JP4085925B2 - Printed circuit board manufacturing method - Google Patents
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Description
本発明は、基板表面に位置決めマークを有するプリント基板の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for manufacturing a printed circuit board having a positioning mark on a substrate surface.
従来、物品表面に基準位置を指示する位置決めマークを設け、当該位置決めマークをもとに加工等を行う場合がある。一般的に、位置決めマークは、位置決めマークとその周囲部分との反射光の強度差にもとづいて光学的に認識される。 Conventionally, there is a case where a positioning mark for indicating a reference position is provided on the surface of an article, and processing or the like is performed based on the positioning mark. In general, the positioning mark is optically recognized based on the difference in intensity of reflected light between the positioning mark and the surrounding portion.
しかしながら、位置決めマークとその周囲部分とに用いた材料や色彩等によっては、位置決めマークとその周囲部分との間の反射光の強度差が小さくなり、位置決めマークを正確に認識することができないという問題がある。 However, depending on the materials and colors used for the positioning mark and its surrounding area, the difference in intensity of reflected light between the positioning mark and its surrounding area becomes small, and the positioning mark cannot be accurately recognized. There is.
本発明は上記問題点に鑑み、位置決めマークを精度良く認識できるプリント基板の製造方法を提供することを目的とする。 In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a printed circuit board capable of accurately recognizing a positioning mark.
上記目的を達成する為に請求項1に記載のプリント基板の製造方法は、絶縁基板としての熱可塑性樹脂からなる樹脂フィルムの少なくとも片面上に導体パターンを形成するパターン形成工程と、樹脂フィルム表面の所定の位置に基準位置を指示する位置決めマークを形成するマーク形成工程と、導体パターンを有する樹脂フィルムと位置決めマークを有する樹脂フィルムとを含む複数の樹脂フィルムを、位置決めマークが表層となるように積層し積層体を形成する積層工程と、熱プレス板を用いて積層体を加熱しつつ加圧することにより、樹脂フィルムを相互に接着して導体パターンが多層に配置された絶縁基板とするとともに、一面が絶縁基板の表面と面一となるように位置決めマークを絶縁基板に埋設する加熱・加圧工程と、加熱・加圧工程後に、位置決めマークよりも当該位置決めマークを取り囲む絶縁基板の周囲部における吸収率が高いレーザ光を、絶縁基板から露出された位置決めマークの少なくとも一部及び周囲部に直接的に照射して、周囲部を粗化する粗化工程と、を備えることを特徴とする。 In order to achieve the above object, a printed circuit board manufacturing method according to
このように、位置決めマークよりもプリント基板の周囲部における吸収率が高いレーザ光を用いると、周囲部を選択的に粗化させることができる。従って、周囲部とともに位置決めマークの少なくとも一部に照射することで、位置ずれや反り等の誤差が生じても周囲部全体にレーザ光を照射することができる。そして、周囲部の反射率を低減させて位置決めマークと周囲部との反射光の強度差を大きくすることができるので、プリント基板表面の位置決めマークを光学的に精度良く認識することができる。なお、レーザ光であれば、周囲部を凹状にすることも可能である。As described above, when laser light having a higher absorption rate in the peripheral portion of the printed board than the positioning mark is used, the peripheral portion can be selectively roughened. Therefore, by irradiating at least a part of the positioning mark together with the peripheral portion, the entire peripheral portion can be irradiated with laser light even if errors such as misalignment and warpage occur. And since the reflectance of a surrounding part can be reduced and the intensity difference of the reflected light of a positioning mark and a surrounding part can be enlarged, the positioning mark of a printed circuit board surface can be recognized optically accurately. In the case of laser light, the peripheral portion can be concave.
