JP4105008B2 - レビューデータ管理システムおよびレビューデータ管理方法 - Google Patents
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Description
【説明の属する分野】
本発明は、半導体デバイスの製造工程において取得したウェハの欠陥情報および欠陥のレビュー(再調査)情報を管理するレビューデータ管理システムおよびレビューデータ管理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体デバイスは、ウェハに対して洗浄や成膜、レジストコーティング、露光、エッチングなどの一連の工程を定められた層の数だけ繰り返し行い、配線や回路素子を形成することで製造される。しかし、これらの工程は異物の混入や層膜の形成不良など、半導体デバイスの動作不良の原因となる要素を含んでいるため、製造工程の途中で必要に応じて様々な検査が実施される。
【0003】
様々な検査とは、例えばウェハ上に形成される膜のムラを検査するムラ検査、形成された膜の厚みを測定する膜厚測定検査、配線の幅を測定する線幅測定検査、ウェハ上に存在する異物の位置や大きさを検査する異物検査、形成した回路素子の電気的特性を調べる特性検査、半導体デバイスが実際に動作するかどうかを調べる回路検査などである。
【0004】
また、検査には、異物検査やムラ検査のようにウェハ全体から異常個所を発見する検査と、膜厚検査のようにウェハ上の任意の点について何らかの測定を行った結果があらかじめ設定した規格内に収まっているかどうかを調査する検査とがある。ここでは、前者の検査によって発見された異常や、後者の検査の結果、規格値から外れていた測定箇所などを総じて欠陥と呼ぶ。
【0005】
これらの検査で発見された欠陥は、各検査装置によって自動的に分類され、欠陥の種類や数からそのウェハが良品であるか不良品であるかが判定される。
【0006】
図3は、異物検査の例を示している。
【0007】
検査装置はロット301からウェハ302を取り出して検査を行う。検査の結果発見された欠陥303は、欠陥の位置やx方向の長さ、y方向の長さ、面積などの情報を元に自動的に分類され、必要があれば欠陥の画像を撮影する。
【0008】
しかしながら、発見される欠陥の中には検査装置の性能の限界や欠陥自体の特徴から、その検査装置による分類だけでなくさらに詳細な調査を行う必要がある欠陥も存在する。これらの欠陥に対するより高精細な画像の撮影や再分類を行い、欠陥を再調査する検査装置を特にレビュー装置と呼ぶ。
【0009】
図24に半導体デバイスの製造工程の例を示す。
【0010】
同図に示すように、いくつかの検査は一連の製造工程にあらかじめ組み込まれており、また、図示されていないが、一連の工程に含まれず定期的にウェハを検査する検査工程や、異常が発生した際にのみ使用する検査工程なども存在する。レビュー検査はそのいずれにも含まれ、特定の検査後に必ず実施するものと、調査すべき欠陥が発見されるたびに実施するものがある。
【0011】
近年、各検査装置を工場内のネットワークに接続し、同じネットワークに接続されたデータベースに検査結果を記録して工程制御や不良解析に利用するシステムが普及し始めている。これらのシステムでは、各システムが識別できるように、各製造工程は他の製造工程と重複しない個別のIDが与えられている。同様の理由でロット、ウェハ、ウェハ上に作成される半導体デバイスの品種などにもそれぞれ重複しないIDが与えられている。各システムは、それらのIDを用いて製造条件や検査工程での検査結果を記録し、システムのユーザは、ネットワークに接続されたシステムの端末からデータを呼び出すことが出来るようになっている。しかしながら、レビュー装置での検査結果は他の検査装置で検出された検査結果に対して実施されたものであるので、データベース上で元の検査結果と何らかの関係を持って管理できるようにデータ構造を工夫する必要が有るため、扱いが難しいといった問題があった。
【0012】
このような事情から、従来のシステムでは、同一箇所に関する検査装置による欠陥分類結果とレビュー装置による欠陥分類結果とは、データベース上の同一箇所に上書きする形で記憶されるようになっている(例えば、特許文献1参照)。
【0013】
図25は、特許文献1における処理の流れを示している。
【0014】
検査装置で得られた欠陥検出結果は、検査データとしてデータベースに送られ、登録される。レビューを実施する際には、データベースからレビュー装置に欠陥位置が送信され、これを基にレビュー装置が画像の撮影や欠陥の分類を行い、レビュー結果をデータベースに転送する。レビュー装置によって分類された内容は、その欠陥の分類としてデータベースに登録される。
【0015】
このように、特許文献1では、同一箇所に関する検査装置による欠陥分類結果とレビュー装置による欠陥分類結果とが、データベース上の同一箇所に上書きする形で記憶されている。従って、このデータベースのユーザは、データベースが最後に受け取った分類結果しか確認できないことになる。しかしながら、実際の製造工程では、複数回レビューを行い、検査装置での検査結果も含めて全ての結果を見る必要のあるケースが存在する。
【0016】
図26は、検査結果とレビュー結果の両方を見る必要のあるケースの一般的な例を示している。
【0017】
図26(a)は、検査装置が誤分類を調査するケースである。
【0018】
ここでいう誤分類とは、実際には欠陥が存在しない箇所を欠陥として検出したり、欠陥が存在していたとしても最適な分類とは異なる分類が装置内部で判定されていたりするケースを指す。誤分類が発生すると、実際には不良ではないウェハが不良として破棄される、致命的な不良を見逃してしまうなどの悪影響がある。一般的に、検査装置とレビュー装置を比較した場合、レビュー装置による分類の方が高精度である。従って、より効率よく半導体デバイスを製造するためには、検査装置によって誤分類が発生した可能性があるときには速やかにレビュー装置によって調査を行い、検査装置による分類とレビュー装置による分類の結果が異なる場合にはその発生パターンを解析して検査装置にフィードバックし分類精度を向上させることが有効である。このとき、検査結果とレビュー結果の双方のデータを蓄積し、多くの誤分類パターンを参照することで、より精度の向上をはかることができる。
【0019】
図26(b)は、レビュー工程の後に何らかの理由でロットの滞留が発生し、ある工程と次の工程との間にウェハに対して何も処理を行わない時間が発生したケースである。
【0020】
このようなケースでは、ウェハが空気に触れる時間が長くなることで表面の酸化などの変化が起こり、欠陥が成長することがある。レビュー工程1での分類結果とレビュー工程2での分類結果を比較すると滞留による欠陥の時間変化を観察でき、ウェハに対する空気の影響を検証することが出来る。
【0021】
図26(c)は、レビューを受けた欠陥がある製造工程を経た後に変化する様子を観察するケースである。
【0022】
このような場合にも、図26(b)と同様にレビュー工程1での検査結果とレビュー工程2での検査結果を比較する必要がある。これらのケースでは、特許文献1のようにレビュー元となる検査のデータに次々に上書きする手法では対応できない。
【0023】
また、特許文献1を改良した技術として、1つの欠陥に複数の分類情報を登録可能とすることで問題の解決を図っているものもある(例えば、特許文献2参照)。
【0024】
