあけて配置された２ヶ所の第１,第２非発熱部５２b,５２cと、その第１,第２非発熱部５２b,５２cの先端に一端が夫々接続され、凹部５１a中央に向かって湾曲する略Ｕ字形状の２ヶ所の第１,第２発熱部５２a-1,５２a-2とその２ヶ所の第１,第２発熱部５２a-1,５２a-2の他端間を接続する略コの字形状の第３発熱部５２a-3とを有する第１蒸気加熱ヒータ５２は、蒸気供給口９５Ａ,９５Ｂ,９５Ｃから流入する蒸気の流れの中心線Ｌに対して略線対称な平面形状をしているので、凹部５１a内の蒸気の流れに偏りができず、皿形ケース５１の凹部５１a内全体の温度分布をより効果的に均一化できる。

また、上記実施の形態では、蒸気発生装置４０においてＵ字形状の大管径のシーズヒータである第１蒸気発生ヒータ４２Ａと、その内側に配置されたＵ字形状の小管径のシーズヒータである第２蒸気発生ヒータ４２Ｂとを有するヒータ４２を用いたが、ヒータの形状はこれに限らない。しかしながら、ポット内の底部近傍に配置された略同一水平面上のヒータであるのが好ましい。

また、上記実施の形態では、蒸気昇温装置５０に平面形状のヒータとしての第１蒸気加熱ヒータ５２(図７に示す)を用いたが、ヒータの形状はこれに限らず、蒸気供給口から流入する蒸気の流れの中心線Ｌに対して略線対称な平面形状であればよい。

例えば、図１３に示すように、皿形ケース５１の凹部５１a内に配置されたヒータ５８であってよい。このヒータ５８は、直線部５８aと、半円弧形状の湾曲部５８bと、直線部５８cと、半円弧形状の湾曲部５８dと、直線部５８eと、半円弧形状の湾曲部５８fと、直線部５８gとを有している。

上記直線部５８aの一端(非発熱部側)を、皿形ケース５１の第１側壁９１の一端近傍に挿通し、直線部５８aの他端は、第２側壁９２Ａに略平行に第４側壁９３Ａ近傍まで延びている。上記直線部５８aの他端に半円弧形状の湾曲部５８bの一端を接続し、その湾曲部５８bの他端に、直線部５８aに略平行に第１側壁９１側に延びる直線部５８cの一端を接続している。また、上記直線部５８cの他端に半円弧形状の湾曲部５８dの一端を接続し、その湾曲部５８dの他端に、上記直線部５８cに略平行に第１側壁９１と反対の側に延びる直線部５８eの一端を接続している。上記直線部５８eの他端に半円弧形状の湾曲部５８fの一端を接続し、その湾曲部５８fの他端に、第３側壁９２Ｂに略平行に延びる直線部５８gの一端を接続している。その直線部５８gの他端(非発熱部側)を第１側壁９１の他端近傍に挿通している。上記ヒータ５８は、蒸気供給口９５Ａ,９５Ｂ,９５Ｃからの蒸気の流れの中心線Ｌに対して略線対称な平面形状をしている。

図１はこの発明の実施の一形態の蒸気調理器の外観斜視図である。 図２は上記蒸気調理器の扉を開いた状態の外観斜視図である。 図３は上記蒸気調理器の構成を示す概略構成図である。 図４(a)は上記蒸気調理器の蒸気発生装置のポットの水平面図であり、図４(b)は上記ポットの側面図である。 図５(a)は上記蒸気発生装置４０の側面図であり、図５(b)は図５(a)のＶ−Ｖ線から見た断面図である。 図６は上記蒸気調理器の制御ブロック図である。 図７(a)は上記蒸気調理器の蒸気昇温装置の下側から見た平面図であり、図７(b)は上記蒸気昇温装置の蒸気供給口側から見た側面図である。 図８(a)は第２蒸気加熱ヒータのない蒸気昇温装置の下側から見た平面図であり、図８(b)は上記蒸気昇温装置の蒸気供給口側から見た側面図である。 図９(a)は上記蒸気昇温装置の蒸気の流れを示す模式図である。図９(b)は上記蒸気昇温装置の皿形ケースの他の例を示す模式図である。 図１０は他の蒸気昇温装置の蒸気の流れを示す模式図である。 図１１(a)はこの発明の実施形態の蒸気調理器の蒸気昇温装置の放熱フィンを説明するための図であり、図１１(b)は図１１(a)よりもピッチが広い場合の放熱フィンを説明するための図である。 図１２は上記蒸気調理器の扉を開いた状態の正面図である。 図１３は上記蒸気調理器の蒸気昇温装置に用いられるヒータの他の例を説明するための図である。