また、加熱・加圧工程後に粗化工程を実施するので、熱プレス板を用いて加熱・加圧する際に、熱プレス板によって周囲部の粗化面が押しつぶされ、粗化の効果が小さくなる恐れがない。In addition, since the roughening step is performed after the heating / pressurizing step, when the hot press plate is used for heating / pressurization, the roughened surface of the surrounding portion is crushed by the hot press plate, and the effect of the roughening is reduced. There is no fear.
請求項2に記載のように、マーク形成工程を、パターン形成工程と同一工程において実施することが好ましい。製造工程を同一とすることで、製造工程を簡素化し、製造コストを低減することができる。特に、導体パターンと位置決めマークの構成材料が同一である場合には、材料も統一でき、設備も簡素化できるのでより好ましい。
As described in
請求項3に記載のように、位置決めマークを、電気的な接続機能を提供しない領域に形成することが好ましい。レーザ光により周囲部を粗化する際、位置決めマークの近辺或いは下層に電気的な接続機能を提供する回路部(導体パターン等により構成される)を有すると、当該回路部がレーザ光の熱の影響を受ける恐れがある。従って、位置決めマークは、プリント基板において電気的な接続機能を提供しない領域に設けられることが好ましい。
As described in
また、請求項4に記載のように、粗化工程を、プリント基板表面への品番マーキングと同一工程において実施すると良い。一般的にプリント基板表面への品番マーキングは、レーザ光を用いて行われる。従って、品番マーキングと同一のレーザを粗化処理に活用することにより、製造工程を簡素化し、製造コストを低減することができる。 Further, as described in claim 4 , the roughening step may be performed in the same step as the product number marking on the printed circuit board surface. Generally, the product number marking on the surface of the printed circuit board is performed using a laser beam. Therefore, the manufacturing process can be simplified and the manufacturing cost can be reduced by using the same laser as the product number marking for the roughening process.
以下、本発明の実施の形態を図に基づいて説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
先ず、図1(a)に示すように、樹脂フィルム1の片面に導体パターン2を形成するパターン形成工程がなされる。樹脂フィルム1としては、例えばリサイクル可能な熱可塑性樹脂を用いることができ、本実施形態においては、厚さ25〜100μmの液晶ポリマー(LCP)を用いるものとする。導体パターン2は、例えば樹脂フィルム1の片面に貼着された導体箔を所望のパターンにエッチングすることにより形成される。導体箔としては、例えばAu、Ag、Cu、Alの少なくとも1種を含む低抵抗金属箔を用いることができ、本実施の形態においては安価でマイグレーションの心配のないCu箔を用いるものとする。尚、導体パターン2の形成は、導体箔のエッチング以外にも、印刷法を用いて行われても良い。
First, as shown to Fig.1 (a), the pattern formation process which forms the
ここで、本実施の形態においては、位置決めマークを形成するマーク形成工程をパターン形成工程と同一工程において実施する。尚、位置決めマークとは、プリント基板における基準位置を指示するマークであり、当該マークからの距離に基づいて部品実装や電気検査等がなされる。 Here, in the present embodiment, the mark forming process for forming the positioning mark is performed in the same process as the pattern forming process. The positioning mark is a mark that indicates a reference position on the printed circuit board, and component mounting, electrical inspection, and the like are performed based on the distance from the mark.