特許文献2のシステムは、レビュー装置が欠陥の画像データから欠陥の長さや面積などの特徴をレビュー元の検査装置と同様に抽出し欠陥の分類を自動的に行う機能(Automatic Defect Classification、以下ADC機能と呼ぶ)を備えていることと、データベース上で1つの欠陥情報に対し複数の分類情報を設けていることを特徴とする。
【0025】
ここで、図3を用いて特許文献2を説明する。図3は異物検査装置によって検出される欠陥情報の例である。図3中で示されているロット301のロットNoはXXX、検査されるウェハのウェハNoはXXX−AAであり、検査の工程IDおよび品種は図示されていない。
【0026】
図27は、検査結果をデータベースに記憶するための特許文献2のデータ構造を示している。
【0027】
検査装置は、検査工程IDやロットNo、ウェハNo、品種名などの工程別にウェハを識別するための情報と検出した欠陥の情報とを一緒にデータベースへ送信する。データベースは送信されたデータからウェハを識別するための情報と欠陥の特徴を記述した情報とを分離し、ウェハを識別するための情報をウェハ情報領域2701に、欠陥の座標を欠陥情報領域2702の欠陥座標領域2704に、欠陥の長さや面積、分類結果等の情報を欠陥情報領域2702のデータ領域2705にそれぞれ記憶する。検査装置が欠陥の画像を撮影した場合、画像データは同じ欠陥情報領域2702の画像領域2706に記憶される。ウェハ情報と欠陥情報とはキー2703により関連付けられ、ひとつのウェハ情報領域2701には、キー2703により欠陥数と同じ数の欠陥情報領域2702が関連つけられている。
【0028】
データベース内には、欠陥情報領域2702に対し分類情報領域を複数設けており、第1の分類情報領域2707には、検査装置から送信された欠陥座標以外の項目が欠陥情報領域2702同様にデータ領域2709に格納され、キー2708によって欠陥情報領域2702と関連付けられる。次に、同じ欠陥に対してレビュー装置から送信された欠陥の長さや面積、分類結果や画像は、第2の分類情報領域2710に格納され、キー2711によって欠陥情報領域2702と関連付けられる。このとき、分類情報領域2710に格納されたデータは同時に欠陥情報領域2702にも上書きされる。以後、再度レビューが行われた場合、別の分類情報領域に検査結果が格納されると同時に欠陥情報領域2702に同様のデータが上書きされていくので、欠陥情報領域2702を参照すれば常に最新の欠陥情報が得られ、各分類情報領域を参照すれば欠陥に複数の分類を当てはめることやレビュー履歴を得ることができる。
【0029】
【特許文献1】
特許第3255292号公報 (第15頁、第6図)
【特許文献2】
特開2001−156141号公報 (第3−5頁、第5図)
【0030】
【発明が解決しようとする課題】
上記特許文献2の第1の課題は、複数の検査結果から同一のレビュー結果を参照できないことである。
【0031】
例えば、図28に示すように、同じウェハに対して検査工程1では欠陥2801が、検査工程2では欠陥2802がそれぞれ検出されている。このように複数の検査にわたって同じ個所に異常が発生する場合、それらの欠陥は以前の製造工程による同じ原因によって継続的に発生していると考えられ、以後の製造工程でも引き続き発生し、最終的に重大な欠陥となる可能性がある。このような欠陥に対してレビューを行った場合、欠陥の情報は検査工程1および検査工程2の結果の両方から参照されるべきである。
【0032】
しかしながら、特許文献2の方法では、データベースに送られたレビュー結果は検査結果と同じ領域に記録されるため、どちらか一方からしかデータを参照することができない。また、両方の検査結果に対してレビュー結果を記録することで、双方の検査結果からレビュー結果を参照することができるが、データが2重に存在するのでデータ量が多くなるばかりでなく、データの整合性がとりにくい、同一の点を撮影したという事実がつかみ難いといった問題があった。
【0033】
また、第2の課題は、システムがレビュー工程に関する情報を持っておらず、レビューを実施した工程IDや時間を元にレビュー結果を参照できないことである。
【0034】
図21は、レビュー結果を参照する必要のあるケースを示している。
【0035】
この例では、ウェハに対しレビュー工程1にて検査工程1の結果についての再調査を行い、製造工程2、検査工程2および検査工程3にて製造処理が実施されている。このウェハに対し、後に不良解析などで検査工程3の欠陥を調査している際に表面の画像を参照したい場合、工程が比較的に近いレビュー工程1での欠陥画像を参照することは非常に有効である。しかし、特許文献2では、システムはレビュー点に関する情報のみをレビュー元となった欠陥の情報として記録するため、レビューを行った工程や時間に関する情報を持っておらず、レビュー工程に対して実施時間や工程IDを用いて参照することができない。レビュー工程1のデータを参照するにはレビュー元になった検査工程の情報から参照しなければならないが、製造工程に含まれているレビュー工程であっても、レビュー元検査工程の候補に当該レビュー工程と時間の離れた工程が含まれる場合や、レビューを実施しない場合がある上に、レビュー工程には一連の工程に含まれないものが存在するため、目的のレビュー情報が記録された検査工程を特定するのが難しいといった問題があった。
【0036】
また、第3の課題は、レビュー装置に膨大な機能が必要となることである。
【0037】
特許文献2では、ADC機能はレビュー装置が撮影した画像について検査装置と同様の特徴抽出をより高精度に行い、その結果を正しい値としてシステムが元々記録していた欠陥のデータに対して上書きするようになっている。従って、レビュー装置はレビュー対象となる欠陥を検査した検査装置と同等以上の欠陥解析能力が必要である。近年、半導体デバイスの複雑化や微細化が進むにつれてレビュー対象となる検査の種類や機能が増加しているが、特許文献2の方法では、レビュー装置にレビュー対象となるこれら全ての検査装置の機能と同等程度の機能を実現しなければならない。
【0038】
例えば、図5に示す線幅測定の際の検査項目の例では、測定点501の解析を行って配線部502を認識し、異なる2点の線幅1及び線幅2を計測している。しかし、図3に示す異物検査では、検出された異物についてX方向の長さxとY方向の長さyおよび異物部の面積を抽出して欠陥を分類しており、それぞれの検査で抽出される特徴の内容は明らかに異なる。
【0039】
このように、半導体デバイスの製造に用いられる検査装置は、検査の内容に特化した機能によってそれぞれ独自の欠陥情報を出力するが、検査装置を製造したメーカは複数存在するのが普通であり、欠陥の分類アルゴリズムなどが不明な事が多く、レビュー対象となる検査種類が増加した場合にはそれらが持つ分類機能を全てレビュー装置に付加することは不可能である。その結果、特許文献2の方法では、レビュー情報を扱うに際しレビュー対象となる検査装置を限定することになり、全ての検査装置に対応できないといった問題があった。
【0040】
本発明は、上記3つの課題に含まれる各種問題点を解決するために創案されたものであり、その目的は、検査工程で発見された欠陥に対するレビュー結果を有効に活用することで不良原因の特定を容易にし、半導体デバイスの生産性を向上させるレビューデータ管理システムおよびレビューデータ管理方法を提供することにある。
