JP4089902B2 - 低温焼成セラミック基板の製造方法 - Google Patents
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Description
まず、グリーンシートは、ガラス粉末(例えばSr、Al、SiおよびB系ガラス/これを例えば約50重量%)と、アルミナ粉末(例えば約50重量%)とを混合した低温焼成セラミック材料に、溶剤(例えばトルエン、エタノールまたはキシレン等)およびバインダ(例えばアクリル樹脂)を加えて混練し、スラリーを作って、これを例えばドクターブレード法により薄く引き伸ばし、乾燥することにより作成する。
次に、作成したグリーンシートを、打抜き型あるいはパンチングマシーンを使用して所定の寸法角に切断し、同時に、所定位置に層間接続用のビアホールを打抜き形成する。
そして、グリーンシートの表面に例えばAgペーストあるいはCuペーストをスクリーン印刷することによって配線(導体パターン)を形成する。また、前記ビアホール用の打抜き穴に例えばAgまたはCuペーストを充填することによって層間接続を形成する。
その後、上記のようにして形成したグリーンシートを位置合わせしつつ複数枚重ねて加熱および加圧し、一体化することにより上記低温焼成セラミック基板を形成する。
このようにして形成した低温焼成セラミック基板を炉に入れ、300〜400℃程度の温度で加熱することにより基板に含まれる有機バインダを分解もしくは燃焼により放出させ脱バイを行う。そして、基板をさらに800〜1000℃程度の温度で加熱し焼成する。この焼成時には、基板内部および基板表面(表裏面)に形成された導体パターンも一緒に焼成されることとなる。
ブラスト処理後、基板表面の導体パターンに対しめっき処理を行い、その後、基板表面にチップ部品等の実装を行う。めっき処理にあたっては、上記ブラスト処理によって導体表面が金属のみでかつ平滑な面とされているから、平坦で穴のない均一なめっき膜を形成することが可能である。したがって、表面実装部品をより確実に接続し実装することが出来る。また、化学的処理による基板への損傷が生じることもない。さらに、めっき膜が平滑で光沢が良くなるから画像認識性が高められ、表面実装部品の位置決めが確実に行え、且つ容易に実装することが出来る。
Claims (2)
- 低温焼成セラミック基板の表面に、銀または銅にガラスを混合した材料により導体パターンを形成する導体パターン形成工程と、
該低温焼成セラミック基板を焼成する焼成工程と、
前記導体パターンに対しめっきを行うめっき工程と、
を含む低温焼成セラミック基板の製造方法であって、
前記めっき工程の前に、前記導体パターンを形成した低温焼成セラミック基板の表面に対しウエットブラストによるブラスト処理を施し、これにより前記導体パターンの表面に浮き出したガラスを除去する
ことを特徴とする低温焼成セラミック基板の製造方法。 - 前記ウエットブラストにおける研磨材の粒子径が100μm以下である
ことを特徴とする請求項1に記載の低温焼成セラミック基板の製造方法。
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