図1(a)に示すように、導体パターン2が形成される樹脂フィルム1表面の所定の位置に、導体パターン2と同一材料をもって同時に位置決めマーク3が形成される。従って、一度に導体パターン2と位置決めマーク3を形成することができるので、製造工程を簡素化し、製造コストを低減することができる。尚、本実施形態において、位置決めマーク3が導体パターン2と同一工程において形成される例を示したが、導体パターン2形成とは異なるタイミングで形成されても良い。また、導体パターン2と位置決めマーク3とは、異なる材料を用いて形成されても良い。異なる材料であっても、導体パターン2と位置決めマーク3を同一工程で形成することは可能である。例えば、導体パターン2と位置決めマーク3とが離れた位置に設けられる場合、一つのスクリーンに設けられた導体パターン2と位置決めマーク3に応じた夫々の領域に対して、異なるペースト及び異なるスキージを用いることにより、導体パターン2と位置決めマーク3を樹脂フィルム1表面に同時に形成しても良い。
As shown in FIG. 1A, a
導体パターン2及び位置決めマーク3の形成後、図1(a)に示すように、樹脂フィルム1に対して導体パターン2の裏面側から例えば炭酸ガスレーザを照射し、導体パターン2を底面とする有底孔のビアホール4を形成する。ビアホール4の形成には、炭酸ガスレーザ以外にもUV−YAGレーザやエキシマレーザ等を用いることが可能である。その他にもドリル加工等により機械的にビアホールを形成することも可能であるが、小径でかつ導体パターン2を傷つけないように加工することが必要とされるため、レーザによる加工法を選択することが好ましい。
After the formation of the
ビアホール4の形成が完了すると、ビアホール4内に層間接続材料である導電性ペースト5を充填する。導電性ペースト5は、Cu、Ag、Sn等の金属粒子に有機溶剤を加え、これを混練しペースト化したものである。尚、導電性ペースト5には、その他にも適宜低融点ガラスフリットや有機樹脂、或いは無機フィラーを添加混合しても良い。この、導電性ペースト5は、図示されないスクリーン印刷機やディスペンサ等を用いてビアホール4内に充填される。以上の工程により、樹脂フィルム1の片面に導体パターン2及び位置決めマーク3を有する第1の片面導体パターンフィルム10が形成される。
When the formation of the via hole 4 is completed, the via hole 4 is filled with a
また、第1の片面導体パターンフィルム10の形成と並行して、図1(b)に示す第2の片面導体パターンフィルム11の形成も実施される。第2の片面導体パターンフィルム11は、第1の片面導体パターンフィルム10と同一の材料を用いて形成され、樹脂フィルム1の表面に位置決めマーク3を有さないものである。従って、マーク形成工程以外は第1の片面導体パターンフィルム10の形成と同一の工程で実施される。
In parallel with the formation of the first single-sided
第1及び第2の片面導体パターンフィルム10,11の形成が完了すると、図1(c)に示すように、第1及び第2の片面導体パターンフィルム10,11を複数枚(本例では第1の片面導体パターンフィルム10を1枚と第2の片面導体パターンフィルム11を3枚)位置決めして積層し、積層体20を形成する。このとき、位置決めマーク3が積層体20の表面に露出するように、第2の片面導体パターンフィルム11が積層体20の表層に配置される。また、4枚の各片面導体パターンフィルム10,11の内、積層の中心を境にして、上の2枚は導体パターン2が形成された面が上側に、下の2枚は導体パターン2が形成された面が下側になるように積層する。尚、図1(c)においては、便宜上、各片面導体パターンフィルム10,11を離間させて図示している。
When the formation of the first and second single-sided
このように、本実施の形態では、片面導体パターンフィルム10,11のみにより多層のプリント基板を構成する。従って、製造設備及び製造工程を簡素化でき、製造コストの低減に寄与できる。また、プリント基板の上下両表面に導体パターン2による電極が形成されるので、高密度実装或いはプリント基板の小型化を図ることができる。それ以外にも、積層体20の一方の表面にのみ導体パターン2が露出するように積層しても良い。
Thus, in this Embodiment, a multilayer printed circuit board is comprised only by the single-sided
積層工程がなされた後、積層体20の上下両面から加熱プレス機により加熱しつつ加圧する加熱・加圧工程が実施される。そして、加熱プレス後の冷却工程を経て、図1(d)に示される多層のプリント基板30が形成される。尚、プリント基板30は、加熱プレス機により、所定の温度勾配をもって冷却されるように管理される。