【0041】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明のレビューデータ管理システムは、半導体デバイスまたは液晶表示装置の製造工程における基板の欠陥を検出する検査装置と、前記欠陥の再調査であるレビュー検査を行うレビュー装置と、前記基板の情報を記憶する基板情報領域及び、前記検査装置と前記レビュー装置での検査情報を記憶する検査情報領域を有するレビューデータ管理装置と、前記検査情報を表示するレビューデータ表示装置とがネットワーク接続されてなるレビューデータ管理システムにおいて、前記レビューデータ管理装置には、前記検査工程ごとの基板の識別情報が前記基板データ領域に記憶され、検査情報である欠陥データが前記検査情報領域の欠陥データ領域に記憶され、レビュー検査におけるレビューデータが前記検査情報領域のレビューデータ領域に記憶され、レビュー検査における基板の識別情報が前記基板データ領域に記憶され、さらに、レビュー位置の判断に用いられた欠陥データとレビューデータとの関連情報が前記基板情報領域の基板リンクデータ領域および前記検査情報領域の検査リンクデータ領域に記憶されていることを特徴とする。また、本発明のレビューデータ管理方法は、半導体デバイスまたは液晶表示装置の製造工程における基板の欠陥を検出する検査工程と、前記欠陥の再調査であるレビュー検査を行うレビュー工程と、前記基板の情報を記憶する基板情報領域及び、前記検査工程と前記レビュー工程での検査情報を記憶する検査情報領域を有するレビューデータ管理装置によるレビューデータ管理工程と、前記検査情報を表示するレビューデータ表示工程とからなるレビューデータ管理方法において、前記レビューデータ管理装置によって実行される前記レビューデータ管理工程は、前記検査工程ごとの基板の識別情報を前記基板データ領域に記憶する工程と、検査情報である欠陥データを前記検査情報領域の欠陥データ領域に記憶する工程と、レビュー検査におけるレビューデータを前記検査情報領域のレビューデータ領域に記憶する工程と、レビュー検査における基板の識別情報を前記基板データ領域に記憶する工程と、レビュー位置の判断に用いられた欠陥データとレビューデータとの関連情報を前記基板情報領域の基板リンクデータ領域および前記検査情報領域の検査リンクデータ領域に記憶する工程とを含むことを特徴とする。
【0042】
この場合、前記レビュー検査における基板の識別情報は、少なくとも1以上の前記検査工程ごとの基板の識別情報と関連付けられ、前記レビューデータは、少なくとも1以上の欠陥データに関連付けされている。また、前記レビューデータ管理装置は、複数の検査工程で基板の略同一位置に欠陥が発生した場合、前記位置情報と前記複数の検査工程における検査情報とを参照してレビュー検査を行う。
【0043】
このような特徴を有する本発明によれば、レビューデータ管理装置は、検査装置での検査結果である欠陥データを欠陥データ領域に記憶し、基板の識別情報を基板データ領域に記憶する。また、レビュー装置におけるレビュー結果をレビューデータ領域に記憶し、基板の識別情報を基板データ領域に記憶する。さらに、レビュー位置の判断に用いた検査データとレビューデータとの関連を、基板リンクデータ領域および検査リンクデータ領域に記憶する。従って、検査結果に対して複数のレビュー結果を関連付けることができるため、ある検査結果に関して記述された全ての基板リンクデータおよび検査リンクデータを辿ることで、レビュー履歴を得ることができる。
【0044】
また、レビュー結果に複数の検査結果を関連付けることができるため、レビュー結果に関して記述された全ての基板リンクデータおよび検査リンクデータを辿ることで、レビュー位置の判断に用いた全ての検査結果を取得することができる。
【0045】
さらに、検査結果とレビュー結果が、欠陥データ領域およびレビューデータ領域の双方に記録されており、各工程での基板識別情報は、基板データ領域にて同様に保存されている。従って、レビュー工程の処理記録を、検査工程と関連させずに、検査工程と同様の項目をもって取得することができ、用途に応じたレビュー結果を容易に探すことができる。
【0046】
さらにまた、検査結果とレビュー結果が異なる領域に記録されるため、検査装置から出力される欠陥の項目とレビュー装置から出力される欠陥の項目とが全く異なるものであっても記録可能であり、より幅広いレビュー装置の運用が可能である。
【0047】
また、本発明によれば、前記レビューデータ表示装置は、特定の基板に対して行ったレビュー工程の履歴とそれぞれのレビュー元検査工程とを表示する。また、前記レビューデータ表示装置は、検査情報であれば検査工程とレビュー工程での判定履歴を、レビュー情報であればレビュー工程とレビュー元検査工程での判定履歴を表示する。さらに、前記レビューデータ表示装置は、少なくとも欠陥のレビュー履歴と、欠陥の位置と、欠陥の分類とを表示する。
【0048】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
【0049】
図1は、本発明のレビューデータ管理方法を実行するレビューデータ管理システム100の概略構成を示している。
【0050】
このレビューデータ管理装置101は、ネットワーク105に接続されており、検査装置102およびレビュー装置103は、ネットワーク105を介してレビューデータ管理装置101に接続されている。ここで、検査装置102は、ムラ検査装置、線幅検査装置、パターン検査装置等の各種検査装置である。
【0051】
また、ネットワーク105には、レビューデータ管理装置101に記録されたレビュー情報を表示するための端末であるレビューデータ表示装置104が接続され、製造工程内やオペレータの居室内に配置されている。なお、ネットワーク105には、各種の半導体デバイスの製造装置が接続されていても良い。
【0052】
検査装置102、レビュー装置103および図示しない半導体デバイス製造装置は、半導体製造工程の少なくとも一つに割り当てられおり、半導体ウェハが製造工程の順に各装置を通過し加工されることによって、半導体デバイスは完成される。
【0053】
検査装置102は、検査対象となる基板(以下、ウェハという。)が運ばれてくると欠陥検査を行い、ネットワーク105を通じてウェハの識別情報や検査結果をレビューデータ管理装置101に送信する。ここで送信される検査結果の内容は検査の種類ごとに異なっている。
【0054】
レビュー装置103は、レビューの実施前にネットワーク105を通じてレビューを行うウェハの識別情報やレビュー位置の判定条件などを指定して、レビューすべき欠陥の情報や座標をレビューデータ管理装置101に対して要求し、その結果をレビューデータ管理装置101から取得することができる。また、レビュー検査の実施後には、レビュー結果やレビューした画像をネットワーク105を通じてレビューデータ管理装置101に送信する。
【0055】
レビューデータ管理装置101は、検査装置102やレビュー装置103から送信されたデータを記憶するための大容量のデータベースを搭載している。データベースは、ウェハについての情報を記憶するウェハ情報領域106、個々の欠陥に関する情報を記憶する検査情報領域107、および各装置から送られた画像データを記憶する画像データ領域108を備えている。
【0056】
また、ウェハ情報領域106は、内部に処理工程ごとのウェハ情報を識別するためのウェハデータ領域109とウェハデータ間の参照関係を記憶するウェハリンクデータ領域110とを持ち、検査情報領域107は、検査種類ごとに定められた欠陥情報を記憶する欠陥データ領域111と、各レビュー装置から送られたレビュー結果を記憶するレビューデータ領域112と、欠陥データとレビューデータとの参照関係を記憶する検査リンクデータ領域113とに分けられている。これらの領域についての詳細は後述する。これらの領域を記憶するデータベースは、物理的に単一の装置に搭載する必要はなく、異なる装置に分散して配置されたデータベース上に領域を記憶しても良い。