符号の説明

１…蒸気調理装置
１１…操作パネル
１２…扉
１３…ハンドル
１４…窓
２０…加熱室
２１…受皿
２２…側面蒸気吹出口
２３…蒸気供給通路
２４…ラック
２５…吸込口
２６…ファンケーシング
２７…放出口
２８…送風ファン
３０…水タンク
３１…第１給水パイプ
３２…第２給水パイプ
３３…第３給水パイプ
３４…第４給水パイプ
３５…ポンプ
３６…水タンク用水位センサ
３９…補助タンク
４０…蒸気発生装置
４１…ポット
４２…ヒータ
４２Ａ…第１蒸気発生ヒータ
４２Ａa…湾曲部
４２Ａb,４２Ａc…直線部
４２Ｂ…第２蒸気発生ヒータ
４２Ｂa…湾曲部
４２Ｂb,４２Ｂc…直線部
４３…水位センサ
４４…蒸気吸引エジェクタ
４７…仕切板
４８…温度センサ
５０,１５０…蒸気昇温装置
５１,１５１,２５１…皿形ケース
５１a…凹部
５２,１５２…第１蒸気加熱ヒータ
５２a-1…第１発熱部
５２a-2…第２発熱部
５２a-3…第３発熱部
５２b…第１非発熱部
５２c…第２非発熱部
５３…第２蒸気加熱ヒータ
５３a…発熱部
５３b,５３c…非発熱部
５６,５７…放熱フィン
６０…外部循環路
６１…第１パイプ
６２…第２パイプ
６３…第３パイプ
６４…放出通路
６５…排気ダクト
６６…排気口
６７…排気通路
６８…ダンパ
６９…ラジエータ
７０…排水バルブ
７１…排水パイプ
７２…排水タンク
８０…制御装置
８１…温度センサ
８２…湿度センサ
９１…第１側壁
９２Ａ…第２側壁
９２Ｂ…第３側壁
９３Ａ…第４側壁
９３Ｂ…第５側壁
９４Ａ,９４Ｂ,９４Ｃ…蒸気供給管
９５Ａ,９５Ｂ,９５Ｃ…蒸気供給口
９６…壁面
１０１Ａ〜１０４Ａ,１０１Ｂ〜１０４Ｂ…蒸気吹出口
１０５Ａ,１０５Ｂ,１０６Ａ,１０６Ｂ,１０７…Ｒ部

Claims (3)

1. 蒸気を発生する蒸気発生装置と、
   上記蒸気発生装置からの蒸気を昇温する蒸気昇温装置と、
   上記蒸気昇温装置から供給される蒸気によって被加熱物を加熱するための加熱室とを備え、
   上記蒸気昇温装置は、
   上記蒸気発生装置からの蒸気が流入する蒸気供給口が側壁に設けられた凹部を有し、上記加熱室の天井蒸気吹出口上に上記凹部の開口を下側に向けて配置された皿形ケースと、
   上記皿形ケースの凹部内に配置され、発熱部と非発熱部とを有するヒータと、
   上記ヒータの上記発熱部と、上記非発熱部の少なくとも一部とに設けられた放熱フィンとを含むことを特徴とする蒸気調理器。
2. 請求項１に記載の蒸気調理器において、
   上記ヒータの上記発熱部と上記非発熱部との接続部またはその接続部近傍が、上記蒸気供給口から流入する蒸気が直接当たる位置に配置されていることを特徴とする蒸気調理器。
3. 請求項１または２に記載の蒸気調理器において、
   上記ヒータが、大電力の第１蒸気加熱ヒータと小電力の第２蒸気加熱ヒータとを有し、
   上記放熱フィンは、上記大電力の第１蒸気加熱ヒータの発熱部と非発熱部の少なくとも一部に設けられていることを特徴とする蒸気調理器。
   

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