After the laminating process is performed, a heating / pressurizing process is performed in which the
そして、形成されたプリント基板30において、光学的に位置決めマーク3を認識し、認識された当該位置決めマーク3を基準位置として、電気検査や部品実装等が実施される。
Then, on the formed printed
ここで、光学的な手段としては、画像処理による2値化が一般的である。本実施形態においても、画像処理により位置決めマーク3とその周囲部を256階調に2値化処理し、位置決めマーク3の認識を行うものとする。しかしながら、画像処理のような光学的な認識方法の場合、位置決めマーク3及び周囲部(樹脂フィルム1)に用いた材料,色彩等によっては、位置決めマーク3と周囲部との反射光の強度差(反射率の差)が小さくなる場合がある。この場合、位置決めマーク3と周囲部とのコントラストが不明瞭となり、位置決めマーク3を精度良く認識することができない。
Here, binarization by image processing is generally used as an optical means. Also in the present embodiment, the
そこで本実施形態においては、加熱・加圧により形成されたプリント基板30に対して、位置決めマーク3の周囲部を粗化手段を用いて粗化処理する粗化工程を実施する。図2及び図3(a),(b)を用いて以下に粗化工程を説明する。図2は粗化工程を示す断面図である。図3は、(a),(b)ともに粗化手段であるレーザ光の照射経路の一例を示す位置決めマーク3及び周囲部の平面図である。尚、周囲部とは、プリント基板30における位置決めマーク3を取り囲む部位(樹脂フィルム1により構成)を示し、その範囲は特に限定されるものではないが、光学的な認識(画像認識)において位置決めマーク3を認識するのに有効な程度の大きさ(位置決めマーク3に対する)をその範囲とすることが好ましい。例えばφ0.5mmの位置決めマーク3を中心に配置する1mm角の範囲を周囲部としても良い。
Therefore, in the present embodiment, a roughening process is performed on the printed
図2に示すように、本実施形態においては粗化手段としてレーザ光40を照射することにより、周囲部31を粗化処理する。
As shown in FIG. 2, in this embodiment, the
ここで、レーザ光40としては、周囲部31を粗化できるものであれば良く、周囲部31のみに照射されても良い。しかしながら、プリント基板30においてレーザ光40を照射する位置は、例えばプリント基板30の基板の角や位置決めピンからの図面上の距離を基準値として決定される。従って、各樹脂フィルム1の寸法ばらつき、積層工程における位置ずれ、及び加熱・加圧後の冷却時におけるプリント基板30の反り等の誤差要因により、プリント基板30毎に基準値と実際のプリント基板30における実測値との差にばらつきが生じる。この場合、基準値が周囲部31のみにレーザ光40を照射する設定であったとしても、上記誤差により、周囲部31にレーザ光40の照射されない領域(特に位置決めマーク3との境界域において)が生じたり、位置決めマーク3が粗化される恐れが有る。
Here, the
しかしながら、位置決めマーク3よりも周囲部31における吸収率が高いレーザ光40を、位置決めマーク3及び周囲部31の材料に応じて適宜選択して用いれば、周囲部31とともに位置決めマーク3に照射されたとしても、周囲部31を選択的に粗化することができる。また、そのような選択的粗化が可能なレーザ光40であれば、上記誤差が生じても、周囲部31全体にレーザ光40が照射されるように、周囲部31だけでなく位置決めマーク3にも当該レーザ光40を照射することができる。
However, if the
尚、本実施形態においては、炭酸ガスレーザ或いはNd:YAGレーザを用いるものとする。いずれのレーザも、位置決めマーク3(銅)よりも周囲部31(LCP)における吸収率が高いので、出力等のレーザ設定を、周囲部31を粗化できる設定(例えば、炭酸ガスレーザにおいて発振周波数2000Hz、スポット径φ200μm、出力0.6mJ/p)とし、照射することで周囲部31を選択的に粗化させることができる。すなわち、周囲部31の反射率が低減し、位置決めマーク3と周囲部31との反射光の強度差が大きくなるので、位置決めマーク3の認識精度が向上される。
In this embodiment, a carbon dioxide laser or an Nd: YAG laser is used. Since both lasers have a higher absorptance at the peripheral portion 31 (LCP) than the positioning mark 3 (copper), the laser settings such as the output can be set so that the