【0057】
また、レビューデータ管理装置101は、図示されていない演算部によってレビュー装置103やレビューデータ表示装置104からの要求に対してデータの検索を行い、検索結果をレビュー装置103およびレビューデータ表示装置104に提供する。
【0058】
レビューデータ表示装置104は、オペレータの操作によってレビューデータ管理装置101に保存されたデータを検索し、その結果をレビューデータ表示装置104に備えたモニタに表示することができる。また、検査装置102からレビューデータ管理装置101へのデータ送信時にデータが破壊された場合や、検査装置102のデータ送信プログラムのミスなどが原因で、検査装置102が実際に検査した結果と異なるデータがレビューデータ管理装置101に格納された場合には、オペレータの操作によってデータの修正や削除を行うことができるようになっている。
【0059】
図2は、半導体デバイスの製造工程とレビューデータ管理システム100の処理との関係を示している。
【0060】
図2において、検査工程203においてウェハ201の検査を実施し、レビュー工程205においてレビュー検査を実施する。検査工程203およびレビュー工程205の前後に存在する3つの処理工程202、204、206は、各々0個以上の処理工程の集合であり、検査工程やレビュー工程を含んでいても良い。また、検査工程203で実施される検査の種類は任意である。
【0061】
検査工程203が終了すると、検査工程203に割り当てられた検査装置102は、レビューデータ管理装置101に対して検査結果の送信処理207を実行する。
【0062】
図3は、異物検査によって検出される欠陥の例である。
【0063】
検査装置102の1つである異物検査装置は、ウェハ上に異物303を検出すると、異物303のx方向、y方向それぞれの長さと異物部の面積とを計算し、それらの値から欠陥を分類分けする。検査装置102は、ウェハ201の検査が終了すると、ロットごとあるいはウェハごとに図4に示す検査データファイルを作成する。
【0064】
図4に示す検査データファイルのロット情報部401には、ウェハが含まれるロットを識別する情報であるロットNo、検査された工程を識別するための情報である検査ID、検査装置名、検査の工程番号、およびウェハの検査枚数が含まれる。ここで、ロットNoとは、全てのロットで重複しないように投入時に各々のロットに割り振られた番号であり、ウェハNoとは、全てのウェハで重複しないように投入時に各々のウェハに割り振られた番号である。また、検査IDとは、検査種類ごとに割り振られた番号、検査装置名とは装置ごとに割り振られた名称、工程番号は全ての製造工程で重複しないように割り振られた番号である。
【0065】
なお、検査結果をウェハ単位でレビューデータ管理装置101に送信する場合、図4に示す検査データファイル中に記述されるウェハは必ず1枚であるので、ロット情報部401の検査枚数は記述しなくても良い。
【0066】
また、ウェハ情報部402は、検査を行ったウェハと、ウェハごとの検査の内容を識別するための情報とを記述する。ここに含まれる項目は、ウェハNo、検査を開始した日時、検査を終了した日時、検査装置102が実施したウェハの良否判定、ウェハ上に検出された欠陥の数などである。レビューデータ管理装置101は、これらの値によって、検査されたウェハと検査内容を特定することができる。
【0067】
なお、上記特定がロット情報部401およびウェハ情報部402の項目よりも少なくても可能な場合は項目を減らしても良く、ロット情報部401およびウェハ情報部402の項目では特定できない場合は項目を増やしても良い。
【0068】
また、欠陥情報部403は、検査装置102によって検出された欠陥の特徴を記述している。ここには、検査装置102が欠陥ごとに割り振った欠陥番号や図3に図示される各項目、欠陥部を撮影した画像データのファイル名などが含まれる。ウェハ情報部402の後方には、欠陥の数と同数の欠陥情報部403が並んでいる。また、レビューデータ管理装置101に対するデータ送信をロットごとに行う場合には、ロット情報部401の後方に検査枚数分のウェハ情報部402とそのウェハの欠陥情報部403とが記述される。
【0069】
図5は、線幅測定検査の例を示している。図5に示すように、検査装置102が検出することのできる欠陥情報は検査種類ごとに異なるので、ウェハ情報部402および欠陥情報部403に含まれる項目は検査の種類ごとに異なる。
【0070】
図4に示す検査データファイルに記述される値は、後のレビュー工程205でレビューデータ管理装置101がレビュー装置103からレビュー元データを要求された際にレビュー位置の判定に用いる。
【0071】
検査装置102は、欠陥部の画像ファイルが存在する場合はデータファイルの範囲内で重複しないファイル名を与え、このデータファイルおよび画像データをFTP(File Transfer Protocol)などを利用してレビューデータ管理装置101に送信する。検査データファイルを受信したレビューデータ管理装置101は、検査データの格納処理208を行う。
【0072】
図6は、データベースに格納される異物検査データのデータ構造を示している。
【0073】
検査装置102から送信された検査データファイルの内容のうち、ロット情報部401およびウェハ情報部402の各項目は、レビューデータ管理装置101に備えられた大規模データベースのウェハデータ領域109の領域601に格納され、欠陥情報部403の各項目は、欠陥データ領域111の領域602に格納される。ウェハデータ601と欠陥データ602は、レビューデータ管理装置101によって与えられる他のウェハデータと重複しないウェハキー603によって関連付けられる。従って、1つのウェハデータ601には欠陥数と同数の欠陥データ602が関連付けられている。また、各欠陥データ602には、ウェハ内で重複しない欠陥キー604が与えられる。
【0074】
検査データファイルとともに送られた画像ファイルは、画像データ領域108内にウェハデータ領域109ごとに異なる場所に格納され、欠陥データ602には、格納場所を特定できるようにディレクトリなどの情報を付加して画像ファイル名が格納される。なお、欠陥データ602の項目は検査種類によって異なる。
【0075】
図7は、図5に示す線幅測定検査の例に対する欠陥データ領域を示している。検査装置メーカの違いや検査内容の違いによっては、他の検査装置102と原点座標が異なる場合があるが、レビューデータ管理装置101では検査装置102から送信された座標をそのまま記憶する。
【0076】
次に、図2に示すレビュー工程205でのレビュー元データ要求処理209について説明する。
【0077】
レビュー装置103にウェハが運ばれると、レビューを実施したい欠陥の条件を記述した図8に示すレビュー元データ要求ファイルがオペレータまたはレビュー装置103のソフトウェアによって作成され、レビューデータ管理装置101へ送信される。レビュー元データ要求ファイルでは、単一のウェハNoと単数または複数の検査工程102の工程番号とが指定され、指定された検査工程102で同一個所付近に欠陥が発見された個所が、レビューデータ管理装置101によってレビューすべき個所と判定される。レビュー元データ要求ファイルで指定する項目について、1つの工程番号に複数の検査が含まれている場合は、工程番号とともに検査IDを指定しても良い。また、工程番号の代わりにレビュー装置103のオペレータが分かりやすいような他の項目を用いて条件を指定しても良い。
【0078】