その際、レーザ光40の照射経路は特に限定されるものではない。例えば図3(a)に示すように、周囲部31とともに位置決めマーク3全体にレーザ光40が照射されるように、周囲部31の一端から対向する他端までレーザ光40を走査しても良い。また、図3(b)に示すように、周囲部31とともに位置決めマーク3の一部にレーザ光41が照射されるように、位置決めマーク3の外周に沿う方向にレーザ光40を走査しても良い。尚、図3(a),(b)は、ともに図中においてレーザ光40の照射経路を鎖線矢印で示している。
At that time, the irradiation path of the
そして、レーザ光40の照射により、周囲部31における樹脂フィルム1が焼失し、図4(a)に示すように、プリント基板30における周囲部31がプリント基板30の他の部位(基板表面)に対して凹形状なるとともに、図4(b)に示すように、凹形状となった周囲部31の底面が粗化される。尚、図4は粗化工程後の状態を説明するための図であり、(a)はプリント基板30の断面図、(b)は(a)の破線で囲まれた部分の拡大断面図である。
Then, the
このように、粗化手段としてレーザ光40をプリント基板30の周囲部31(及び位置決めマーク3)に照射することにより、周囲部31を粗化することができる。従って、粗化されることにより周囲部31の反射率が低減されるので、位置決めマーク3と周囲部31との反射光の強度差が大きくなる。すなわち、位置決めマーク3と周囲部31とのコントラストが明瞭となるので、位置決めマーク3を光学的に精度良く認識することが可能となる。
As described above, the
また、プリント基板30の製造においては、プリント基板30の表面に品番マーキングを行う工程がある。この品番マーキングは、通常レーザマーカ(例えばNd:YAGレーザ)を用いて行われる。従って、粗化処理をレーザ光40により行う場合には、品番マーキングを行う工程と同一工程として実施することもできる。この場合、製造工程を簡素化でき、設備も別途準備する必要が無いので、製造コストを低減することができる。
Further, in manufacturing the printed
尚、本実施形態において、位置決めマーク3は、プリント基板30において電気的な接続機能を提供しない領域に形成されている。レーザ光40により周囲部31を粗化する際、位置決めマーク3の近傍或いは下層に電気的な接機能を提供する回路部(導体パターン2及び層間接続材料5等からなる)を有すると、当該回路部がレーザ光40の熱の影響を受ける恐れがある。従って、図2に示すように、位置決めマーク3がプリント基板30において電気的な接続機能を提供しない領域に設けられることが好ましい。
In the present embodiment, the
また、本実施の形態において、粗化工程は加熱・加圧工程後に実施される例を示した。しかしながら、位置決めマーク3を形成するマーク形成工程後から加熱・加圧工程までの間に実施されても良い。しかしながら、加熱・加圧工程の前に粗化工程が実施される場合、加熱・加圧時に熱プレス板により周囲部31の粗化面が押しつぶされ、粗化の効果が小さくなる恐れがある。従って、粗化の効果を発揮するためには、加熱・加圧工程後に粗化工程を実施する方が良い。
Moreover, in this Embodiment, the roughening process showed the example implemented after a heating and pressurizing process. However, it may be performed after the mark forming process for forming the
また、本実施形態においては、粗化手段としてレーザ光40を照射し周囲部31を粗化する例を示した。しかしながら、粗化手段はレーザ光40に限定されるものではない。周囲部31を選択的に粗化でき、その結果周囲部31の反射率が低下して、位置決めマーク3と周囲部31との反射光の強度差が大きくなるような粗化手段であれば適用が可能である。例えば、位置決めマーク3と周囲部31とに加工差があるような機械的処理、プラズマ照射、或いは薬液の塗布等により粗化処理を行っても良い。
Moreover, in this embodiment, the example which irradiates the
以上本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態のみに限定されず、種々変更して実施する事ができる。 The preferred embodiments of the present invention have been described above. However, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made.
本実施の形態において、絶縁基板として熱可塑性樹脂である液晶ポリマー(LCP)を用いる例を示した。しかしながら、それ以外にも、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)65〜35%とポリエーテルイミド(PEI)35〜65%とからなる熱可塑性樹脂フィルムを用いても良いし、PEEK及びPEIを単独で用いても良い。更に、ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリフェニレンエーテル(PPE)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、シンジオタクチック構造を有するスチレン系樹脂等を単独で用いても良いし、或いはPEEK、PEIを含めそれぞれの内、いずれかを混合して用いても良い。要するに加熱・加圧工程において、樹脂フィルム同士の接着が可能であり、後工程であるはんだ付け等で必要な耐熱性を有する樹脂フィルムであれば好適に用いる事ができる。 In this embodiment mode, an example is shown in which a liquid crystal polymer (LCP) that is a thermoplastic resin is used as an insulating substrate. However, other than that, a thermoplastic resin film composed of 65 to 35% of polyetheretherketone (PEEK) and 35 to 65% of polyetherimide (PEI) may be used, or PEEK and PEI are used alone. May be. Furthermore, polyethersulfone (PES), polyphenylene ether (PPE), polyethylene naphthalate (PEN), styrenic resin having a syndiotactic structure, etc. may be used alone, or each of them including PEEK and PEI. Any one of them may be mixed and used. In short, in the heating / pressurizing step, resin films can be bonded to each other, and any resin film having heat resistance necessary for soldering or the like, which is a subsequent step, can be suitably used.
また、本実施の形態において、位置決めマークが銅、物品がプリント基板の樹脂フィルムからなる例を示したが、材料の構成は本例に限定されるものではない。所定の粗化手段に応じて、加工性に差があるような位置決めマークと物品を選択して組み合わせるか、若しくは所定の位置決めマークと物品の組み合わせに対して、物品を選択的に粗化可能な粗化手段を選択して使用すればよい。例えば、位置決めマークとしてガラス、物品として熱可塑性樹脂に対し、レーザ光を照射して物品(周囲部)を選択的に粗化しても良い。 In this embodiment, an example in which the positioning mark is made of copper and the article is made of a resin film of a printed board is shown. However, the material structure is not limited to this example. According to a predetermined roughening means, a positioning mark and an article having a difference in workability can be selected and combined, or an article can be selectively roughened with respect to a predetermined combination of positioning mark and article. A roughening means may be selected and used. For example, the article (peripheral portion) may be selectively roughened by irradiating a laser beam onto glass as a positioning mark and a thermoplastic resin as an article.
また、本実施の形態においては、樹脂フィルムとして、片面に導体パターンの形成された第1及び第2の片面導体パターンフィルムを積層する例を示した。しかしながら、それ以外にもコア基板を用いその上下に第1の片面導体パターンフィルム及び/又は第2の片面導体パターンフィルムを配置したり、コア基板の代わりに両面に導体パターンが形成された熱可塑性樹脂からなる加工樹脂フィルムを用いても良い。また、積層される樹脂フィルムの中には、その表面に導体パターンを有していない樹脂フィルムを含んでも良い。 Moreover, in this Embodiment, the example which laminates | stacks the 1st and 2nd single-sided conductor pattern film in which the conductor pattern was formed in the single side | surface was shown as a resin film. However, other than that, the core substrate is used, and the first single-sided conductor pattern film and / or the second single-sided conductor pattern film are arranged on the top and bottom of the core substrate, or the conductor pattern is formed on both sides instead of the core substrate. A processed resin film made of a resin may be used. Moreover, in the resin film laminated | stacked, you may include the resin film which does not have a conductor pattern on the surface.