図9に示すウェハXXX−AAに対してすでに異物検査工程(工程番号1000)および線幅測定検査工程(工程番号2000)が実施されており、異物検査工程と線幅測定検査工程のそれぞれにおいて同じ位置で発見された欠陥に対するレビューを実施したい場合、レビュー元データ要求ファイルは符号901で示されるような構成とする。
【0079】
レビューデータ管理装置101は、図8に示すレビュー元データ要求ファイルを受信すると、レビュー元データ判定処理210を実施する。即ち、ウェハNo部801に記述されたウェハについて、工程番号部802に列記された工程番号に関する欠陥位置を検索し、工程番号部802の第2番目以降に指定された全ての工程で、第1番目に指定された工程での欠陥位置と同一の箇所に欠陥が存在する個所を、レビューすべき個所と判断し抽出する。このとき、欠陥座標の原点が互いに異なる場合は、図10に示す座標変換を行って欠陥座標の比較を行う。
【0080】
図10(a)は、座標変換を行う前の各工程1000,2000での欠陥位置であり、工程番号1000の異物検査では座標(x1,y1)に、工程番号2000の線幅測定検査では座標(x2,y2)にそれぞれ欠陥が発見されている。しかしながら、各検査装置の原点座標が異なるのでそのままでは欠陥位置の比較を行うことができない。そこで、レビューデータ管理装置101内に用意された図示しない設定データ領域に記憶された図10(b)に例示する座標変換テーブルを用いて座標原点を統一した上で欠陥位置の比較を行う。
【0081】
図10(b)は、異物検査の結果を基準に線幅測定検査の欠陥を比較する場合、線幅測定検査で発見された欠陥の座標値に対して(−x0,−y0)を加算することによって、図10(c)に示すように異物検査と同じ原点座標に変換できることを表している。ただし、各欠陥は非常に微細な精度で位置を検出しているため、欠陥位置が完全に一致することは稀である。
【0082】
そこで、レビューデータ管理装置101内の図示しない設定データ領域内に許容範囲rをあらかじめ記憶しておき、基準となる欠陥位置からの距離がr以内の欠陥を同一箇所の欠陥と判断する。即ち、図10(c)において、下記条件
【0083】
【数1】
【0084】
を満たす場合に欠陥1001と欠陥1002は同一箇所の欠陥と判断される。
【0085】
距離rは装置の組み合わせによって変更しても良く、距離rの値がはっきりと定まらない場合や、半導体デバイスの品種や製造工程での処理条件などの要因で距離rを頻繁に変更する必要がある場合は、距離rの値を図8に示すレビュー元データ要求ファイル中で指定しても良い。また、欠陥間の距離の比較には、マハラノビス距離等のユークリッド距離以外の距離尺度を用いても良い。
【0086】
レビューデータ管理装置101は、図8に示したレビュー元データ要求ファイルに対する提供データが全て用意できると、レビュー元データファイル作成処理211を行う。
【0087】
図11に示すレビュー元データファイルは、検査情報部1101と欠陥情報部1102とで構成される。
【0088】
検査情報部1101は、レビュー元データ要求ファイル802で指定した工程のウェハデータに対応するウェハキーの列挙と、原点座標のオフセット量で構成される。ウェハキーは、レビュー元データ判定処理210での判定がどの検査情報に基づいているかを示す。原点座標のオフセット量は、図8に示すレビュー元データ要求ファイルで第1に指定された検査工程で検査を実施した検査装置102の原点座標と、図8に示すレビュー元データ要求ファイルを送信したレビュー装置103の原点座標のずれ量とを示し、各検査装置102と各レビュー装置103の組み合わせごとにレビューデータ管理装置101の図示しない設定データ領域内で管理される。
【0089】
欠陥情報部1102は、処理210でレビューすべき個所と判断された位置を示し、欠陥キーの列挙と欠陥位置の座標で構成される。検査情報部1101で記述される個所を判定する際に用いた欠陥データは、n番目のウェハキーとn番目の欠陥キーの組み合わせで特定することができる。また、欠陥位置の座標は、図8に示すレビュー元データ要求ファイルで第1に指定された検査工程で発見された欠陥の座標を記述する。検査情報部1101の後方には、処理210によってレビューすべき個所と判定された個所と同数の欠陥情報部1102が存在する。
【0090】
なお、検査情報部1101および欠陥情報部1102には、レビュー装置103においてさらにレビュー個所を絞り込むための判断材料として、各検査工程102での検査情報を含んでも良い。また、ウェハキーおよび欠陥キーを直接記述せず、ロットNoやウェハNoなどのウェハキーを特定できる項目を記述しても良い。さらに、原点オフセット量を各欠陥座標にあらかじめ加え、レビュー元データから原点オフセット量の項目を削除しても良い。
【0091】
次に、図2に示すレビュー処理212について説明する。
【0092】
通常、レビュー装置は、図12に示すようにウェハのある個所を撮影して、欠陥に対する再分類やウェハの再判定を行う。
【0093】
図11に示すレビュー元データファイルを受け取ったレビュー装置103は、オペレータまたは装置内のプログラムの判断によって、レビュー元データファイルに記述された欠陥データ1102のいずれかまたは全てについてのレビューを実施し、レビューを実施したロット単位またはウェハ単位で図13に示すレビューデータファイルを作成する。
【0094】
図13において、ロット情報部1301は検査データのロット情報部401と同様である。ウェハ情報部1302は、検査データのウェハ情報部402に対してレビュー元ウェハキーが追加されており、レビュー元データの検査情報部1101に記述されるウェハキーがそのまま列挙される。レビュー情報部1303は、レビューを実施した個所数と同数存在し、そのレビュー座標は、レビュー元データの検査情報部1101に記述される原点オフセット量と欠陥情報部1102に記述される欠陥位置とを足し合わせた座標を基準として、レビュー装置103によってより適した画像を撮影するために微調整を加えたものである。また、レビュー元欠陥キーには、図11に示すレビュー元データファイルに記述される欠陥キーをそのまま列挙する。
【0095】
レビュー処理212が終わると、レビュー装置103は、図13に示すレビューデータをレビュー個所の画像データとともにレビューデータ管理装置101に送信する。なお、レビュー装置のオペレータまたはコンピュータが、レビューデータと特定のレビュー元検査データのみを関連付ける必要があると判断した場合、ウェハ情報部1302に列挙するレビュー元ウェハキーとレビュー情報部1303に列挙するレビュー元欠陥キーとは、関連付けを行うレビュー元検査データのウェハキーおよび欠陥キーのみであっても良い。
【0096】
レビューデータを受信したレビューデータ管理装置101は、レビューデータ登録処理213を実施する。
【0097】
図14は、データベースに格納されるレビュー欠陥データの構造を示す。
【0098】
レビュー装置103から送信された図13に示すレビューデータファイルの内容のうち、ロット情報部1301およびウェハ情報部1302の各項目は、レビューデータ管理装置101に備えられた大規模データベースのウェハデータ領域109の領域1401に格納される。図6に示すウェハデータ601と図14に示すウェハデータ1401は、項目の呼称が異なる個所があるが内容的には同じであり、同じウェハデータ領域109に格納される。レビュー情報部1303の各項目は、レビューデータ領域112の領域1402に格納される。
【0099】