また、本実施の形態において、ビアホール内に導電性ペースト充填する印刷法の例を示したが、それ以外にも無電解メッキ、電解メッキ、蒸着法、金属コート等を用いても良い。 In the present embodiment, an example of a printing method in which a conductive paste is filled in a via hole is shown. However, electroless plating, electrolytic plating, vapor deposition, metal coating, or the like may be used.
また、本実施の形態において、有底のビアホールを形成し、この有底ビアホールに層間接続材料である導電性ペーストを充填したが、ビアホール形成時に貫通穴を形成し、この貫通ビアホールに層間接続材料を充填するものであっても良い。 Further, in the present embodiment, a bottomed via hole is formed, and the bottomed via hole is filled with a conductive paste which is an interlayer connection material. A through hole is formed at the time of forming the via hole, and the interlayer connection material is formed in the through via hole. May be used.
また、本実施の形態において、第1及び第2の片面導体パターンフィルムを計4枚積層する例を示したが、層数が限定されるものではないことは言うまでもない。 Moreover, in this Embodiment, although the example which laminates | stacks a total of four 1st and 2nd single-sided conductor pattern films was shown, it cannot be overemphasized that the number of layers is not limited.
また、本実施の形態において、位置決めマークを有する樹脂フィルムには導体パターンも形成される例を示した。しかしながら、位置決めマークを有する樹脂フィルムには、位置決めマークのみが形成されても良い。 Moreover, in this Embodiment, the example in which a conductor pattern is also formed in the resin film which has a positioning mark was shown. However, only the positioning mark may be formed on the resin film having the positioning mark.
1・・・樹脂フィルム
2・・・導体パターン
3・・・位置決めマーク
30・・・プリント基板
31・・・周囲部
40・・・レーザ光
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記樹脂フィルム表面の所定の位置に基準位置を指示する位置決めマークを形成するマーク形成工程と、
前記導体パターンを有する樹脂フィルムと前記位置決めマークを有する樹脂フィルムとを含む複数の樹脂フィルムを、位置決めマークが表層となるように積層し積層体を形成する積層工程と、
熱プレス板を用いて前記積層体を加熱しつつ加圧することにより、前記樹脂フィルムを相互に接着して前記導体パターンが多層に配置された前記絶縁基板とするとともに、一面が前記絶縁基板の表面と面一となるように前記位置決めマークを前記絶縁基板に埋設する加熱・加圧工程と、
前記加熱・加圧工程後に、前記位置決めマークよりも当該位置決めマークを取り囲む前記絶縁基板の周囲部における吸収率が高いレーザ光を、前記絶縁基板から露出された前記位置決めマークの少なくとも一部及び前記周囲部に直接的に照射して、前記周囲部を粗化する粗化工程と、を備えることを特徴とするプリント基板の製造方法。 A pattern forming step of forming a conductor pattern on at least one surface of a resin film made of a thermoplastic resin as an insulating substrate;
A mark forming step of forming a positioning mark indicating a reference position at a predetermined position on the surface of the resin film;
A laminating step of laminating a plurality of resin films including the resin film having the conductor pattern and the resin film having the positioning mark so that the positioning mark becomes a surface layer, and forming a laminate ,
By applying pressure while heating the laminated body using a hot press plate, the resin films are bonded to each other to form the insulating substrate in which the conductor patterns are arranged in multiple layers, and one surface is the surface of the insulating substrate A heating / pressurizing step of burying the positioning mark in the insulating substrate so as to be flush with
After the heating / pressurizing step, at least a part of the positioning mark exposed from the insulating substrate and the surrounding area are irradiated with laser light having a higher absorption rate in the peripheral portion of the insulating substrate surrounding the positioning mark than the positioning mark. And a roughening step of roughening the peripheral portion by directly irradiating the portion.
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