ウェハデータ1401とレビューデータ1402はレビューデータ管理装置101によって与えられる他のウェハデータと重複しないウェハキー1403によって関連付けられる。従って、1つのウェハデータ1401にはレビュー回数と同数のレビューデータ1402が関連付けられている。また、各レビューデータ1402には、ウェハ内で重複しないレビューキー1404が与えられる。レビューデータファイルとともに送られた画像ファイルは画像データ領域108に格納され、レビューデータ1402には格納場所を特定できるようにディレクトリなどの情報を付加して画像ファイル名が格納される。
【0100】
最後に、レビューデータ管理装置101において、リンク作成処理214によって図15に示す検査データのウェハデータ領域1502とレビューデータのウェハデータ領域1503との関連付けを行う。ウェハリンク領域1501は、レビュー元となった検査データのウェハデータ領域601とレビューデータのウェハデータ領域1401との関連を格納する領域である。
【0101】
以下に、図13に示すレビューデータファイルを用いて関連付けを行う方法について説明する。
【0102】
図2に示す登録処理213において、図13に示すレビューデータが登録されると、レビューデータ管理装置101は、ウェハ情報部1302に記述されるレビュー元ウェハキーの個数と同数のウェハリンク領域1501を、ウェハ情報領域106のウェハリンクデータ領域110に作成する。各々のウェハリンク領域1501の検査ウェハキーには、ウェハ情報部1302に記述される各レビュー元ウェハキーが個別に格納され、全てのレビューウェハキーには、レビューデータのウェハキー1403が格納される。従って、リンク作成処理214で作成されたそれぞれのウェハリンク領域1501に格納された検査ウェハキーが示すレビュー元ウェハデータ領域1502は、ウェハ情報部1302に記述されたレビュー元ウェハキーのいずれかを割り当てられたウェハデータ領域601であり、リンク作成処理214で作成された全てのウェハリンク領域1501のレビューウェハキーが示すレビューウェハ領域1503は、同一のレビューデータのウェハデータ領域1401である。
【0103】
このようにして、ウェハリンク領域1501に格納された2つのウェハキーによって、ある単一の工程でのレビューデータのウェハデータ領域1401とレビュー元データ判定処理210で用いられた検査データのウェハデータ領域601とが関連付けられる。
【0104】
ここで、レビュー元ウェハデータ領域1502とウェハリンク領域1501との関係について考えると、あるレビュー元ウェハデータ領域1502であるところのウェハデータ領域601は、その検査がレビューされた回数と同数のウェハリンクデータ領域1501の検査ウェハキーによって、それぞれのレビュー結果を示すウェハデータ領域1401と関連付けられる。レビューウェハデータ領域1503についても同様に、レビュー元検査数分のウェハリンクデータ領域と関連付けられる。
【0105】
また、レビューを実施した各欠陥とレビュー元検査の欠陥についても、図16に示す関連付けを行う。即ち、図13に示すレビューデータファイルでレビュー情報1303に記述されている各々のレビュー箇所について、レビュー元欠陥キーとして列挙された欠陥キーの合計数と同じ数の欠陥リンク領域1601が検査リンクデータ領域113に作成される。n番目の欠陥リンク領域1601の検査ウェハキーおよび検査欠陥キーには、ウェハ情報部1302のレビュー元ウェハキーでn番目に列挙されたウェハキーnとレビュー情報部1303のレビュー元欠陥キーでn番目に列挙された欠陥キーnとがそれぞれ格納される。従って、これら2つのキーによって関連付けられる欠陥データ領域1602は、図13に示すレビューデータファイルで記述されたウェハ情報部1302のレビュー元ウェハキーnとレビュー情報部1303のレビュー元欠陥キーnとが割り当てられた欠陥データ領域602である。
【0106】
全ての欠陥リンク領域1601のレビューウェハキーおよびレビュー欠陥キーには、レビューデータを記録したウェハデータ領域1401のウェハキー1403とレビューデータ領域1402のレビューキー1404とが記憶される。この結果、1つの検査リンクデータ領域1601にはこれら二組のキーによって欠陥データ領域1602であるところの欠陥データ領域602とレビューデータ領域1603であるところのレビューデータ領域1402とが関連付けられる。従って、ある1つの欠陥データ領域1602について考えると、欠陥データ領域1602であるところのレビュー元欠陥データ領域602は、その検査がレビューされた回数と同数の欠陥リンク領域1601に記憶されたこれら二組のキーによって、それぞれのレビュー結果を示すレビューデータ領域1603であるところのレビューデータ領域1402と関連付けられる。レビューデータ領域1603についても同様に、レビュー元検査数分の検査リンクデータ領域1601と関連付けられる。
【0107】
以上のように、レビュー結果を検査結果と同様のウェハデータ領域を用いて記憶することで、独立した工程としてレビュー結果を扱うことができる。このとき、検査装置102で発見された各欠陥とレビュー位置とは異なる領域に格納されるので、検査装置102から出力される欠陥データの項目とレビュー装置103から出力されるレビューデータの項目とが異なっていても良い。さらに、リンク情報領域を介することで1つの検査結果から複数のレビュー結果への参照や、逆に1つのレビュー結果から複数の検査結果への参照を、ウェハ単位と欠陥データ単位の両方で行うことが出来る。
【0108】
図17は、図9に示すレビューを実施した際に作成されるデータ構造を示している。
【0109】
異物検査工程(工程番号1000)でのウェハ情報はウェハデータ領域1701に、線幅測定検査工程(工程番号2000)でのウェハ情報はウェハデータ領域1702にそれぞれ格納されている。また、レビュー工程1でのウェハ情報はウェハデータ領域1703に格納されている。ここで、レビュー工程1の工程番号を3000としている。
【0110】
ウェハデータ領域1701はウェハリンク領域1704によって、ウェハデータ領域1702はウェハリンク領域1705によってそれぞれウェハデータ領域1703と関連付けられており、ウェハデータ領域1703は2つのウェハデータ領域1701およびウェハデータ領域1702に関連付けられる。
【0111】
このデータ構造を検査側のウェハデータ領域1701および1702から辿ることで、異物検査工程および線幅測定検査工程の結果はレビュー工程1でレビューされたことがわかり、レビュー工程1のウェハデータ領域1703からリンクを辿ることで、レビューが異物検査工程と線幅測定検査工程での検査結果を元に実施されたことがわかる。各欠陥データおよびレビューデータについても同様の関係を導くことが出来る。
【0112】
図18は、レビューデータ表示装置104を用いて検査結果からレビュー結果を取得するときの手順を示している。
【0113】
まず、ステップS1801では、レビューデータ表示装置104を用いてロットNoやウェハNo、工程番号など、オペレータがわかりやすいキーワードを指定し、レビューデータ管理装置101に送信する。レビューデータ管理装置101では、それらのキーワードを用いてウェハ情報領域106のウェハデータ領域109から検査結果のウェハデータを検索する。
【0114】
次に、ステップS1802では、そのウェハデータに記憶されているウェハキーK1を取得し、次のステップS1803で、ウェハリンクデータ領域110から、検査ウェハキーにK1と同じ値が記憶されているウェハリンクデータを全て取得する。ここで取得されるウェハリンクデータ数が、その検査がレビューされた回数となる。
【0115】
次のステップS1804では、各ウェハリンクデータについてレビュー元ウェハキーK2を取得し、最後のステップS1805で、それぞれのウェハキーK2について、ウェハ情報領域106のウェハデータ領域109からウェハキーK2を持つウェハデータを検索することで、レビュー結果を全て取得する。これらの手順により、ある検査工程に対して実施された全てのレビュー工程の情報を得ることができる。
レビューに関するウェハデータも、検査に関するウェハデータと同様の構造になっているため、図18と同様の手順でレビュー結果からそのレビュー元となった検査のデータを取得することができる。
【0116】
図19は、レビュー結果からレビュー元検査のデータを取得する手順を示している。
【0117】
まず、ステップS1901では、ステップS1801と同様の検索キーを指定して、レビューを実施したウェハデータを検索する。
【0118】
次のステップS1902では、検索したウェハデータに記憶されているウェハキーK2を取得し、次のステップS1903で、取得したウェハキーK2が記憶されているウェハリンクデータを全て取得する。このステップS1903で取得したウェハリンクデータの数が、レビューを実施する際に用いた検査データの数を表している。
【0119】
次のステップS1904では、各ウェハリンクデータから検査ウェハキーK1を取得し、次のステップS1905で検査ウェハキーK1を持つウェハデータを取得することで、レビュー元となった検査結果を全て取得する。これらの手順により、あるレビュー工程を実施した際に、参照した全ての検査工程の情報を得ることができる。
【0120】
また、各欠陥データに対するレビューデータを取得する際には、検査情報領域107の検査リンクデータ領域113から検査ウェハキーと検査欠陥キーについて検索することで、レビュー結果を取得することができる。
【0121】
図20は、ある検査で検出された欠陥位置に対するレビュー結果を取得する手順を示している。
【0122】
まず、図18に示す手順と同様、ステップS2001およびステップS2002においてウェハキーを検索し、記憶されているウェハキーK1を取得する。
【0123】
次に、ステップS2003で、ウェハキーにK1が記憶されている全ての欠陥データを取得し、全ての欠陥データについて格納されている欠陥キーD1を取得する。
【0124】
次のステップS2004では、これらのキーが記憶されている欠陥リンクデータを全て検索し、次のステップS2005で、そこに記憶されたレビューウェハキーK2およびレビュー欠陥キーD2を取得する。これら2つのキーを用いることで、次のステップS2006において個々の欠陥リンクデータで関連付けられたレビューデータを取得する。これらの手順により、ある欠陥に対して実施された全てのレビュー結果を得ることができる。
【0125】
また、レビュー位置から欠陥情報を取得する際は、図20に示す手順を逆に辿ることで、あるレビュー結果が参照した全ての検査結果を得ることができる。
【0126】
図21は、レビューを実施されていない検査工程3の結果から検査工程3と時間が最も近いレビュー工程の結果を参照したいケースを示している。
【0127】
このようなケースは、既に製造工程が終了しているウェハのデータや不良品と判断されて破棄されたウェハのデータを不良解析などの理由で調査する際に発生する。
【0128】
図21のケースでは、検査工程3に対してはどのレビュー工程との間にもリンクデータが作成されておらず、検査工程3から各レビュー工程の結果を直接参照することはできない。しかし、検索キーとしてレビュー検査に割り当てられた検査IDをロットNoやウェハNoと同時に指定することで該当ウェハのレビュー記録一覧を取得することができるので、レビュー実施時刻が検査工程3の処理時刻に近いレビュー結果を容易に探すことができる。また、検査工程3での欠陥位置と取得したレビュー記録でのレビュー位置とを比較することで、目的にあったレビュー箇所のデータを参照することができる。
【0129】
図22および図23は、レビューデータ表示装置104での表示の一例を示している。
【0130】
図22は、ウェハ検索結果画面であり、図中の符号2201にはデータの検索条件が表示され、符号2202には検索に合致したウェハ情報の一覧が表示されている。また、符号2203には、検索が検査に関するものである場合にはその検査工程とレビュー工程での判定の履歴が表示され、検索がレビューに関するものである場合にはそのレビュー工程とレビュー元検査工程での判定履歴が表示される。
【0131】
図23は、図22で検索されたウェハの欠陥データ表示画面であり、図中の符号2301には対象のウェハに対して当該検査工程で発見された欠陥の一覧が表示される。また、符号2302には、符号2301の表示内容の中から選択された欠陥のレビュー履歴及びレビュー結果が表示される。また、符号2303には、ウェハを模した図形の各欠陥に対応する位置に、分類やレビュー履歴の有無によって異なるマークがマッピングして表示される。また、図示していないが、別ウィンドウにて各欠陥の検査工程やレビュー工程の画像データを表示することも可能である。
【0132】
上記実施の形態によれば、レビューデータ管理装置101は、検査装置102での検査結果をデータベースの欠陥データ領域111に記憶し、ウェハの識別情報をウェハデータ領域109に記憶する。また、レビュー検査103におけるレビュー結果をデータベースのレビューデータ領域112に記憶し、ウェハの識別情報をウェハデータ領域109に記憶する。さらに、レビュー位置の判断に用いた検査データとレビューデータとの関連を、ウェハリンクデータ領域110および検査リンクデータ領域113に記憶する。従って、検査結果に対して複数のレビュー結果を関連付けることができるため、ある検査結果に関して記述された全てのウェハリンクデータおよび検査リンクデータを辿ることで、検査履歴を得ることができる。
【0133】
また、レビュー結果に複数の検査結果を関連付けることができるため、レビュー結果に関して記述された全てのウェハリンクデータおよび検査リンクデータを辿ることで、レビュー位置の判断に用いた全ての検査結果を取得することができ、従来に比べてより正確にレビューと検査の関係を表すことができる。
【0134】
さらに、検査結果とレビュー結果が、異なる欠陥データ領域111およびレビューデータ領域112の双方に記録されており、各工程でのウェハ識別情報は、ウェハデータ領域109にて同様に保存されている。従って、レビュー工程の処理記録を、検査工程と関連させずに、検査工程と同様の項目をもって取得することができ、用途に応じたレビュー結果を用意に探すことができる。
【0135】
また、検査結果とレビュー結果が異なる領域に記録されるため、検査装置102から出力される欠陥の項目とレビュー装置103から出力される欠陥の項目とが全く異なるものであっても記録可能であり、より幅広いレビュー装置の運用が可能である。
【0136】
なお、上記実施形態では、本発明のレビューデータ管理システムを半導体デバイスの製造工程に適用した場合について説明しているが、半導体デバイスの製造に限定されず、例えば液晶表示装置などの製造工程にも適用可能である。また、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、発明の要旨を変えない範囲で様々な形で実施可能である。
【0137】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、レビューデータ管理装置において検査情報とレビュー情報を個別に管理し、レビュー情報がどの検査情報を元に実施されたかを示す関連付けを記憶することで、検査情報から複数のレビュー情報を参照することができる。これにより、検査結果とその検査結果に対するレビュー結果を全て表示することができる。また、上記関連付けによって、1つのレビュー情報に複数の検査情報を関連付けることができるため、複数の検査結果からレビュー位置を判断した際にはそれらの検査結果から同一のレビュー情報を参照することにより、レビュー情報とレビュー元となった検査情報との関係を容易に把握することができ、データ管理も容易に行うことができる。
【0138】
また、本発明によれば、レビューデータ管理装置内のデータベースにおいて、レビュー情報を記憶する領域と検査情報を記憶する領域とを異なる領域に用意し、それぞれのレビュー位置についてレビュー元の検査情報とレビュー情報とを関連付けることで、レビュー元検査の内容によらずにレビュー情報の項目を決定することができるので、異なる検査項目を出力する複数の検査装置についても容易に対応することができる。
【0139】
また、本発明によれば、各ウェハについて検査工程とレビュー工程の履歴を特定できる情報をレビューデータ管理装置に記憶することで、レビュー情報を検査情報と同様に検索することができ、より柔軟にレビュー情報を利用できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のレビューデータ管理システムの構成図である。
【図2】半導体デバイスの製造工程とレビューデータ管理システムとの関係を示すフローチャートである。
【図3】異物検査の例を示す説明図である。
【図4】検査データファイルの構成例を示す説明図である。
【図5】線幅測定検査における検査内容の例を示す説明図である。
【図6】異物検査データの構成例を示す説明図である。
【図7】線幅測定データの構成例を示す説明図である。
【図8】レビュー元データ要求ファイルの構成例を示す説明図である。
【図9】レビュー元データと要求ファイルの説明図である。
【図10】座標変換の方法を示す説明図である。
【図11】レビュー元データファイルの構成例を示す説明図である。
【図12】レビュー工程におけるレビュー内容の例を示す説明図である。
【図13】レビューデータファイルの構成例を示す説明図である。
【図14】レビュー欠陥データの構成例を示す説明図である。
【図15】ウェハリンク領域の構成と参照関係を示す説明図である。
【図16】欠陥リンク領域の構成と参照関係を示す説明図である。
【図17】ウェハデータの参照関係を示す説明図である。
【図18】検査情報からレビュー情報を検索する手順を示すフローチャートである。
【図19】レビュー情報から検査情報を検索する手順を示すフローチャートである。
【図20】欠陥データからレビューデータを検索する手順を示すフローチャートである。
【図21】レビュー情報の検索を必要とする用例を示す説明図である。
【図22】レビューデータのウェハ検索結果画面例を示す説明図である。
【図23】レビューデータの欠陥データ表示画面例を示す説明図である。
【図24】一般的な半導体デバイス製造工程を示す説明図である。
【図25】従来のシステム(特許文献1)の構成を示す説明図である。
【図26】従来のシステム(特許文献1)で対応できないケースを示す説明図である。
【図27】従来のシステム(特許文献2)において、検査結果をデータベースに記憶するためのデータ構造を示す説明図である。
【図28】従来のシステム(特許文献2)で対応できないケースを示す説明図である。
【符号の説明】
100 レビューデータ管理システム
101 レビューデータ管理装置
102 検査装置
103 レビュー装置
104 レビューデータ表示装置
105 ネットワーク
106 ウェハ情報領域
107 検査情報領域
108 画像データ領域
109 ウェハデータ領域
110 ウェハリンクデータ領域
111 欠陥データ領域
112 レビューデータ領域
113 検査リンクデータ領域
Claims (7)
- 半導体デバイスまたは液晶表示装置の製造工程における基板の欠陥を検出する検査装置と、前記欠陥の再調査であるレビュー検査を行うレビュー装置と、前記基板の情報を記憶する基板情報領域及び、前記検査装置と前記レビュー装置での検査情報を記憶する検査情報領域を有するレビューデータ管理装置と、前記検査情報を表示するレビューデータ表示装置とがネットワーク接続されてなるレビューデータ管理システムにおいて、
前記レビューデータ管理装置には、前記検査工程ごとの基板の識別情報が前記基板データ領域に記憶され、検査情報である欠陥データが前記検査情報領域の欠陥データ領域に記憶され、レビュー検査におけるレビューデータが前記検査情報領域のレビューデータ領域に記憶され、レビュー検査における基板の識別情報が前記基板データ領域に記憶され、さらに、レビュー位置の判断に用いられた欠陥データとレビューデータとの関連情報が前記基板情報領域の基板リンクデータ領域および前記検査情報領域の検査リンクデータ領域に記憶されていることを特徴とするレビューデータ管理システム。 - 前記レビュー検査における基板の識別情報は、少なくとも1以上の前記検査工程ごとの基板の識別情報と関連付けられ、前記レビューデータは、少なくとも1以上の欠陥データに関連付けられることを特徴とする請求項1に記載のレビューデータ管理システム。
- 前記レビューデータ管理装置は、複数の検査工程で基板の略同一位置に欠陥が発生した場合、前記位置情報と前記複数の検査工程における検査情報とを参照してレビュー検査を行うことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のレビューデータ管理システム。
- 前記レビューデータ表示装置は、特定の基板に対して行ったレビュー工程の履歴とそれぞれのレビュー元検査工程とを表示することを特徴とする請求項1に記載のレビューデータ管理システム。
- 前記レビューデータ表示装置は、検査情報であれば検査工程とレビュー工程での判定履歴を、レビュー情報であればレビュー工程とレビュー元検査工程での判定履歴を表示することを特徴とする請求項1に記載のレビューデータ管理システム。
- 前記レビューデータ表示装置は、少なくとも欠陥のレビュー履歴と、欠陥の位置と、欠陥の分類とを表示することを特徴とする請求項1に記載のレビューデータ管理システム。
- 半導体デバイスまたは液晶表示装置の製造工程における基板の欠陥を検出する検査工程と、前記欠陥の再調査であるレビュー検査を行うレビュー工程と、前記基板の情報を記憶する基板情報領域及び、前記検査工程と前記レビュー工程での検査情報を記憶する検査情報領域を有するレビューデータ管理装置によるレビューデータ管理工程と、前記検査情報を表示するレビューデータ表示工程とからなるレビューデータ管理方法において、
前記レビューデータ管理装置によって実行される前記レビューデータ管理工程は、
前記検査工程ごとの基板の識別情報を前記基板データ領域に記憶する工程と、検査情報である欠陥データを前記検査情報領域の欠陥データ領域に記憶する工程と、レビュー検査におけるレビューデータを前記検査情報領域のレビューデータ領域に記憶する工程と、レビュー検査における基板の識別情報を前記基板データ領域に記憶する工程と、レビュー位置の判断に用いられた欠陥データとレビューデータとの関連情報を前記基板情報領域の基板リンクデータ領域および前記検査情報領域の検査リンクデータ領域に記憶する工程とを含むことを特徴とするレビューデータ管理方法。
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